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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PRセムテックエンジニアリングが開発した独創技術を紹介。4K8K液晶テレビ…
弊社は、エレクトロフォーミング(電鋳)技術による超微細加工や超高精度ふるい、 高耐圧異形穴の開発・受託製造など、 高信頼性・最高品質・用途別設計に貢献します。 超高信頼性『篩』スーパーマイクロシーブや 目詰りしない分級技術を極めた分級装置『S-150W』を開発し、 今後も独創技術を追及し続けます。 【セムテックエンジニアリングの独創技術の特長】 ・穴径5μm・ピッチ15μm・...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社セムテックエンジニアリング
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小型高出力、位置決めグリーレーザーシステム
位置決めグリーンレーザーは従来の赤色・ヘリウムネオンレーザーに比べ、視認性が高く同じ出力で約8倍の輝度として作用します。 位置合わせをする時に感じていた、視覚的不明瞭さを解決します。 4軸コンパクトホルダー(オプション)は単体で軸だし調整が可能な為、余分な調整用折り返しミラーとそのス...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ブロードバンド
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青函トンネル内空断面の計測にDimetix社製レーザー距離センサ
2022年12月上旬、鉄道・運輸機構殿、鉄道総研殿立会いの下、ジェイア…
全8種類 標準精度(2σ):±1mm~±5mm 繰返精度(2σ):±0.3mm~±1.8mm 測定距離 :0.05~100m(反射板を使用時<500m) 測定スピード :10~2...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社エムティプレシジョン
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オランダAvantes 社製の積分球は光を集積して測定するオリジナル構…
SMAポート有り。レーザ、LED ,ハロゲンランプなどの光源の計測に便利で、LED 計測にはLED を支えるアダプターを使用。 反射測定用のAvaSphere-REFL は側面ポートの他、上部から8 °傾いた位置にライトソース用SMA ポートを持ち、カラー計測や蛍光分光等多彩なアプリケーションに対応。 オプションで、吸収素材をコーティングしたモデルも対応可能です。*反射測定用 ハロゲン光源内...
メーカー・取り扱い企業: フォトテクニカ株式会社
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より簡単・正確・迅速な操作を実現
【特徴】 ○サンプル容器は8連回転式 ○D2ランプは2年以内2,500時間保証 ○USBポートからプリンタ接続可 ○タッチパネル搭載7インチカラーディスプレイ ●その他機能や詳細についてはお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: オリエンタルインスツルメンツ株式会社
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光ファイバー製品に、独自の経験とノウハウを生かし、設計・加工をさせて頂…
入射側のバンドル(結束)径は標準ではφ4mm・φ6mm・φ8mmです。 ○記号 S数字:ストレート・出射側外径 ○標準では出射部形状はφ12 L=20 ・φ5 L=30 ・φ8 L=12 ・φ14=40です。 複数の光源からの入射、また、複数箇...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプテル
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