CMPスラリー(化学的機械的液体研磨剤)

異種材料が混在する半導体基板の平坦化について、お客様のニーズに対応した…

Ｐスラリー ●1Step(1Platen)研磨対応 ●高速研磨と低段差の両立可能 ●高選択性(Cu/Ta＝1000 over) ●Cu残りの抑制 ●インキュベーション防止 ●酸化剤に過酸化水素使用 ●濃縮可能 ■樹脂研磨用スラリー 研磨特製(単膜)　ポリイミド膜研磨速度　1～2μm/min＠4psi ●ポリイミド膜の熱処理の度合い などにより研磨速度が変化 ●優れた研磨...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トッパンインフォメディア

腐蝕性液体や高純度薬品などの少容量保管輸送容器/キャニスター缶

腐蝕性のある液体や半導体製造用に使用される高純度薬液（過酸化水素、硝酸…

『小容量保管輸送容器／キャニスター缶』は、小容量の保管/輸送で使用される国際輸送にも対応した容器です。 ISOタンクコンテナの容量に満たない小容量の化学品や薬液を安全に輸送します。 回転成形法の原理を利用して、容器の内面に、フッ素樹脂の厚い被膜でライニングされた容器です。 継ぎ目がなく強密着で、耐食性・耐薬品性があり半導体素材の保管・輸送容器に最適です。 お客様のご希望の容量・...

メーカー・取り扱い企業： NRS株式会社

『半導体薬液』なら弘田の製品！

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【製品ラインアップ】 ■単酸 弗化水素酸、弗化アンモニウム溶液、塩酸、硝酸、硫酸、過酸化水素水 ■混酸類 　TH-H、NC-1C、エッチング液（SiO2,AI,Mo,Ti,etc） ■CMPスラリー 　W,Cu用スラリー、各種分散剤 ■界面活性剤 　帯電防止剤、濡れ向上剤、...

メーカー・取り扱い企業： 弘田化学工業株式会社 東京工場