連続 | イプロスものづくり

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薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノメイト
MCA4A 4チャンネルMCA（マルチチャンネル・アナライザ）

PRPHA（パルス波高分析）モードとMCS（マルチチャンネル・スケーラ）モ…

PHAモードでは、16ビットADCを8nsごとに4チャンネル連続して収集し、32kの分解能を実現しています。ポールゼロ・フィルタと台形波シェーピングを備え、典型的なプリアンプ信号も処理できます。 MCSモードでは、右側の４つのBNCコネクタを用いて、Start, Stop1, Stop2, CHADVの各入力信号を処理します。内部メモリに、最大16Mbinのスペクトルを蓄積することが...

メーカー・取り扱い企業：大栄無線電機株式会社
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC P...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、プラズマエミッションモニター搭載により圧電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載してお...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…

。特徴 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー型カソードとスパッタアップとの組み合わせによる　膜質の改善と欠陥の無い成膜 ■In-situモニタリングによる、成膜状態の連続監視 ■完全に自動化されたプロセス制御　 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社
『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することが可能な製品です。プラズマエミッションモニターによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜、圧電特性低下に寄与する元素検知も可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
SDR型巻取式スパッタリング装置（RｔｏＲタイプスパッタ装置）

サンプルテスト対応中　フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

績独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。プラズマ前処理電極や磁性材用カソード、基板加熱用メインロールなど豊富なオプション機構を揃えており多目的なフィルム連続処理装置として運用可能Ｒ＆Ｄ用小型機やシート対応のバッチ型装置など目的・用途に合わせて柔軟にハード＆ソフトの実現...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

l. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリテ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【MiniLab-SA125A】多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替）高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
イオンビームエッチング・ミリング（IBE）装置

高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置

特長最新設計のグリッドによる8インチ基板への均一なエッチングイオンソース冷却機構の最適化による高レートエッチングの連続運転改善基板保持部の傾斜機構をダイレクト駆動方式より高速化最新OSの採用と制御システムの改善による装置安定稼働他社製プロセスモジュールをドッキングできるフレキシブルなソフトウエア構成 ...
メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社
スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
グローブボックス連結型有機蒸着・スパッタ装置

トランスファーロッドにより、各室間を搬送！大気解放することなく連続成膜…

対応で、有機トランジスタ、EL素子用抵抗加熱蒸着装置、酸化物用RFスパッタ装置をグローブボックスに連結した装置です。トランスファーロッドにより、各室間を搬送。大気解放することなく連続成膜することができます。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■50×50基板対応 ■大気解放することなく連続成膜可能 ■有機トランジスタ、EL素子用抵抗加熱蒸着...

メーカー・取り扱い企業：ケニックス株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310）多チャンネル成膜コントローラ・ユーティリテ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・その他オプション...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替）高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

del. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリテ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310）多チャンネル薄膜コントローラ・ユーティリティ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社