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工作機械クーラント用ファインバブル浄化装置『バブルフレッシャー』
PR夏場に発生する腐敗臭を低減!液中の細かい汚れの浮上分離により、切削液の…
『バブルフレッシャー』は、クーラント中に浮遊する汚れを水面に集めて、 日常の清掃を簡単にするファインバブル浄化装置です。 腐敗臭を低減し、作業環境をより良くします。 また、クーラント寿命が長くなり、作業性・生産性が向上。 DC24V専用ポンプにより、低電圧安全設計を実現しています。 【特長】 ■小型で邪魔にならない ■水中に置くだけ簡単設置 ■薬剤なしで安全に臭い抑制 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社坂本技研
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油圧装置・発電機の見える化・省人化=リアルタイム遠隔監視システム
PR圧力、温度、流量、オイル清浄度管理を備えた、ICT遠隔監視クラウド型(…
圧力、温度、流量、オイル清浄度管理を備えた、ICT遠隔監視クラウド型 Watchlog PRO 油圧システム モニタリング ユニットを油圧システムに設置することで、流量、圧力、温度、およびオプションでオイルの清浄度が継続的に、4G (SIM カード)または Wi-Fi 経由で専用クラウドに送信されるか、貴社ウェブサーバーに送信されます。センサーの測定値は、殆どのウェブブラウザからアクセスできるオ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社チヒロ 東京営業所
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ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能!
【仕様】 ■電源電圧:AC200V 三相3線式 50/60Hz(電源電圧変動:±10%) ■最大電流:250A ■運転可能周囲温度湿度:+5~+35℃/75%rhまで ■装置本体外形寸法(W×H×Dmm):394...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社愛知真空
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ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
独自技術HiTUSテクノロジー ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜法であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能!自動車のミラーなどの生産…
て「石」の役割を果たすのが、真空の容器 (真空チャンバー)内に充填されたアルゴン(Ar)などの不活性ガスです。 スパッタリングでは真空中にアルゴンガスを導入し、ターゲット材料にマイナスの 電圧を印加することで、蛍光灯でも使われているグロー放電を発生させます。 するとプラスの電荷を帯びてプラズマ化したアルゴンイオンは超高速(秒速約3.2km) でターゲット材料の表面に衝突し、ターゲット...
メーカー・取り扱い企業: デクセリアルズ株式会社
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水素フリーDLCコーティング装置(高密度スパッタADMS装置)
独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成(水素含有量1%以下)優…
5以下に低減(1⇒0.06) 最新成膜プロセスで導電性カーボン薄膜の形成にも対応。バイオ用途から新エネルギーまで幅広い分野で用途を開拓しています。 新開発アーク放電式マグネトロンカソードによる低電圧・低圧力プラズマは成膜だけでなく基板表面のイオン窒化やエッチングにも応用されており、成膜前処理、下地硬化からコーティングまで高品質一貫処理。 本装置(アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置)の...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)
誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜
O2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ(IBD)装置です。 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・希少なターゲットを用いる成膜工程でのコスト削減にも貢献します。 ...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…
導入系、電源系、基板温度制御系および PCと制御装置からなる操作・制御系により構成。 スパッタ室には、ターゲットを取り付けるカソードが3元搭載されており、 それぞれのカソードにRF又はDC電圧を印加、または重畳して印加することも 可能です。 【事例概要】 ■納入先:地方独立行政法人大阪産業技術研究所様 ■納入製品:MS-3C100L型 ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社大阪真空機器製作所
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源
HEX/HEX-L用の電子ビーム蒸着源です。 TAUシリーズは"ミニ"電子ビーム蒸着源です。TAUを使用することでHEXシステムを電子ビーム蒸着装置(EB蒸着装置)として使用できます。材料に高電圧が印加され、そのすぐ横にあるフィラメントから放出される熱電子を材料に加速衝突させることで加熱します。大型の電子ビーム蒸着源に見られるような、電子ビーム偏向マグネットは使用しません。 TAUソー...
メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社
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EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃
ビームエネルギー:0–3keV ■ イオン電流密度:>300μA/cm2 ■ 高スパッタリングレート:200Å/min ■ ビーム径:2.5mm ■ リモートコントロール機能:ビーム電圧のオンオフ ■ イオンビームスキャニング機能: ■ DC偏向機能: ■ 自動出ガス機能: ■ 取付フランジ:ICF70 ■ 許容加熱温度:250℃...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社テク
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ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバ…
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