• 解説動画公開中『エマソンVanessaトリプルオフセットバルブ』 製品画像

    解説動画公開中『エマソンVanessaトリプルオフセットバルブ』

    PRメタルシートでありながらゼロリークを実現。極低温から高温まで対応し、ア…

    『エマソンVanessaトリプルオフセットバルブ』は、 世界中で30万台以上使われている高性能バルブです。 「Vanessa シリーズ30000」は、三軸偏芯構造と トルクシーティング型弾性メタルシートを使用し、 メタルシートでありながらゼロリークを実現しています。 ただいま、本製品の概要を分かりやすくご紹介した動画を公開中です。 カタログと併せてご覧ください。 【製品特...

    メーカー・取り扱い企業: エマソンバルブアンドコントロールジャパン株式会社

  • PSA酸素ガス発生装置 ICXシリーズ 製品画像

    PSA酸素ガス発生装置 ICXシリーズ

    PR・タッチパネル操作 ・省スペースで低騒音 ・酸素濃度計を標準装備…

     吸着剤を用いて加圧減圧を繰り返し、特定のガスを取り出す方式をPSA方式といいます。 弊社では、このPSA方式を採用した、酸素ガス・窒素ガス発生装置を豊富に取り揃えています。  水環境、燃焼、農業、バイオ、養殖、オゾン等様々な分野でご活用いただいております。...PSA酸素ガス発生装置は、吸着剤として合成ゼオライトを使用しています。 合成ゼオライトは、シリカゲルとアルミナとナトリウム金属等で...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社IBS

  • 水素フリーDLCコーティング装置(高密度スパッタADMS装置) 製品画像

    水素フリーDLCコーティング装置(高密度スパッタADMS装置)

     独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成(水素含有量1%以下)優…

    従来に無い水素フリーDLC膜(膜中水素含有量1%以下)を量産装置で実現 成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置(ADMS=アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置) ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ECRアトムソース 製品画像

    ECRアトムソース

    低圧動作のECR型アトムソース

    ECR励起プラズマ中からアトムフラックスを生成します。低圧動作特性に優れたECR方式のアトムソースです。フィラメントレス構造のこのアトムソースは窒素、水素、酸素などのガス種からのアトムフラックスの生成が可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: アドキャップバキュームテクノロジー株式会社

  • 表面処理装置 スパッタ用イオン銃 「40C1型」 製品画像

    表面処理装置 スパッタ用イオン銃 「40C1型」

    表面処理装置 スパッタ用イオン銃

    【特徴】 ◯取付フランジは外径70mmで、容易に装着が可能 ◯真空内のソース長は標準の63mmのほか、要望対応も可能 ◯酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスの導入も可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノポート

  • 表面処理装置 走査型イオン銃 「40E1型」 製品画像

    表面処理装置 走査型イオン銃 「40E1型」

    表面処理装置 走査型イオン銃

    【特徴】 ◯フルソフトウェア動作 ◯2段の差動排気 ◯酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスに対しても使用可能 ◯超高真空下でイオン銃の操作が可能 ◯ウィンマスフィルターの装着が可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノポート

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