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38件 - メーカー・取り扱い企業
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PR電力量計の負荷側を開閉制御する装置!遠隔制御が可能で屋外(雨線内)でも…
『URY120-T1』は、当社の電子式電力量計120Aと接続することにより、 最大120Aの大電流を開閉制御することができるリレーユニットです。 自動検針システムと組み合わせることで遠隔制御ができ、普通耐候形 電力量計と同一構造のため、屋外(雨線内)でも使用可能。 電力量計の負荷側に接続し、"横配置"または"重ね配置"で設置します。 "重ね配置"の場合、オプションの「ブラケット」が必要となりま...
メーカー・取り扱い企業: 埼広エンジニヤリング株式会社
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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル(ユニテンプジャパン株式会…
クトで設置も簡単です。 ■最大到達温度250℃ ■窒素ガスパージ可能 ■16ステップの温度プログラムが設定可能 ■対象物の熱容量を自動計算してコントロールするので、 設定通りに温度制御。繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■高い均熱性があり、加熱プレート上のどこでもムラなく加熱できます。 ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
ションMiniLab-070(450 x 450 x 450) ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・最大基板サイズ:Φ8inch ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8) ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
nch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
す。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ(バラトロンゲージ)による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, データ解析 【主仕様】 ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…
安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能) ・高真空対応(ターボ分子ポンプ) ◆オプション◆ ・フルオート自動...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…
などの設計) 4.カーボンヒータの抵抗値の設計 5.電極設計 6.冷却水系統の設計 7.給気・排気系統の設計 8.運転モード設計 9.炉内の流れの設計指針(製品品質を考慮) 10.温度制御・温度分布測定方法 カーボンヒータ加熱炉の主な仕様 (1)最高温度:2,500℃ (2)ヒータ:断熱材:カーボンヒータ/カーボン系成形断熱材 (3)炉体構造:水冷ジャケット (4)炉体...
メーカー・取り扱い企業: プロセスD&Tラボ 千葉
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神港精機の真空半田付装置に新型登場 優れた均熱性・昇降温特性と雰囲気制…
パワーデバイスモジュールの生産を支える神港精機の真空半田付装置がアップグレード。昇降温特性と均熱性能を向上させ処理寸法も拡大。従来通りの雰囲気制御性能と処理温度の高温化によって金属ペーストの焼結接合に対応。 低酸素濃度の実現と100%水素雰囲気による還元力によっての濡ペーストの酸化防止し濡れ性を大きく向上。 オプションの加熱加圧機構の追加...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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基板加熱温度最高1000℃!基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減!
チ ■反応ガス:O2 、N2 、 H2O(オプション) ■基板加熱温度:最高1000 ℃(基板表面) ■加熱源:ハロゲンランプ ■昇温レート:最大150 ℃/sec ■真空排気:DP ■制御操作 ・制御:PLC ・操作:タッチパネルまたはPC ■データロギング:外部メモリまたはPC ■基板搬送:大気搬送ロボット、冷却ステージ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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創立97年を誇るMade in Germany電気溶接機!! ヘビー…
【特長】 ◇小型で使いやすい卓上タイプからご用意あり ◇大型フラッシュバット溶接機BAS300シリーズはPLC制御による溶接から焼鈍までの一連作業を自動化 ◇多品種、多サイズを製造されても安定した作業工程、品質を実現!! ◇サーボモーター制御でにより、安定した品質で製造が可能!! ◇パイロメータで温度管理...
メーカー・取り扱い企業: 東邦インターナショナル株式会社 本社
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超高温熱処理と優れた温度均一性の実現により、ブール・インゴット、ウエハ…
熱処理があります。c.CRYSCOO HTA高温アニール炉は、ワイドバンドギャップ半導体のバルク結晶からデバイスまでのバリューチェーンにおいて生産性を大幅に改善させるために開発されました。優れた温度制御(最高温度2200℃)、均一性、低クロスコンタミネーションの実現により、c.CRYSCOO HTAは従来の炉を凌駕する最高のパフォーマンスを発揮します。10個以上のブール・インゴット、あるいは100...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…
現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理(べーく・アニール)に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に初期段階からテストを含めて対応...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…
) ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル炉) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6KVA ・冷却水:3L/min, 0.4Mp...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ボイドレス半田付のスタンダード装置。車載用パワーデバイスモジュールを支…
急速昇降温機構と厳密な雰囲気制御機構を装備、半導体ウェハプロセスで実績のガス供給機構で安定した蟻酸野供給と管理を実現。 半田付室の前後に基板搬送機構を追加。ハイスループットと高いレベルのボイドレス半田付を両立。 基板・ライン構...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
3源 ◉ 真空蒸着:抵抗加熱蒸着(最大2)、有機材料蒸着(最大4) ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギン...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…
aAs用のホットプレートタイプに比べ高温(900~1000℃)まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。 生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータ…
真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け...
メーカー・取り扱い企業: プランゼージャパン株式会社
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R&D~量産まで使用可能!3~6インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉
、超高温処理が可能で、パワーデバイス製造に適した 活性化アニール炉です。 ミニバッチ、50枚の処理が可能で、3インチ~6インチまで幅広い ウェーハサイズに対応します。 ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまで お使いいただけます。 また、活性化後の炭化除去も可能な「VF-5100」もご用意しております。 【特長】 ■ミニバッチ、50枚...
メーカー・取り扱い企業: 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部
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光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】
耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…
『PulseForge』は、独自開発の高出力キセノンランプの照射光を精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、乾燥、焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥・焼...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク
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発熱体最高使用温度:1550℃!モジュールヒーター
■□特徴□■ ■発熱体最高使用温度: 1550℃ ■炉内 最高使用温度 : 1500℃ ■急速加熱と正確な温度制御が必要な実験炉や生産炉で使用 ■形状は、シリンダータイプで径、長さはカスタマイズ可能 ■SMUが提供できる機能 ・急速な昇降温 ・正確な温度プロファイル ・長寿命 ・高出力での局部加熱...
メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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電子・半導体業界用!1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール
半導体ウェハー枚葉熱処理用ヒーターモジュール □■特徴■□ ■耐熱性に優れた断熱材と二珪化モリブデンヒーターの一体型モジュール ■小スペースに大容量の出力が可能 ■精密な温度制御が可能 ■タイプ:SWR ■直径(インチ):4・5・6・8・10 ■設置:縦もしくは横置き ■最高発熱体温度:1600度 ■出力:0.9W〜5.6kW ■少量からでも対応致します...
メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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高温高出力半円筒形ヒーターモジュール スーパータルSHC-HT
スーパータル HT (高温用半円筒型、最高炉内温度1675℃)
□特徴□ ■最高炉内温度1675度 ■急速加熱と正確な温度制御が必要な実験炉や生産炉で使用 ■形状は、ハーフシリンダータイプで径、長さはカスタマイズ可能 ■タイプ:SHC HT ■発熱部長さ:150mm ■全長:200mm ■発熱体温度:1700度 ...
メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…
真空環境、不活性ガス雰囲気下(N2, Ar etc)に対応した 卓上型のチャンバー式加熱オーブンです。 装置前面のタッチパネルディスプレイで容易に温度制御レシピを設定できます。 また、クラス1のクリーンな環境で、温度安定性の高い加熱処理を実現しました。 1×10-5 Torrの高真空に対応したモデルもあります。 (450PB-HV) 【特長...
メーカー・取り扱い企業: ハイソル株式会社
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フリーとしながらも優れた磁気特性を実現する異方性希土類鉄系焼結磁石など…
ト化、耐食性改善(幅広い応用分野へ適用可能) ■フラッシュアニール炉 ・粉末粒径数10μm~数mmの粉末を1℃/sec~100℃/secを超える昇温速度にて熱処理可能 ・構成相及び金属組織制御に寄与 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: BIZYME有限会社
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ウォームアップ/クーリングダウン時間なし。高品質な連続アニール処理が可…
■イニシャルコスト・ランニングコストがリーズナブル ■メンテナンスコストが低い ■小規模設備、低電力 ■ウォームアップ/クーリングダウン時間なし ■品質管理機能を備えたコンピュータベース制御 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…
安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能) ・高真空対応(ターボ分子ポンプ) ◆オプション◆ ・フルオート自動...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
す。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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トレイ搬送にも対応可能!優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現
φ12インチ ■反応ガス:O2、N2、H2O(オプション) ■基板加熱温度:最高1000℃(基板表面) ■加熱源:ハロゲンランプ ■昇温レート:最大150℃/sec ■真空排気:DP ■制御操作 ・制御:PLC ・操作:タッチパネルまたはPC ■データロギング:外部メモリまたはPC ■基板搬送:大気搬送ロボット・冷却ステージ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
ムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源(最大4源)、有機蒸着源(最大4源)、又はΦ2"マグネトロン(最大3基)、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライポンプオプション) ◉ グローブボックス連結仕様(*要仕様協議) ◉ 豊富なオプション:基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
ムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源(最大4源)、有機蒸着源(最大4源)、又はΦ2"マグネトロン(最大3基)、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライポンプオプション) ◉ グローブボックス連結仕様(*要仕様協議) ◉ 豊富なオプション:基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータ…
真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け...
メーカー・取り扱い企業: プランゼージャパン株式会社
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タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータ…
真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け...
メーカー・取り扱い企業: プランゼージャパン株式会社
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タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータ…
真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け...
メーカー・取り扱い企業: プランゼージャパン株式会社
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スーパータル 半円筒(ハーフシリンダー)型
■□特徴□■ ■最高炉内温度1550度 ■急速加熱と正確な温度制御が必要な実験炉や生産炉で使用 ■形状は、ハーフシリンダータイプで径、長さはカスタマイズ可能 ■タイプ:SHC ■発熱部長さ:150mm ■全長:200mm ■発熱体温度:1600度 ...
メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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