• 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • ダイヤモンドライクカーボン膜(DLC)コーティング加工 製品画像

    ダイヤモンドライクカーボン膜(DLC)コーティング加工

    PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…

    『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

  • EPMAによる薄膜の膜厚分布測定 製品画像

    EPMAによる薄膜の膜厚分布測定

    極小領域の膜厚測定が可能に!電子線照射時に発生する特性X線の強度から膜…

    当社ではEPMAによる薄膜の膜厚分布測定を行っております。 薄膜の膜厚測定は主に蛍光X線法やX線反射率法で行われており、X線を入射源と しているためある程度の広い測定領域の平均的な膜厚しか測定できませんでした。 それ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社大同分析リサーチ

  • 反射率や透過率を偏波性能を調べる【分光測定・膜厚評価】 製品画像

    反射率や透過率を偏波性能を調べる【分光測定・膜厚評価】

    弊社において成膜した製品はもとよりお客様お手持ちの製品の測定、評価も請…

    分光測定、光学濃度測定、膜厚測定、形状測定、欠陥観察等の測定を実施可能です。 自社で成膜した製品対しては合否確認の目的をもった測定データを製品に添付しお届け致します。 お客様がお手持ちの製品についても測定のご依頼は可能です...

    メーカー・取り扱い企業: 京浜光膜工業株式会社

  • 技術情報誌 202304-01 エリプソメトリーを用いた薄膜評価 製品画像

    技術情報誌 202304-01 エリプソメトリーを用いた薄膜評価

    エリプソメトリによる、PVA膜スピンコート直後の経時変化とシリコン絶縁…

    he TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品質管理等のお役に立つ分析技術の最新情報です。 【要旨】 分光エリプソメトリーは光の偏光状態の変化を測定し、光学定数(屈折率・消衰係数)や膜厚を評価する手法として知られている。2021年に導入した高速分光エリプソメトリーM-2000UIによる、PVA膜スピンコート直後の経時変化とシリコン絶縁膜の傾斜エッチング評価について解析例を紹介する。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東レリサーチセンター

  • [XRR]X線反射率法 製品画像

    [XRR]X線反射率法

    XRR:X-ray Reflectivity

    、X線を試料表面に極浅い角度で入射させ、その反射強度を測定します。この測定で得られた反射X線強度プロファイルをシミュレーション結果と比較し、シミュレーションパラメータを最適化することによって、試料の膜厚・密度を決定する手法です。 ・膜厚の評価が可能 (2~300nm 程度) ・密度の評価が可能 ・表面粗さの評価が可能(Rms = 5nm 以下) ・非破壊で分析が可能 ・約10...

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    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • ナノテック表面分析センター 受託試験 製品画像

    ナノテック表面分析センター 受託試験

    薄膜表面の機械的特性評価は、薄膜プロセスのキーポイント!

    【ラインナップ】 ○硬さ試験:硬さ・ヤング率の評価 ○スクラッチ試験:密着性の評価、傷つきやすさの評価 ○摩擦摩耗試験:摩擦係数の評価、耐摩耗性の評価 ○膜厚測定 ○表面粗さ測定 ○分光エリプソメトリ:膜厚、光学定数の評価 ○EDX分析:摩擦摩耗試験やスクラッチ試験後の試験痕の確認 ○RBS/HFS測定:薄膜を構成する元素の定性・定量評価 ○X...

    メーカー・取り扱い企業: ナノテック株式会社

  • 極薄Fe酸化膜のラマン分光分析 製品画像

    極薄Fe酸化膜のラマン分光分析

    レーザーが侵入する範囲の物質の測定が可能!金属表面の極薄酸化膜の分析が…

    の結果を踏まえ、その有効性を評価した結果を ご覧いただけます。 【特長】 ■狙った箇所(分析径:約1μm)の酸化膜の定性分析が行える ■酸化膜が厚くなると、ピーク強度が高くなるため、酸化膜厚の相対比較が  短時間で行える ■XRD検出下限以下の極薄い膜(約10~50nm)の検出が可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社大同分析リサーチ

  • 受託分析・SEM観察受託 製品画像

    受託分析・SEM観察受託

    受託分析・SEM観察受託

    重:50μN〜1N(NTR) 1N〜20N(TRB、HTT) ・回転及び往復摩擦(NTRのみ)が可能 ・ボールと基材の応力解析シミュレーション機能搭載 ■Calotest・AFM・NST・・・膜厚・表面形状 ・多層膜の膜厚測定 ・解析ソフトによる多彩な分析が可能 ・nano Scratch Tester(NST)による形状及び摩耗量測定 ■詳細は、お問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ツール・テック東北

  • 【分析事例】Cu表面のXPSによる酸化状態評価 製品画像

    【分析事例】Cu表面のXPSによる酸化状態評価

    Cuスペクトルの成分分離、定量、膜厚算出

    Cu2p3/2スペクトルとCuオージェスペクトル等の解析から、Cu表面の結合状態・定量評価・膜厚評価が可能です。 主な応用例として、Cu配線のCMP処理・洗浄の評価、Cu電極の錆・変色調査が挙げられます。 各種処理を施したCu表面状態および酸化膜厚についてまとめます。 (クリーンルーム環...

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    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • X線光電子分光分析によるステンレス鋼の不動態皮膜分析 製品画像

    X線光電子分光分析によるステンレス鋼の不動態皮膜分析

    不動態皮膜の厚さや濃度を調べることが可能!当社のX線光電子分光分析をご…

    ステンレス鋼は耐食性に優れることが知られています。耐食性の優劣には、 不動態皮膜の厚さや濃度が深く関わっており、それらをX線光電子分光分析 (XPS)で調べることができます。 SUS430 製部品を機械研磨して使用し、短期間で錆が発生した例では、 錆発生品と正常品について深さ方向の元素分析を実施。結果、不動態⽪膜に 差が認められました。 Cr濃度を比較すると、錆発生品は正常品に...

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    メーカー・取り扱い企業: 川重テクノロジー株式会社

  • 【受託分析】レーザー顕微鏡(観察&測定) 製品画像

    【受託分析】レーザー顕微鏡(観察&測定)

    広範囲での観察、計測も可能!レーザー顕微鏡を用いた受託分析のご紹介です

    当社では、形状測定レーザマイクロスコープ「VK-X200」を用いた 受託分析を行っております。 平面計測、幅測定、高さ測定、膜厚測定等の各種、測定ができ、対象の サイズや求める精度により、適した対物レンズを選択し、観察や測定を実施。 範囲はレンズに応じて異なりますが、連結機能を有しているため、広範囲での 観察、計測...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイテス

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    技術情報誌 202001-01 in-situ STEM

    技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

    らのデバイスには、高い磁気抵抗効果が得られることからMTJ(magnetic tunnel junction)構造が広く用いられている。このMTJ構造は数nm程度の薄い積層膜から成り、原子レベルでの膜厚やラフネスおよび結晶性が特性を左右する。また、アニール温度によって磁気特性が変化することから、本稿ではin-situ TEMを用いて、加熱に伴う結晶性や元素分布の変化過程をnmレベルで分析した事例を...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東レリサーチセンター

  • 【受託分析】レーザー顕微鏡(高精度3D測定&カラー観察) 製品画像

    【受託分析】レーザー顕微鏡(高精度3D測定&カラー観察)

    試料表面の凹凸形状の3D測定や透明体越しの表面形状測定などが可能です!

    観察、計測を実施。測定結果は国家基準につながる トレーザビリティ体系に基づいており、測定機器として非破壊測定に活用できます。 レーザー顕微鏡では、試料表面の凹凸形状の3D測定ができ、透明体の膜厚形状や 透明体越しの表面形状測定が可能です。 【特長】 ■試料表面の凹凸形状の3D測定が可能 ■透明体の膜厚形状や透明体越しの表面形状測定が可能 ■408nmレーザーを用いて観察、計測...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイテス

  • 蛍光X線分析(XRF)による受託分析サービス|JTL 製品画像

    蛍光X線分析(XRF)による受託分析サービス|JTL

    材料分析・異物分析に適した微量元素・軽元素の高感度分析を実施します。

    することが可能です。 WDXはエネルギー分散型X線分析法(EDX)よりも波長分解能が高く、微量元素や軽元素の検出感度にすぐれています。金属試料の材料分析(判別)やセラミック試料の材料分析、メッキの膜厚測定などにご利用いただけます。...

    メーカー・取り扱い企業: JAPAN TESTING LABORATORIES株式会社 本社

  • 【分析事例】Oリングの使用履歴による形状評価 製品画像

    【分析事例】Oリングの使用履歴による形状評価

    X線CTにより部品の非破壊観察・厚さ分布解析が可能

    用品は局所的にリングの太さが細くなっている箇所が検出され、そこからリークが起きていることが示唆されました。 測定法:X線CT 製品分野:製造装置・部品、高分子材料、日用品 分析目的:形状評価、膜厚評価、構造評価、故障解析・不良解析、劣化調査・信頼性評価、製品調査 詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【事例】ノーマリーオフ型GaN HEMT 二次元電子ガス層評価 製品画像

    【事例】ノーマリーオフ型GaN HEMT 二次元電子ガス層評価

    製品調査の複合解析をワンストップでご提案可能です

    した。 分析手法を複合的に活用し、試料の総合的な知見を収集した事例をご紹介いたします。 測定法:SIMS・TEM・SCM・SMM 製品分野:パワーデバイス 分析目的:微量濃度測定・形状評価・膜厚評価・構造評価・製品調査 詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。...

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    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 測定器、観察機器、試験機器 製品画像

    測定器、観察機器、試験機器

    様々な測定器を駆使し、測定及び試験を行っております!

    00 ■原子吸光分析装置 アナリティクイエナジャパン cotrAA300 ■EDXエネルギー分散型X線分析装置 TM3000 ■システム金属顕微鏡 オリンパスBX51M&SZX7 ■蛍光X線膜厚測定装置 Fisher XDLM237 ■高度測定装置 アカシHM-122 ■ISO型塩水噴霧試験機 SUGA STP-90 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問合せくださ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイライト

  • 金属顕微鏡による観察サービス|JTL 製品画像

    金属顕微鏡による観察サービス|JTL

    金属組織の観察など、観察前の試験・試料調整から一連の調査を受託します。

    【金属や合金、セラミックスなどの材質の構造観察を実施】 組織や結晶粒、合金層の観察、接合部の断面状態観察(界面・膜厚・ボイド・クラックなど)にご利用頂けます。 【マクロ観察からミクロ観察まで幅広く対応】 観察倍率で50倍~1,000倍まで対応しています。 【倒立型(対物レンズが標本の下に位置)のメリ...

    メーカー・取り扱い企業: JAPAN TESTING LABORATORIES株式会社 本社

  • サービス 実験・受託加工 製品画像

    サービス 実験・受託加工

    粉砕・乾燥・加熱・冷却・混合・造粒・表面改質等各機種による実験が可能で…

    ーテスター   ・精密天秤   ・粉末X線回折装置   ・蛍光X線解析装置   ・示差熱量分析装置   ・熱重量分析装置   ・溶出試験機   ・その他各種(風速計 振動計 騒音計 膜厚計 等) ●詳しくはお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社奈良機械製作所

  • SEM-ECCI法によるGaNの転位観察 製品画像

    SEM-ECCI法によるGaNの転位観察

    SEM-ECCI法を用いると容易な前処理で観察可能に!単結晶GaNの測…

    -ECCI法を用いると容易な前処理で観察可能となります。 【測定事例】 ■供試材:単結晶GaN(サファイア基板上にGaNを成膜したウェハ) ■面方位:C面(0001)±0.5° ■GaN膜厚:4.5±0.5μm ■測定条件:後方散乱モード ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社大同分析リサーチ

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