資料『次世代半導体の今を説く～SiC・GaN解説～』【進呈中！】

PR次世代半導体SiC・GaNの新情報がここに！

エネルギーの効率的な利用と環境への配慮が今後ますます重要となる中で 従来のシリコン半導体よりも優れた特性を持つ次世代半導体が大きな注目を浴びています。 その中でSiC(シリコンカーバイト)・GaN(窒化ガリウム)の特徴や課題を解説しております。 次世代半導体に触れ、未来の製品開発のヒントとなれば幸いです。ぜひご活用ください。 技術革命の先駆けとなる情報が今すぐあなたの手に。お見逃しなく！ ...

メーカー・取り扱い企業： ジェルグループ【株式会社ジェルシステム／株式会社ナカ アンド カンパニー】

【内部流路】拡散接合【セラミックス・石英ガラス・純モリブデン】

PR拡散接合により、内部に流路を有する複雑形状が実現可能！石英ガラス、純モ…

拡散接合は材料同士を直接接合させる技術です。 接着剤、ロウ材を使用しないため、不純物による汚染問題が起きません。 また、塑性変形の発生を抑えることもできます。 拡散接合を用いることで、通常の切削加工では実現できない中空構造や、内部流路、真直度の良い深穴を形成可能です。 ヘリウムリークテスターを保有しておりますので、リークテストの実施も可能です。 【拡散接合実績材質】 ・アル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トップ精工

ＳｉＣコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたＳｉＣ（シリコンカーバイド）膜をＰＶＤ…

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により従来に無かったＰＶＤ法による」ＳｉＣ成膜を実現。 ４００℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたＳｉＣ膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。 膜厚や膜質の制御性も高くＣＶＤに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニン...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

『小型カスタムＳｉＣパワーモジュール』の試作・製造

従来比1/2の小型化を実現！

従来比（Siデバイス）で1/2以下の小型化と250℃以上の高耐熱対応が可能なＳｉＣパワーモジュールを、カスタム仕様で開発試作から製造まで対応致します。 電気自動車・ハイブリッド自動車のモーターを駆動制御するインバータや、ソーラー発電・非常用蓄電装置の電力変換装置にも搭載可能です。 ...【製品の概要】 立体構造による小型化とフリップチップ実装方式の採用で業界最小クラスの小型化を実現し...

メーカー・取り扱い企業： マイクロモジュールテクノロジー株式会社

イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開…

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜だけでなくＳｉＣやＴｉＣ、ＣｒＮなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。 独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。 新たな表面機能を生み出す用途...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

クリスタル光学　大型設備対応　超精密鏡面研磨加工

大型研磨加工設備完備！様々な材質を鏡面に仕上げます。

光学単結晶の鏡面研磨技術は創業来の歴史を積み重ねてきました。それを礎とした超精密研磨加工は当社の誇りともいえます。豊富な加工実績で、材料を問わない加工技術を確立しました。光学単結晶から金属・樹脂まで様々なお客様のニーズにお応え致します。 【特徴】 ○超大型オスカー研磨機（φ3500） 高度な熟練が必要な球面研磨、平面研磨などのオスカー研磨加工も可能 ○大型ラッピングマシン 研磨定盤サ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリスタル光学

排気回収機構を設けた「SiCウエハ用ベルヌーイチャック」

クリーンルームにて使用可能「SiCウエハ用ベルヌーイチャック」

排気回収機構を具え、クリーンルームへの排気の排出を減少させ、クリーンルーム内での使用を可能にした「SiCウエハ用ベルヌーイチャック」 ...　　　　　　　　　　　 1.排気回収機構：ＳｉＣウエハ・基板用　クリ-ンルーム対応ベルヌーイチャック「フロートチャックWASｉＣ型」は、保持するウエハ に対向する作動面と、作動面の中央部に設けられたクッション室と、クッション室中央部に設けられたノズルお...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

一般機器関連　焼結部品

金属の特性を活かしながら、各種形状に成形できます！

焼結部品は、 原料粉末の多様化により、銅系／鉄系で、用途に合わせた配合が出来ます。 プレス成形により寸法が正確で、複雑な形状にも応じられます。 ポーラス（空孔）を持つため、含油により潤滑性・耐摩耗性を発揮します。 熱処理等の後処理で、さらに特性を付加することが出来ます。 ２つ以上の部品を一体化しＡＳＳＹ部品を構成できるなどの優れた特性を備えています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタ...

メーカー・取り扱い企業： トーヨーテクノ株式会社

クリスタル光学　大型設備対応　切削加工

高精度大型加工機と技術の融合。5軸複合マシニングセンタを新たに加え、社…

門型5面加工マシニングセンタ、５軸複合マシニングセンタ、大型グライディングセンタ、などの、高機能、高精度の大型化へのニーズに対応できるラインナップで、お客様への多種多様な要求にお応えできる加工を目指しております。 ○一貫加工を目指し設備強化 ・門型５面加工機 ＭＶＲ45（ストローク：4250×8000×1900ｍｍ） ・MＶＲ25（ストローク：2050×4000×1500ｍｍ） →従来...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリスタル光学

クリスタル光学　鏡面研磨加工技術

材料を問わない鏡面研磨加工をご提供。 単結晶から金属・セラミック・樹…

○鏡面の粗さはナノレベル。 ＊光学式表面粗さ測定による実績（一例） ・銅　Ｃｕ（９９．９９％）　０．４ｎｍ ・ステンレス　ＳＵＳ４３０　０．３ｎｍ ・樹脂材　ＰＭＭＰ　３ｎｍ ・単結晶材　シリコン（１００面）　０．４ｎｍ ・光学単結晶材　ＮａＣｌ（１００面）　２．８ｎｍ ○素材を選ばない鏡面研磨 ＊取り扱い材質（実績一例） ●金属 　ステンレス 　アルミニウム 　銅 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリスタル光学

大型設備対応　クリスタル光学　高精度研削加工

究極の平面が未来を拓く。ミクロン・サブミクロンの世界を研削加工にて実現

当社が主力加工と位置づける平面研削加工技術。大型プレート・長尺物の加工物を得意としています。 材質は、難削材とされるアルミや樹脂なども高精度に加工を行い、材料を問わない技術をご提供します。 【特徴】 ○大型平面研削盤 高精度研削加工でステンレス、アルミなどの金属が得意 ・超大型門形平面研削盤 　KSL－F25（加工範囲：5000×3000） 　門間3000mmは、超大型プレートの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリスタル光学