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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PRセラミックスの特長や材料から、設計上の注意ポイントまで一挙に解説
セラミックスは硬い、電気に強い、熱に強い、腐食に強い といった特長がありますが 加工によっては歪みや曲りが起こりやすいことも事実です。 当社は1881年から140年以上続く、セラミックスメーカーです。 お客様の仕様に基づいてさまざまなセラミックス部品を提供してきた経験から、 セラミックスの特長を生かすための「設計上の留意点」もまとめた解説資料を作成しました。 【掲載内容】 ■セラミックスの特長...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社友玉園セラミックス
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EMIテスタ EMI-100/200 -電磁波ノイズ分析/測定-
電磁ノイズの発生源をどこまで特定できますか。
高感度・高分解能測定が可能 3.プローブ回転による配線方向によらない磁界測定の実現 4.多機能な測定結果表示 5.高精度なプローブ移動機構 6.便利な機能 7.多様なプローブが使用可能 8.多くの企業での採用実績 ● EMIテスタは、電子機器から発生する電界・磁界のノイズ分布を高精度に自動測定します。 ● 高精度可動テーブルは、PCBやIC等に複雑な凸凹があっても、その形状を...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ペリテック 神奈川エンジニアリングセンター、東京営業所、ベトナム事業所
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多機能200x200mmウェーハマッピング装置RD8シリーズ
【仕様】 ○基本型式:YWAFER-RD8-CP ○光学範囲および感度型式一覧: 200nm - 2200nm ○対応ウェーハサイズ:2,3,4,6,8インチその他(200x200mmまで) ○マッピング間隔: 0.01mm~(0.02mm繰り返し精度) ●その他機能や詳細についてはお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ワイ・システムズ
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ロボット搬送付き、多機能200x200mmウェーハマッピング装置RD8…
【仕様】 ○基本型式:YWAFER-RD8-WL26、YWAFER-RD8-WL48 ○光学範囲および感度型式一覧: 200nm - 2200nm ○測定対応ウェーハサイズ:2,3,4,6,8インチその他(200x200mmまで) ○マッピング間隔:0.01mm~(0.02mm繰り返し精度) ○ロボット搬送:25枚カセットx2 ○搬送対応ウェーハサイズ:2~6インチ又は4~8インチ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ワイ・システムズ
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ダウンカット工法と業界最狭軸間による高精度・高速加工を実現!
。 ワークセットや段取り時間を削減できます。 材料に合わせて固定砥粒加工モデルもご用意しております。 【特長】 ■業界最狭軸間によりワイヤ挙動を抑えて、高精度加工を実現 ■業界最少8個のVローラにより消耗品コスト削減 ■3面アプローチによる作業性UPで段取り時間削減 ■独自の張力制御技術を搭載し、断線リスク限りなくゼロに ■コラム・ホルダーへ鋳物使用し、高線速・高張力に耐...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社安永 本社
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超高信頼性『篩』【スーパーマイクロシーブ】※独創技術事例
セムテックエンジニアリングが開発した独創技術を紹介。4K8K液…
株式会社セムテックエンジニアリング