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31件 - メーカー・取り扱い企業
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115件 - カタログ
865件
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PR高温環境100℃まで対応可能な電源一体型！優れた放熱性とハイレベルな防…
『RLS-FLN-100シリーズ』は、100℃の高温耐性を有し、防塵、防湿、防水、 防爆機能に優れ、過酷な高温環境下でも安定的に動作する耐熱LED照明です。 電源・ドライバー等は別置きではなく全てランプと一体で、同一高温環境下で 使用可能。モジュール化した照明デザインを採用し、各モジュールの熱は お互いに影響しません。 また、ハウジングおよびヒートシンクには、放熱性と耐食性に優れ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラピュタインターナショナル
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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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超高密度大気圧プラズマ ToughPlasma FPF20-GM
高い処理能力と安全性を両立させた大気圧プラズマ装置
FPF20-GMは一般的な大気圧プラズマの10倍以上の超高密度ラジカルを発生させることができる世界最高レベルの大気圧プラズマ装置です。 各種パラメータは最適化されており、余計な調整は不要です。 ボタン一つで簡単に世界最高レベルの大気圧プラズマをご利用...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部 新規事業部
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シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓ…
置（CCP型・ICP型）とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。 ウェハレベルの基板だけでなく大型基板のエッチングにも対応可能 基板の大型化にスムースに対応可能な新型高密度プラズマエッチング装置...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ALNコーティング装置（高密度プラズマスパッタADMS装置）
高密度プラズマスパッタで結晶性ＡｌＮ膜を形成、立体形状への全面コーティ…
独自開発の高密度プラズマスパッタ ADMS法（アーク放電型マグネトロンスパッタリング法）により従来に無い緻密なＡｌＮ膜を立体形状基板に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他には無い高反...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）
独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…
従来に無い水素フリーDLC膜（膜中水素含有量１％以下）を量産装置で実現 成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置（ADMS＝アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置） 水素フリーの緻密なDLC膜は従来の水素含有DLC膜に比べＭｏ添加の潤滑油中の摺動特性を１／１...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜…
新開発プラズマ源HCｄ（ホローカソード放電）型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくＣｕ薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。 新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や大型基板の高精度エッチングが可能。 ３００ｍ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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大気圧Plasma装置の開発・製造・販売累計1200台以上の実績（20…
る表面改質装置へと繋がり、2002年08月 表面処理装置が完成、さらに、コーティング・フィルム・プリント基板業界への進出を決定する契機にもなりました。 イー・スクエアは、超小型･軽量で高い信頼性と高密度プラズマ発生を有した 常圧Plasma表面処理装置 『Precise II』の開発、製造、販売後、累計1200台以上（2021年）の販売実績を有します。 【特徴】 ○新しくなったPreciseシ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア
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a-SiC:H(堅牢膜)等のパッシベーション膜形成が可能！高密度プラズ…
【表面除染の特長】 ■複雑な形状のインプラントを効率的に掃除する用の高密度プラズマ ■液体除染の欠点を補うドライプロセス ■イオンフラックス制限・低温処理によるダメージの最小化 ■有機汚染・残留を除去する高密度O*プラズマ ■金属表面の酸化層を除去する高密度H*...
メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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大気圧プラズマ能力確認ツール ToughPlasma FSI
色の変化でプラズマ能力を容易に可視化できるシールです
FSIはTough Plasmaの能力確認用に最適化されたツールです。 Tough Plasma は以下のような特徴を併せ持つリモート型大気圧プラズマユニットです。 ◆高密度ラジカル 名古屋大学との共同研究結果を元にした独自の方式により、高密度のラジカルを生成します。 それにより高速での表面処理が可能となり、高い生産性と安定性をご提供します。 ◆電気的に中性...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部 新規事業部
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緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載 Ｃ…
緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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"大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…
アーク等を用いた装置ではなく、 完全なるバルクプラズマを発生させた大気圧プラズマ装置を主体に置き、説明しております。 特殊電極構造を用い、窒素ガス・希ガス等をベースに高周波電力を電極に印可し、 高密度プラズマを発生させることによりが生成された高密度の活性種が ワーク表面に官能基や水酸基、アミン基を付与し、 濡れ性や、塗布性能、有機物除去等の処理が可能になります。 添加ガスを変えることにより、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア
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CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。
真空機器関連商品 EBEP処理装置＜FAP-EB/2D＞は、低圧高密度プラズマによる高速・高品質表面処理装置で、CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。低圧力領域においてエネルギー可変電子ビームにより、プロセスガスを高効率に解離、電離を行なうことができ、高...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング
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Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…
『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 独自のチャンバ内構造により抵パ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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従来比50％の性能UP！低N2消費（約45％削減）の大気圧プラズマ装置
ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない ■有機表面、内部へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカルの生成により、窒素ガス消費量の４５％削減（従来比） ■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能 ■各種材質表面へのダイレクト接着技術 ■還元処理...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア
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優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備していま…
『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により 優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。 自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ダメージレス・ハイスループット・多用途対応 ハイエンドデバイス・化合物…
８インチ対応の枚葉式プラズマアッシング装置。 高密度表面波プラズマ源装備アッシング室２室装備。枚葉式ロードロック室１室装備。マルチチャンバタイプ。 コンパクトな設置寸法でハイスループットを実現。豊富なオプション類（ＲＩＥ室・ＩＣＰ室・加熱・冷却室...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性…
独自高密度スパッタ法 アーク放電型マグネトロンスパッタリング法（ＡＤＭＳ法）によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたＳｉＣ（シリコンカーバイド）膜をＰＶＤ…
電子銃による個体シリコンの蒸着を基本としたイオンプレーティング装置。 高密度のプラズマを形成できるシンプルなイオン化機構によりシリコン上記と反応ガスとのリアクティブプロセスを実現。 基板の形状や成膜の目的に合わせて基板設置方法や治具も専用設計。 立体形状基板の全面成膜...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ハイブリッド硬質膜コーティング装置（ＤＬＣーＣＶＤ＋ＰＶＤ装置）
ＣＶＤ－ＤＬＣと硬質膜用ＰＶＤの複合型コーティング装置。スムースサーフ…
自動車用のＤＬＣ膜に実績豊富なＰＩＧ式ＤＬＣ膜コーティング装置に高密度スパッタカソードＡＤＭＳ機構（アーク放電型マグネトロンスパッタリングカソード）を多元追加。トライボロジー特性に優れたＤＬＣ膜に硬質合金膜を積層。スムースな表面を持つ新硬質コーティングを実現。 従...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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【異種接合・接着剤レス直接接合】密着性・親水性などが向上！炭素繊維を高…
上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■反応性の高い酸素ラジカル粒子を高密度に生成するので、高速に処理でき、生産性の向上に寄与 ■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能 ■液晶ポリマー(LCP)本来の有効な電機特性を失うことなく、接...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア
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大気圧で安定したプラズマ処理が可能な大気圧プラズマ処理装置！装置の小型…
大気圧での安定したプラズマ処理、圧縮空気をプラズマ化しランニングコストの低減を可能にしました。装置の小型化により、ラインへの組み込みも容易です。 【特長】 ■2.45GHzマイクロ派による高密度プラズマを発生 ■素早い発火で必要な時にのみプラズマ発生を可能に ■装置の小型化・低価格化を実現 ※低温プラズマ（７０℃以下）・酸素を使った熱処理プラズマについてもご相談ください。 ※...
メーカー・取り扱い企業： 長野日本無線株式会社
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独自のリアクターヘッドにより大面積エリアに高密度プラズマを発生！
半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワーク（ガラス基板等）の量産インラインシステム構築を容易にし、設備投資とランニングコストの低減を実現！...自動ステージを搭載したセル生産用セミオート機 最大300x600mmサイズのワークを自動で表面改質可能です 【主な特長】 ・グロー放電プラズマによるダイレクト方式 ・低ランニング費用（ガス消費量、低パワー） ・...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェル
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ピンポイントでプラズマ照射が可能！LCD端子清掃や電子部品封止前洗浄の…
『AP-T』は、2.45GHzの超高密度プラズマで高速処理が可能な スポット型大気圧プラズマ装置です。 クリーンドライエアー（CDA）での処理もできるほか、 高速立上り→スイッチOn後1秒未満でプラズマが安定します。 電...
メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部
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独自のリアクターヘッドにより大面積エリアに高密度プラズマを発生！ …
半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワーク（ガラス基板等）の量産インラインシステム構築を容易にし、設備投資とランニングコストの低減を実現！ マニュアルステージ搭載した簡易プラズマユニット機 各種装置へのビルドイン対応可能です...【特徴】 ○マニュアルステージ搭載 ○簡易プラズマユニット機 ○各種装置へのビルドイン対応可能 【ラインナップ】 ・...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェル
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スピーディーで均一！スパークレスでダメージフリーな大気圧プラズマシステ…
0』は、インライン製造用に設計された大気圧プラズマシステム です。 繰り返し再現性に優れ、進行波、反射波、ガス流量、ヘッド温度をリアルタイムで 監視および制御。 部品成型に使われる高密度ポリエチレン(HDPE)およびポリプロピレン(PP)部品等の 感熱材料に対して有効です。 【特長】 ■ソフトウェア制御システム ■モニタリング機能及び制御 ■システムの使用者制限とア...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社日放電子 アドバンストテクニカルスタジオ
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アジア大手電子機器メーカーに実績多数！様々な分野での表面処理を提案しま…
【その他の特長（抜粋）】 ＜バッチ式デスミア装置＞ ■独自の電極構造 ・高密度プラズマ（ICP）により残渣を高効率除去 ・両面処理が可能 ■優れた均一性を実現 ・装置前後から反応ガスを出入れし、基板前後のエッチング差を抑制 ・電極部冷却機構により基板温度を制御・上昇...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク
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超高密度大気圧プラズマ ToughPlasma FPF20-ST
高い処理能力と低価格を実現させた大気圧プラズマ装置
FPF20-STは超高密度ラジカルを発生させることができる世界最高レベルの大気圧プラズマ装置です。 各種パラメータは最適化されており、余計な調整は不要です。 照射距離と速度を変更するだけですのでお客様でも容易に評価...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部 新規事業部
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低温で電気ダメージレスな大気圧プラズマ装置
Tough Plasma は以下のような特徴を併せ持つリモート型大気圧プラズマユニットです。 ◆高密度ラジカル 名古屋大学との共同研究結果を元にした独自の方式により、高密度のラジカルを生成します。 それにより高速での表面処理が可能となり、高い生産性と安定性をご提供します。 ◆電気的に中性...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部 新規事業部
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大気圧プラズマ装置「AP Plasma Precise II」
ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置
ム型) ■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない（完全な高周波電力遮蔽） ■処理中のUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカル発生により、窒素ガスを半減、生産性の向上に寄与 ■添加ガス種の変更により、接着界面に見合う供給結合分子付与の選択が可能 ■パーティクルフリー...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置によるCFRP・長尺繊維束向けの高効率表面改質
CFRP、グラスファイバー、長尺繊維への表面処理
い(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカル発生により繊維束内部まで効率的なドライ洗浄ができる。 ■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能 ■界面制御による同種・異種材料接合技術...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置を用いた効率的な繊維束状用表面改質方法
トリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■プラズマによる精密乾燥（乾燥痕のない）ができる ■高密度プラズマの発生により、窒素ガス消費量が４５％減 ■添加ガス種の変更により、接合相手材質に見合う官能基かアミン基等の選択が可能 ■共有結合分子付与による同種/異種材料直接・接合が可能...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア
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独自のリアクターヘッドにより大面積エリアに高密度プラズマを発生！
半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワーク（ガラス基板等）の量産インラインシステム構築を容易にし、設備投資とランニングコストの低減を実現！ ...インライン自動搬送システムにより最大1500x2000mmサイズのワークを自動処理可能なフルオート機 【特徴】 ・グロー放電プラズマによるダイレクト方式 ・低ランニング費用（ガス消費量、低パワー） ・...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェル
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