公自転式撹拌脱泡装置『カクハンター SK-1100TV III』

PR中型量産モデルがパワーアップして新登場。真空減圧機能を搭載し、微細な気…

『カクハンター SK-1100TV III』は、材料の撹拌・脱泡を同時に行える装置です。 真空減圧機能を搭載しており、真空引きをしながら遠心脱泡が行えるため 除去が困難なサブミクロンレベルの泡まで脱泡処理することが可能。 高粘度材料にも対応できるほか、公転・自転の比率を 可変することができ、材料や条件に合わせた処理が行えます。 【特長】 ■回転数大幅UPによる強力撹拌 　当社従来機との比較で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社写真化学 草津事業所

ゴム通加工ガイド「これさえあれば、ゴムの素材を好きな形にできる」

PRゴムを好きな形にする方法を徹底解説！ゴムの素材を購入してもそのままでは…

ゴム通加工ガイド「これさえあれば、ゴムの素材を好きな形にできる」は、ゴム素材を加工することによって好きな形にする方法を解説したガイドブックです。 「ご自分でできる加工」と「プロの加工」の違いをイラストを交えながらわかりやすく解説。ゴムの素材を「切る」「削る」「穴をあける」だけでなく、「接着して形にする方法」「加工実例」も掲載しています。 また「ゴムの素材の選び方」「『ゴム通』にプロの加...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社扶桑ゴム産業 ゴム通事業部

平行光露光装置

平行光露光装置のラインナップのご案内です。

均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

両面マスクアライナー

両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能

ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

自動搬送露光装置

搬送系はローラコンベア方式でインラインとして利用可能！

ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、ソフトコンタクト露光で微細なマスクパターンを転写する露光機です。...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

FPC露光装置

フレキシブルプリント基板（FPC）の回路形成を行うための装置

ロールｔｏロールでピッチ送りしてドライフィルム上にパターンを焼き付ける製品群をラインアップさせています。 ...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

ケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、BioMEMS、Micro-Optics...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

【半導体製造装置関連】PETRAナノインプリントステッパー

ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば…

50mm角250N 0.1MPa, 75mm角0.05MPa) 平行光のLED-UV光源（365nm　Φ4インチ面積、10mJ/cm2以上） アライメント精度：　プリアライメント1μm以下(パターン検出/エッジ検出）、 精密アライメント100nm以下（モアレ検出） アライメント用精密XYステージ：可動領域120×120mm、分解能10nm以下 アライメント用精密θステージ:可動域、分解...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ライズワン