• 薬液供給装置(連続式) P112 製品画像

    薬液供給装置(連続式) P112

    PRプロセス装置に連続で薬液を供給

    本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法:W1720*D810*H2010 ○重量:約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノメイト

  • 薄膜形成や、成膜プロセスの各種問題を解決!『吐出装置』 製品画像

    薄膜形成や、成膜プロセスの各種問題を解決!『吐出装置』

    PRデッドボリュームの少ない成膜が可能! スピンコーターの代替に好適!【…

    「InkjetLabo」は、シンプル&多機能なインクジェット式吐出装置です。 この装置により、成膜プロセスで発生する以下の各種問題点が解決出来ます。  1.デッドボリュームを減らしたい!  2.コーヒーリング現象を回避したい!  3.塗布基材の形状が平面でなかったり、立体構造への塗布がしたい!  4.基板エッジに液だまり発生させたくない!  5.吐出する溶液に熱を加えたくない! ...

    メーカー・取り扱い企業: クラスターテクノロジー株式会社 本社

  • 【事業紹介】特殊アプリケーション 製品画像

    【事業紹介】特殊アプリケーション

    特別注文対応チーム!大規模生産に向けた理想的なソリューションを提供

    もはるかに高い燃焼温度と温度変動に耐えなければ なりません。 当社のTUBAはタービンに適切なシステムコンセプトです。 また、電気自動車は自動車市場においては、当社は専門知識、PVDプロセスと 製膜システムによって、バッテリーおよび燃料電池メーカーにコスト効率に優れた、 大規模生産に向けた理想的なソリューションを提供します。 【その他の事業(一部)】 ■建材およびモビリテ...

    メーカー・取り扱い企業: フォンアルデンヌジャパン株式会社

  • 【資料】高電流・高周波対応可能の高電圧コネクタソリューション 製品画像

    【資料】高電流・高周波対応可能の高電圧コネクタソリューション

    今後の更なる半導体製造装置の高機能化・省スペース化にもマッチした高電圧…

    半導体の高精度化と微細化、またその半導体を必要とする分野が急速に拡大することに伴って、現在半導体製造におけるプロセス装置は今まで以上に高電圧化が進みながら、装置自体の小型化が強く求められています。 レモコネクタは、今後の半導体製造装置の進化に対してプッシュプル・小型高電圧製品で「お客様の電圧増加・省スペース化...

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    メーカー・取り扱い企業: レモジャパン株式会社

  • イオンビーム描画装置OMFシリーズ 製品画像

    イオンビーム描画装置OMFシリーズ

    ビューラー・ライボルトオプティクス(旧OPTEG社)のイオンビーム描画…

    世界最大の真空装置・機器メーカーとして160年近い歴史を持つライボルトオプティクスは、業界のリーダーとして長年の経験を有し、高精度な光学コーティングを実現するための真空薄膜製造装置およびプロセスを提供しています。 研究開発用途から大量生産の大型設備まで様々な真空チャンバーサイズを取り揃え、お客様の多様なニーズにお応えいたします。 2018年より新たに真空中で超精密光学レンズの...

    メーカー・取り扱い企業: ビューラー株式会社

  • <微細加工の受託サービス>電子ビーム(EB)描画加工 製品画像

    <微細加工の受託サービス>電子ビーム(EB)描画加工

    フォトマスクが不要!100nm以下の超微細パターンの形成が可能です

    EB描画はその名の通り、フォトマスクを用いることなく、 デバイスパターンを直接描画するマスクレス露光技術です。 BE描画に精通したエンジニアが丁寧にヒアリングし、 必要に応じて前後のプロセスも含めて提案させていただきます。 【特長】 ■フォトマスクが不要 ■デバイスパターンの変更が容易 ■100nm以下の超微細パターンの形成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社FKDファクトリ

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