• ガス加熱用高効率ヒータ『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』 製品画像

    ガス加熱用高効率ヒータ『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』

    PR小型・軽量で高効率!手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータをご紹介

    ワッティーが提供する『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』は、 280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータです。 低流量1~5L/min 250℃対応。 K熱電対、サーモスタット、外装用断熱材を標準装備しております。 【特長】 ■280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータ ■低流量1~5L/min 250℃対応 ■K熱電対、サーモスタ...

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    メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社

  • 高速5軸ミリングマシン「RXU」+オートメーション「RCS」 製品画像

    高速5軸ミリングマシン「RXU」+オートメーション「RCS」

    PR短時間で高精度加工を実現する高速5軸ミリングマシンに省人化を実現するオ…

    ドイツ レダース社製の高速 ミリングマシン「RXU」シリーズは全軸リニアモーター駆動+リニアガイドの仕様で経年変化なく高精度加工します。高速スピンドルを標準装備し超硬等HRC60以上の高硬度材のミリングが可能です。チャックしたまま掴み替えることなく、ミリング加工の後はジグ研削加工(オプション)、機上測定まで一連の工程が可能です。 掴み換えなく1台で完成行程まで行える為、「機械設置面積の削減」「人...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゴーショー

  • 5"6"9"マスクケース 製品画像

    5"6"9"マスクケース

    5"6"9"マスクケース

    5"6"9"フォトマスクを搬送する為のケースです。 帯電防止材料をしております。 また積み重ねることも出来ます。...

    メーカー・取り扱い企業: ツインリンクス株式会社

  • レーザー描画装置 製品画像

    レーザー描画装置

    研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

    PicoMasterシリーズは、研究開発向けの高解像度のマスクレスレーザー直接描画装置です。 PicoMasterの特徴 ●高解像度 300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション:375nm) ●グレースケールレベル4095階調 ●3つの描画モード(300nm、500nm、900nm) ●対応基板サイズ5mmx5mm~8インチ*モデルにより異なる ●...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ 製品画像

    レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

    高速高解像度レーザー露光装置

    ングが可能です。 グレイスケールリソグラフィー用途において表面粗さ精度を高めるために、1000階調のグレイスレベルをサポートしています。 【特長】 ■高い安定性・高速高解像度露光 ■5つの描画モードまで切替が可能 ■高精度アライメントカメラシステム ■グレースケール描画モード ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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    レーザー直接描画装置『DWL 66+』

    研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

    力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーションの研究開発に貢献します。 【特長】 ■マスクレス露光やマスク作成用 ■2.5Dグレースケール露光モード(標準128階調、オプション255階調または1000階調) ■豊富な機能と拡張性により複数用途に対応 ■6つの描画モード(0.3um-4.0um)まで(ピクセルサイズ)...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • 株式会社PARAM 会社案内 製品画像

    株式会社PARAM 会社案内

    超高速電子ビーム描画技術・要素技術の開発・製造・コンサルティング!微細…

    株式会社PARAMは、電子ビームを用いたウェハ直接描画に使用する並列型 マルチコラム・マルチビームを用いた電子ビーム技術開発会社です。 近い将来、微細加工技術は5nm以下が必要とされ、用途は人工知能チップはじめ 多くの分野で、開発から量産技術として必要とされています。 当社は各種電子ビーム要素技術と関連技術で皆さまのお役に立てるように 精一杯尽力い...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社PARAM

  • 内層板用両面同時露光装置 光 HDE110S 製品画像

    内層板用両面同時露光装置 光 HDE110S

    今までの露光装置とは生産性が違います!

      ◆高生産性    ・高スループット:最大5枚/分    ・大基板サイズ対応:最大30×24インチ   ◆高精度露光    ・高精度アライメント:新画像処理システム    ・安定露光:楔形真空接合方式  ※詳細は『カタログダウン...

    メーカー・取り扱い企業: 豊和工業株式会社 機械事業部CE営業グループ電子機械チーム

  • 電子ビームリソグラフィ装置の世界市場調査レポート、サイズ、シェア 製品画像

    電子ビームリソグラフィ装置の世界市場調査レポート、サイズ、シェア

    電子ビーム描画装置市場は、2035 年までに約 465.7百万米ドルの…

    電子ビーム描画装置市場規模とシェアは、2022 年の市場価値約 178.1百万米ドルから 2035 年までに約 465.7百万米ドルに達すると予想されます。また、 2023―2035 年に予測期間中に約 8.34% の CAGR で増加すると予測されています。SDKI のアナリストは、電子ビーム...

    メーカー・取り扱い企業: SDKI Inc.

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