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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PRセラミックスの特長や材料から、設計上の注意ポイントまで一挙に解説
セラミックスは硬い、電気に強い、熱に強い、腐食に強い といった特長がありますが 加工によっては歪みや曲りが起こりやすいことも事実です。 当社は1881年から140年以上続く、セラミックスメーカーです。 お客様の仕様に基づいてさまざまなセラミックス部品を提供してきた経験から、 セラミックスの特長を生かすための「設計上の留意点」もまとめた解説資料を作成しました。 【掲載内容】 ■セラミックスの特長...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社友玉園セラミックス
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静電気が視える! 静電気可視化モニタ【1センサ×8、分離型】
狭い場所の帯電測定を可能にした【1センサ×8個】の分離タイプです。 …
<特徴> ・24時間連続測定で、インライン導入可能。 ・狭い場所や離れた場所の帯電測定が可能。 ・付属ソフトウェアによりデータ管理・保存が可能。 <用途例> ・材料表面の帯電分布や電荷移動測定 ・液晶パネルや有機ELの製造ライン上での帯電監視 ・製品に貼り付けた状態でライン上に流し帯電検査 ...〇材料表面の帯電分布や電荷移動測定 〇製造ラ...
メーカー・取り扱い企業: 太洋テクノレックス株式会社 和歌山
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静電圧測定装置に接続する、測定用センサーです。
EVM-308には最大8個、EVM-102には最大2個接続が可能です。 測定距離は10~100mm、最大測定電圧は5~50KVです。 (測定距離により異なります。) ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナカタニ
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超高信頼性『篩』【スーパーマイクロシーブ】※独創技術事例
セムテックエンジニアリングが開発した独創技術を紹介。4K8K液…
株式会社セムテックエンジニアリング