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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR高温環境100℃まで対応可能な電源一体型!優れた放熱性とハイレベルな防…
『RLS-FLN-100シリーズ』は、100℃の高温耐性を有し、防塵、防湿、防水、 防爆機能に優れ、過酷な高温環境下でも安定的に動作する耐熱LED照明です。 電源・ドライバー等は別置きではなく全てランプと一体で、同一高温環境下で 使用可能。モジュール化した照明デザインを採用し、各モジュールの熱は お互いに影響しません。 また、ハウジングおよびヒートシンクには、放熱性と耐食性に優れ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ラピュタインターナショナル
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めっき技術と最新の設備で、必要な製品を必要なときにお届けいたします!
山水エレクトロニクス株式会社では、最先端のめっき技術を導入し、 高密度パターンの成膜を可能にしております。 クライアントの要求に応じて、高い信頼性でお応えいたします。 【特長】 ■高密度パターンの成膜が可能 ■高い信頼性 ※詳細についてはお問合...
メーカー・取り扱い企業: 山水エレクトロニクス株式会社
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コイル状に巻かれた素材に効率良くめっき処理!【試作対応可能!】
き:板厚0.08~2.5mm/幅8~300mm 部分めっき:板厚0.1~2.5mm/幅10~100mm ■下地の種類 銅、ニッケル 《リフロー錫めっき》 ウィスカのリスク低減で高密度実装に対応 ■リフロー錫めっき可能な素材仕様 材質:銅、銅合金、SUS 全面めっき:板厚0.8~1.2mm/幅10~300mm 部分めっき:板厚0.15~0.8mm/幅10~65...
メーカー・取り扱い企業: ハイジェント株式会社
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非磁性で潤滑性が必要なあなたへ、ぜひお試しください!!
磁気を嫌う機器のハイテクノロジー化に伴い、測定機器や分析機器の高密度・高性能化が進んでいます。 そのため、今まで無視していた主機能部品以外のコネクタや接点部品までも非磁性化が望まれております。 また、新興国の経済的成長に伴い、上記測定機器や分析機器の導入...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三ツ矢
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