リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

高天井用LED照明『RLS-FLN-100シリーズ』

PR高温環境100℃まで対応可能な電源一体型！優れた放熱性とハイレベルな防…

『RLS-FLN-100シリーズ』は、100℃の高温耐性を有し、防塵、防湿、防水、 防爆機能に優れ、過酷な高温環境下でも安定的に動作する耐熱LED照明です。 電源・ドライバー等は別置きではなく全てランプと一体で、同一高温環境下で 使用可能。モジュール化した照明デザインを採用し、各モジュールの熱は お互いに影響しません。 また、ハウジングおよびヒートシンクには、放熱性と耐食性に優れ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラピュタインターナショナル

大気圧プラズマ能力確認ツール　ToughPlasma　FSI

色の変化でプラズマ能力を容易に可視化できるシールです

FSIはTough Plasmaの能力確認用に最適化されたツールです。 Tough Plasma は以下のような特徴を併せ持つリモート型大気圧プラズマユニットです。 ◆高密度ラジカル 　名古屋大学との共同研究結果を元にした独自の方式により、高密度のラジカルを生成します。 　それにより高速での表面処理が可能となり、高い生産性と安定性をご提供します。 ◆電気的に中性...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部　新規事業部

ホローカソードソース『HCS』

プロセス適合のために電極間隔を自由に調整可能！低放電電圧で穏やかな処理…

ズマ密度も増加。溝の中にプラズマを押し込むと、 電極プレートの下に非常に強力で明るいプラズマが生まれます。 シンプルでスケーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単なカスタマイズを 実現。高密度プラズマの処理に関して、CCPおよびICPに匹敵し、コストはICPより 低廉です。 【特長】 ■ホローカソード設計、基板に依存しない ■高い電子密度とイオン化効率がラジカルの高密度を促...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

プラズマクリーニング装置「POEM」（プラズマクリーナー）

　多機能型プラズマクリーニング装置。 サンプルテスト受付中 クリー…

基板洗浄（酸化物・有機物除去・微細異物除去） 親水性処理（メッキ前処理、半田濡れ性向上） 撥水性処理（ウェット工程前処理） リフロー前処理に実績豊富　半田濡れ性向上効果大 ハイエンド製品（高密度実装基板、フレキシブル基板、パワーデバイスモジュール）の量産ラインに実績豊富。 基板やライン形態に合わせてインライン化、枚葉化タイプも標準ランナップ ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

大気圧プラズマ処理装置『NJZ-2820』

大気圧で安定したプラズマ処理が可能な大気圧プラズマ処理装置！装置の小型…

大気圧での安定したプラズマ処理、圧縮空気をプラズマ化しランニングコストの低減を可能にしました。装置の小型化により、ラインへの組み込みも容易です。 【特長】 ■2.45GHzマイクロ派による高密度プラズマを発生 ■素早い発火で必要な時にのみプラズマ発生を可能に ■装置の小型化・低価格化を実現 ※低温プラズマ（７０℃以下）・酸素を使った熱処理プラズマについてもご相談ください。 ※...

メーカー・取り扱い企業： 長野日本無線株式会社

スポット型 大気圧プラズマ装置『AP-T』

ピンポイントでプラズマ照射が可能！LCD端子清掃や電子部品封止前洗浄の…

『AP-T』は、2.45GHzの超高密度プラズマで高速処理が可能な スポット型大気圧プラズマ装置です。 クリーンドライエアー（CDA）での処理もできるほか、 高速立上り→スイッチOn後1秒未満でプラズマが安定します。 電...

メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部

大気圧マイクロホロープラズマ　ロボット搭載μ-AP大気圧プラズマ

第4の状態（プラズマ状態）を大気圧下で作り出す装置です。

大気圧マイクロホロープラズマ　ロボット搭載μ-AP大気圧プラズマは、第4の状態（プラズマ状態）を大気圧下で作り出す装置です。電極構造をホロー形状にし、ホロー部で電子密度のプラズマが増加し、高密度のプラズマを生成します。電極間距離を最適設計することにより、大気圧下でのプラズマの生成が可能になりました。放電ガスのブローによりプラズマの噴出を形成しています。水中プラズマ生成への応用が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

超高密度大気圧プラズマ　ToughPlasma　FPF20-ST

高い処理能力と低価格を実現させた大気圧プラズマ装置

FPF20-STは超高密度ラジカルを発生させることができる世界最高レベルの大気圧プラズマ装置です。 各種パラメータは最適化されており、余計な調整は不要です。 照射距離と速度を変更するだけですのでお客様でも容易に評価...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部　新規事業部

超高密度大気圧プラズマ　ToughPlasma　FPB20

低温で電気ダメージレスな大気圧プラズマ装置

Tough Plasma は以下のような特徴を併せ持つリモート型大気圧プラズマユニットです。 ◆高密度ラジカル 　名古屋大学との共同研究結果を元にした独自の方式により、高密度のラジカルを生成します。 　それにより高速での表面処理が可能となり、高い生産性と安定性をご提供します。 ◆電気的に中性...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部　新規事業部