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自家消費型太陽光発電システムに必要な計測機能と保護要素を一体化
PR ディジタル地絡過電圧・逆電力リレー DVRR-72
太陽光発電設備に必要なRPRとOVGR、計測器 (マルチメータ) 、バックアップ電源を一体化した保護リレー (保護継電器) です。DIN72×72mmコンパクトサイズでシステム構築に貢献します。 自家消費型太陽光発電システムにおける負荷追従制御用のマルチメータとしてトップクラスの高速応答 (100ms以下) により、電力コストの削減やエネルギーの効率的な利用が可能です。 施工性にも配慮し、既存...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社第一エレクトロニクス
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PR高密度の樹脂ブロックにφ60×5mm~100mmの新サイズを追加。安定…
『IMPブロック』は、当社のIMP工法のメリットであるボイドの制御から生まれた 切削加工用素材として幅広くご利用頂いております。 射出成形の利点を活かし、短納期・小ロット・格安でのご提供が可能です。 ブロックサイズは、これまでの6サイズに加え 新たに「φ60×5mm~100mm」を追加ラインアップ。 豊富なサイズ展開で多様なニーズにお応えします。 【新サイズの利点】 ■小物部...
メーカー・取り扱い企業: PLAMO株式会社
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BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃
学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます
日本電子株式会社 BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃は、真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護...
メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社
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緻密な酸化膜厚膜(~10μm)を高速形成。新開発イオン化機構搭載 C…
緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やSiC膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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「過酷な環境下の使用」にも耐えるLEMOコネクタ。その信頼と実績により…
ボット化した試験装置といった幅広いレンジの装置で 数多くのモデルが半導体製造装置で採用されています。 ■下記のような環境下でも使用出来るコネクタをお探しの際は是非お問合せ下さい。 ・高密度 ・小型同軸 ・非磁性 ・高電圧シールドコネクタ:最大50kVDC対応 ・信頼性の高い真空気密レセプタクルと真空フィールドスルーカプラ 真空(気密) He漏れ率:1x10^-7 m...
メーカー・取り扱い企業: 丸紅エレネクスト株式会社
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イオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供します
TELEMARK製のイオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供いたします。イオンアシスト蒸着(IAD)技術は余分な基板加熱なしに高密度で安定な成膜可能なプロセスです。TELEMARKのグリッドレスイオンソースシステムは独自のデザインのイオン源により、ガラス、プラスチック、金属の様々な基板で安定なイオンアシスト蒸着を可能にしました...
メーカー・取り扱い企業: VISTA株式会社
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