• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

    • S500-on-customer-site.jpg
    • PQL PIC.jpg
    • 20170928_160044.jpg
    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • いまさら聞けない!セラミックスの基本 ※解説資料無料進呈中 製品画像

    いまさら聞けない!セラミックスの基本 ※解説資料無料進呈中

    PRセラミックスの特長や材料から、設計上の注意ポイントまで一挙に解説

    セラミックスは硬い、電気に強い、熱に強い、腐食に強い といった特長がありますが 加工によっては歪みや曲りが起こりやすいことも事実です。 当社は1881年から140年以上続く、セラミックスメーカーです。 お客様の仕様に基づいてさまざまなセラミックス部品を提供してきた経験から、 セラミックスの特長を生かすための「設計上の留意点」もまとめた解説資料を作成しました。 【掲載内容】 ■セラミックスの特長...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社友玉園セラミックス

  • 磁気活水装置“無雑”設置のメリットとデメリット 製品画像

    磁気活水装置“無雑”設置のメリットとデメリット

    磁気活水装置“無雑”設置のメリットとデメリットを基本情報をご案内。

    冷却塔使用で)  4、濁度の向上→補充水減少  5、装置・機器のメンテナンス周期の長期化→省力化、簡素化  6、無動力→エネルギー不要  7、装置・機器配管の劣化防止→長寿命化、省資源  8、装置・機器の経済運転の長期化 【デメリット】  1、定期的な“無雑”のメンテナンス→使用水と使用状況で周期は変わる  2、圧損発生→若干の為運転上は殆ど支障なし  3、冷却水の入替作業...

    メーカー・取り扱い企業: 東光株式会社

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR