• メンブレンタイプフィルター『アンドロメダシリーズ』 製品画像

    メンブレンタイプフィルター『アンドロメダシリーズ』

    PR非対称構造で高流量・低圧損・長寿命!超純水製造にも!非対称構造のポリエ…

    『アンドロメダシリーズ』は、 非対称構造のポリエーテルサルフォンメンブレンフィルターです。 非対称構造のため空隙率が高く、高流量・低圧損・ロングライフを実現。 流出物が少なく、少量のリンスアップで非抵抗値が回復します。 超純水製造アプリケーションや、プロセス水の無菌化に適しています。 また、スチーム滅菌対応タイプもラインアップしています。 【特長】 ■高流量 ■低圧損 ...

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    メーカー・取り扱い企業: ワイエスフィルタージャパン株式会社

  • 解説資料:ただのリードスイッチとは違うベスタクトのヒミツを大公開 製品画像

    解説資料:ただのリードスイッチとは違うベスタクトのヒミツを大公開

    PRそもそもリードスイッチってなに?という基礎知識から高性能な接点「ベスタ…

    当資料は、一般的なリードスイッチと高性能な「ベスタクト」接点について、図や写真を用いて構造や活用事例、性能など分かりやすく解説した豆知識の資料になっております。 ぜひともご一読いただき、試しに使ってみたいなど「ベスタクト」内蔵の各種リレーやスイッチ、または安川パワーリードスイッチ「ベスタクト」の無料サンプルをご希望の方はお気軽にお問い合わせください。 使って初めて実感できる良さがございます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社べスタクト・ソリューションズ

  • よくわかる!ガラスマスク・スクリーンマスク・メタルマスクの基礎 製品画像

    よくわかる!ガラスマスク・スクリーンマスク・メタルマスクの基礎

    <半導体関連マスク‐基本資料公開>部署異動や転職で、はじめて各種マスク…

    メタルマスクの基本』を詳しくおまとめしています。 部署の異動や配属、転職等で新たにマスクをご使用になる方向けの資料です。ぜひ選定の際にご活用ください! 【資料掲載内容】 ◎ガラスマスク編  ・基本構造、種類、作り方  ・ペリクル付きCrガラスマスクについて  ・Emガラスマスク、Crガラスマスクについて ◎スクリーンマスク編 … 基本構造、乳剤の種類、作り方  ◎メタルマスク編 … 基本構造、種...

    メーカー・取り扱い企業: 竹田東京プロセスサービス株式会社

  • 5スワイプでわかる!フォトマスクの基本 ※基礎知識資料進呈 製品画像

    5スワイプでわかる!フォトマスクの基本 ※基礎知識資料進呈

    とりあえず、これ! たった5スワイプで理解できる!フォトマスク初心者…

    【掲載内容】 ・フォトマスクとは ・フォトマスクの種類 ・フォトマスクの構造 ・フォトマスクの作り方...

    メーカー・取り扱い企業: 竹田東京プロセスサービス株式会社

  • 【技術情報】フォトマスクとは? 製品画像

    【技術情報】フォトマスクとは?

    レーザーを光源とした最新の装置により描画されているフォトマスクです。

    00nm 以上 →ソーダライム(SL):透過率 83% / 380nm 以上 ○フィルム基板 →PET:透過率 90% / 200nm 以上 [クロム膜] ○ガラス基板上のクロム薄膜は2層構造 →1層目がピュアクロム、2層目が酸化クロム ○クロム膜の種類と構造 →クロムマスク:低反射二層クロム膜  光学濃度3.0OD, 反射率は約10%/436nm →ハードコート付きクロムマス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エクア

  • マスクレスアライナー『MLA150』 製品画像

    マスクレスアライナー『MLA150』

    0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー

    最小基板サイズ:5 mm x 5 mm 最大露光面積:6インチx 6インチ(オプションで8インチx 8インチ) 0.6μmまでの最小構造サイズ リアルタイムオートフォーカス(標準:空圧式、オプション:光学式) 前面と背面の位置合わせ(オプション:バックサイドアライメント機構) 高アスペクト比モード(超厚レジスト露光) 使いや...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • マスクレスアライナー『uMLA』(マイクロ・エム・エル・エー) 製品画像

    マスクレスアライナー『uMLA』(マイクロ・エム・エル・エー)

    テーブルトップサイズのオートフォーカス付きマスクレスアライナー

    テーブルトップシステムのマスクレスアライナー µMLAは、最先端のマスクレステクノロジーを特徴としており、微細構造を必要とする全ての研究開発領域に適したエントリーレベルの描画装置です。典型的な用途は、マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、および材料科学です。 µMLA(マイクロ・エム...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • マイクロ半田ボール配列用メタルマスク 製品画像

    マイクロ半田ボール配列用メタルマスク

    B層は基板との密着性が高く、デザインによっては更に密着性を増すことも可…

    クロ半田ボールは従来の半田ペースト印刷によるバンプ形成より、 より高密度で高さの均一性を要求される際に使われ、配列用マスク及び ブラックス印刷用にも精度が要求されます。 【特長】 ■2層構造になっている ■B層は基板との密着性が高い ■B層のデザインによっては、更に密着性を増すことも可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: アサヒテック株式会社

  • 半導体用フォトマスクの世界市場レポート2023-2029 製品画像

    半導体用フォトマスクの世界市場レポート2023-2029

    半導体用フォトマスクに関するグローバル市場分析、市場規模、販売量、売上…

    域/国、製品タイプ、用途別に、2018年から2022年までの過去データ、および2029年までの予測データを調査・分析する。 様々なセグメントを識別することによって、半導体用フォトマスク市場の構造を理解します。 半導体用フォトマスクの世界の主要なメーカーに焦点を当て、販売量、価値、市場シェア、市場競争状況、SWOT分析、今後数年間の開発計画を定義、記述、分析します。 個々の成...

    メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research

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