圧電単結晶---PMN-PT

30 mm x 20 mmまで製造可能

長所：分極処理操作が不要、電界の極性を問わない、歪のヒステリシスが基本的にほとんどない、歪の経時変化少ない。 PMN-PT以外には、以下の単結晶の製造可能。 lead magnesium niobate / lead titanate (PMN-PT) lithium niobate (LiNbO3 ) lithium niobate / Fe (special orders) l...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

膜厚調整トリミング装置

独自に開発したイオンソースを使用し、優れた膜厚均一性を達成します。

原理：DCベースイオンミリング 特徴： シンプルで頑丈な構造 素早い反応時間（切削量に応じて） ０エッチング可能 DCベースソース（グリッドレス、フィラメントレス）でシンプルなメンテナンス 適用例: SAWフィルターの温度補償層（SiO2）の膜厚調整、LTO,AlN膜等の膜厚調整 AlN, LTO等圧電膜の膜厚、周波数調整 その他導電体、非導電体膜の膜...

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ホロカソードエッジング方式アークイオンプレーティングシステム

TiN, CrN, TiAlN等での表面改質に最適！

ワンチャンバーにホロカソードガン、アークイオンガン、スパッタガンの3ソースを搭載し、独立成膜可能。...特徴 ●TiN, CrN, TiAlN等での表面改質に最適 ●ワンチャンバーにホロカソードガン、アークイオンガン、スパッタガンの3ソースを搭載し、独立成膜可能。研究開発用途に最適。 ●ホロカソードでの強エッジングにより界面密着力を強制的に向上させ、アークイオンもしくはスパッタで精密成膜。 ...

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圧電膜成膜装置

MEMSやFBARの生産に特化した成膜装置です。

米国AMS社スパッタ装置(圧電膜、誘電体膜、メタルスパッタ装置)は、Al膜、Mo膜をメインに、その他多くの膜において高い面内均一性を達成します。 ...原理：DC，AC（デュアルマグネトロン）スパッタリング 特徴 AlN、AlScN（圧電）膜、Mo（メタル）膜の成膜 優れた応力制御/分布 結晶性 高スループット 高歩留まり 高いメンテナンス性 200 mm　ウエハ対応 非常にコ...

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コイン型　リチウムイオン充電池

一般のリチウムイオン2次電池の1.5倍の高容量！再充電可能なリチウムイ…

(1)　特許技術、ポケッティングセパレータにより、従来製品の30％以上高い容量を実現 (2) 多種のサイズのボタン電池・コイン電池を提供 (3）低温性能とサイクルライフ共に非常に優秀。 (4）豊富な端子オプション...コイン型、カード型、ノート型の再充電可能なリチウムイオン2次電池を供給。一般的なリチウムイオン電池に比べ、エネルギー密度が30%以上高い。 例）3.2mm x 30mm の...

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大気圧プラズマ処理装置 リードフレーム向け

独自プラズマソースにて、低温で高速に処理致します。 従来では困難な試…

・低温処理　 耐熱性の低い基材でも処理が可能 ・高速処理　 最大75mm幅のリニアヘッドで高速処理が可能 ・マルチヘッド　大面積用ヘッドから、1.6ｍｍのミニビ～ムヘッド、 ハンディタイプ等、複数ヘッドが選択可能。凹凸形状にも対応 ・混合ガス 　 水素ガスを混合可能 ・樹脂、金属基材 ナイロン、ポリイミド、アルミ、チタン等 ・安定した処理：トレースアビリティがとれます。 .....

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