『HID対応マルチプロトコルRFIDリーダライタ』

PR自律動作によるキーボードエミュレーション機能を標準実装。プログラムレス…

当社の『HID対応マルチプロトコルRFIDリーダライタ』は、USBのHID(Human Interface Device)クラスに対応しています。キーボードエミュレーション機能を標準実装しており、自律動作でICタグのIDやユーザーメモリを読取り、USB接続したデバイスに自動で入力が可能です。 また、ISO/IEC15693、FeliCa、ISO/IEC14443TypeAなどの各種ICタグ規...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アートファイネックス 福井本社、東京支社

パレタイジングロボットシステム（SmartPalletizer）

PRパレットへの積み付け計算。人手での積み付け作業。どちらも自動化しません…

『Smart Palletizer』（※別称：運び屋きよし君）は、芳賀電機オリジナル製品として、パレタイズ搬送ロボットシステムを開発しました。 特徴 ■簡易ティーチング お客様の製品が自動積み付け計算に合うかシミュレーションを実施し、 シミュレーションの結果を基にロボットが自動で動きを作成します。 そのため、ロボット操作が初めての方にもスムーズにワーク変更導がしやすくなっておりま...

メーカー・取り扱い企業： 芳賀電機株式会社

標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

コンパクトな筐体に３元のカソードを組み込んだ標準バッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。 多くの納入実績に支えられた成膜プロセスとオ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

Druck 半導体製造装置向け圧力計測ソリューション

半導体製造装置やサブシステムの圧力校正試験にPACEシリーズを導入しま…

【装置の流体計測、品質管理に】 ■圧力コントローラPACE：モジュール式で高精度且つ、幅広い圧力範囲に対応。圧力標準にもなります。 ■PACE1000圧力インジケータ：シングルチャンネルの圧力計に比べて複数の圧力モニタが可能なので検査工程のコストを大幅に削減できます ■圧力コントローラPACE 5000 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

：2"（1〜3源）、もしくは4"（1源） ◉ 2"カソード x 最大3源 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング。 ◉ 他、多彩なオプシ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

マルチチャンバスパッタリング装置

20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…

標準仕様では対応の困難な各種用途・基板に積極対応。 Ｒ＆Ｄ・ディスクリート・化合物・ＭＥＭＳ・パッケージ・実装工程・マスク・小型ＦＰＤ　多くの基板に専用機構を用意。 基板のトレイ搬送も標準対応、大気側の基板ハンドリングで異種基板の同一装置での成膜・処理を実現。 各用途専用カソード（ワイドエロージョン・強磁性体・酸化物・リアクティブ用）に加え特殊基板機構（高温加熱・磁場印加・冷却等）で幅広い用途に対...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

Druck 半導体製品の圧力校正試験の自動化に

半導体製造装置やMEMS圧力センサの計測試験/ライン検査に圧力コントロ…

。計測試験プログラムも簡単に設定できます。半導体のサブシステム、MEMSメーカー様でPACEを導入後、大幅に生産効率がUPされた実績多。 〇ゲージ圧力レンジ：2.5kPa～21MPa（負圧校正標準） 〇通信：RS232、USB、IEEE-488、SCPIほか（モデルにより異なります） 〇電源：AC90～130V、AC180～260V（47～63Hz） ■圧力インジケータ PACE ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

大気非暴露型多元スパッタ装置

硫化物対応も可　薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜…

3インチカソード3元を装備した標準型スパッタ装置をカスタマイズ。 専用ターゲットとグローブボックスを標準装備。 Ｌｉ系複合酸化物　硫化物等ターゲットも供給。有償にて成膜テストに対応 実績豊富な研究開発用スパッタ装置の基本仕様を...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

超高真空スパッタリング装置（STM2323型）

先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空イン…

１０‐⁷ｐａの排気性能を持つ超高真空スパッタリング装置。標準構成でカセット室・搬送室・エッチング室・複数のスパッタ室を装備。全自動ＣｔｏＣ方式による完全自動運転で研究開発作業の効率化を実現いたします。 高効率強磁性体用カソードやワイドエロージョンカソードな...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

研究開発用スパッタリング装置

コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…

標準仕様 ４インチカソード３元装備による多層成膜 ターボ分子ポンプ＋油回転ポンプの高速排気 逆スパッタと基板加熱機構の標準装備による高い膜質の実現 １ｍ□のコンパクトな筐体に多機能を実現 上位機種の各部ユニットを搭載可能...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト…

成膜系：φ３インチカソード　１元装備 　　　：高周波電源　　　　　１源装備　 　　　：基板加熱機構標準装備 　　　：排気系　拡散ポンプ＆油回転ポンプ 操作系：全手動 オプション機構 磁性材用カソード　コンベンショナルカソード　ＤＣバイアス 逆スパッタ機構　バイアススパッタ機構　基板高温加熱...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

スパージャー【焼結金属フィルター用途事例】

■長所 ・ご要望に合わせたオーダーメイド ・均一な気体の拡散 ・…

■アプリケーション詳細 ・気体を均一に拡散するための安定した気孔 ・カスタム設計 ・アフターマーケット用 ■長所 ・ご要望に合わせたオーダーメイド ・均一な気体の拡散 ・標準コネクタエレメント ...

メーカー・取り扱い企業： ダイアエンタプライズ株式会社 本社

【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

の電子ビーム蒸着源に見られるような、電子ビーム偏向マグネットは使用しません。 TAUソースの各ポケットには、蒸気中に含まれるわずかなイオンを検出するための、"フラックスモニタリングプレート"が標準で搭載されています。ここで検出されるイオン電流値は、蒸着レートと比例関係にあり、サブモノレイヤーの膜を精密に成長できるほど高感度です。 4源同時蒸着モデルであるTAU-4には、4つのポケットにそれ...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の 成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。 オペレートタッチ画面を採用しており、初心者でも簡単に排気系の自動操作を 行うことが可能で、誤作動防止のための安全回路を搭載しています。 【特長】 ■3インチ用カソードを3源...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

多種金属対応　プログラマブルスパッタコーター

Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

ソフトウェア制御で高精度コントロールが可能。各種金属の薄膜作製を手軽に行なえます。 【特徴】 〇プログラマブルスパッタコーター 〇フルオート/マニュアルの2タイプの操作 〇シャッター標準装備...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

Druck 半導体アプリケーション用圧力センサ

半導体製造装置の流量制御に必要な高精度の圧力センサ各種。モジュールのカ…

、空調システム、自動車等に適したデジタル温度補正機能搭載の圧力センサです。 【圧力校正器・コントローラ】 半導体製造装置、サブシステムの圧力計測、検査ラインの圧力テスト、品質保証のための圧力標準に。 生産ラインへの導入でコストが各段に削減できます。詳しくは下記リンクをご覧ください。 ※尚、イプロスにご登録されている個人情報は、弊社正規代理店にも共有させていただき、代理店よりご連...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

空気式高速多針タガネ『JT-16』

940gのシリーズ最軽量！ニードル交換も簡単な新型ジェットタガネ誕生！

■使用空気圧力 MPa(kgf/cm2)：0.6(6) ■空気消費量 m3/min：0.16 ■打撃数： min-1：6000 ■針径と本数 　・φ2/本：15 　・φ3/本：6 ■針の標準長さ mm：180 ■本体質量 kg：0.94(エアホース含む) ■標準付属品 　・ニードル φ3×180mm：12本 　・エアホースAss'y(カプラ30PH付)：1本 ※詳しくはP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テラダ 機工部

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

熱蒸着（最大2）、有機材料蒸着（最大4） ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ◉ 他、多彩なオプショ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

R%D用マルチチャンバスパッタリング装置

R&Dやニッチプロセスへの対応に特化　量産用装置では困難な少量生産や試…

8インチまでの標準径ウェハと6インチ□までの矩形基板に対応したフレキシブル対応が特徴。小径ウェハや不定形基板には専用搬送トレイで基板搬送や成膜が可能。 メタル成膜においてはウェハプロセスの配線・電極膜・薄膜磁気デバ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回…

ことと同じくらい重要です。サンプルステージの特性は均一性やモルフォロジー、膜組成に影響を与えます。 HEXでは最大直径4インチのサンプル、HEX-Lでは最大直径6インチのサンプルに対応します。標準の固定サンプルステージの他に、回転、回転加熱、回転水冷サンプルステージが用意されています。...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

や、スパッタアップ とスパッタダウンの組み替えなども可能です。 【特長】 ■シンプル設計で省スペース ■ターゲットと基板間の距離を任意に設定可能 ■高温での基板加熱が可能 ■チラーを標準装備 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ■少量生産、夜間自動運転に対応した自動搬送オプションも可能 ■用途 ・有機EL, 太陽電池, 光学部品, バイオ, 半導体・電子部品,...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のスパッタリングソースです。 ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。 冷却水配管およびガス配管の接続には、クイックリリースコネクターが採用されています。その...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

表面処理装置　スパッタ用イオン銃　「40C1型」

表面処理装置　スパッタ用イオン銃

【特徴】 ◯取付フランジは外径70mmで、容易に装着が可能 ◯真空内のソース長は標準の63mmのほか、要望対応も可能 ◯酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスの導入も可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノポート

コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-3200

単一基板に数100条件の組成分布を形成。有効成膜エリアは1辺25mmの…

『CMS-3200』は、2元・3元のコンビナトリアル組成傾斜成膜に対応する 3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置です。 有効エリアは1辺25mmの正三角形。2インチウエハを標準基板とするため、 パターン描画・エッチングなどのライン後工程に投入でき、成膜のみならず 解析までをハイスループット化できます。 【特長】 ■2元・3元のコンビナトリアル組成傾斜成膜に対応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット

ＳＲＲ-Ｗ（Ｎ）粘着ロール除塵装置

業界を問わずお客様を悩ませてきたメンテナンス時の粘着ロール洗浄をより迅…

弊社の長年のフィールドサービスの経験から生み出された半自動ＳＲＲロールクリーニング装置装置は、メンテナンス時にロールを強制的に回転させる駆動を標準装備した装置です。一般的なチェーンやベルトを使用する駆動と違い、弊社独自の駆動装置により、駆動部の摩耗による粉じんが発生するリスクがありません。従来、1700ｍｍ幅の粘着ロールの洗浄に15分ほどかか...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

nch ◉ 2"カソード x 最大3源 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ◉ 他、多彩なオプショ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

応。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング ・CVD（熱CVD, PECVD） *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

い。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Aera FC-R7800シリーズ　マスフローコントローラ

高精度・信頼性のメタルシールモデル

FC-R7800シリーズは、高精度の流量制御を行うだけでなく、 メタルシールによる優れた高い気密性を備え、主要なガス制御アプリケーションに適したシステムです。 業界標準またはAera独自の電気系接続部を選択できるため、利便性があり、既存のマスフローコントローラ（MFC）と素早く簡単に交換できます。...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-6420

1辺25mmトライアングルの有効エリア！単一基板に数百条件分の組成分布…

0』は、PLD法では実現しにくかった成膜面積の拡大を図るべく 開発された6元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置です。 有効エリアは1辺25mmトライアングル。 4インチウエハを標準基板とするため、パターン描画・エッチングなどの ライン後工程に投入できることから、成膜のみならず解析までを ハイスループット化できます。 【特長】 ■プロセスラインに適合可能な4インチウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット