プラズマイオン注入成膜装置

日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です…

が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

赤外線反射防止膜用ＤＬＣコーティング装置

高い赤外線透過率をもつＤＬＣ膜をハイレートで基板両面に形成。 安定の…

独自開発高密度プラズマ源（ＰＩＧプラズマ源）を装備 自公転機構によるハイレート全面成膜機構 各種赤外線光学素子の対応した充実のソフトウェア...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

PLAD-221-Y PLDシステム

PLAD-221-Y PLDシステム

21-Y PLDシステムはNd:YAGレーザを用いたPLDです。 独自の回転式SiC基板加熱により、基板面上で850度以上の加熱が行えます。 ターゲットは20mm径を４個有し、自転および公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-271PE PLDシステム

PLAD-271PE PLDシステム

ザショット数、ターゲット切替等々）を簡易に行えます。 独自の回転式SiC基板加熱により、基板面上で850度以上の加熱が行えます。 ターゲットは20mm径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-250R PLDシステム

PLAD-250R PLDシステム

ョット数、ターゲット切替等々）を簡易に行えます。 独自のSiC式回転基板加熱により、基板面上で800度以上の加熱が行えます。 ターゲットは1 inch径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-261PG PLDシステム

PLAD-261PG PLDシステム

ショット数、ターゲット切替等々）を簡易に行えます。 独自のSiC式回転基板加熱により、基板面上で850度以上の加熱が行えます。 ターゲットは1inch径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社