• 電流導入端子 製品画像

    電流導入端子

    PR高真空、超高真空へ の電流導入端子です!

    米国MPFプロダクト社の電流導入端子のご紹介です。 ■MIL丸型、C-Sub型のマルチピン、熱電対、高電流・高電圧タイプ、同軸タイプ等各種電流導入端子を取り扱っております。 ■電流導入端子と併せて使用するコネクタ、ケーブル等もお取り扱いがございます。 ■標準品のカスタマイズ(フランジの変更、ピン長さの変更等)にも対応しております。まずはお問い合わせ下さいませ。 ※詳しくはカタログを...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社テクサム

  • 2線式レーダーレベル計 Pulsar『REFLECT』 製品画像

    2線式レーダーレベル計 Pulsar『REFLECT』

    PR上下水・河川のレベル計測、及び潮位計測に好適。 ※御手頃価格です。

    ■電波計(マイクロ波式、技適認証番号:209-J00487) ■計測レンジ:8m、20mの2機種 ■周波数:63GHz ■ビーム角度:6° ■外径寸法:135mm(高さ) x 102mm(直径) ■重量(センサ本体):1kg ■精度:2mm ■起動時間:ウォームブート5秒、コールドブート10秒 ■IOT接続に好適(河川レベル計測等) ■大気圧稼働温度:-40 °C ~ +80 ...

    メーカー・取り扱い企業: デレーコ・ジャパン株式会社

  • 多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」 製品画像

    多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C

    リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

    多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • MBE装置適応蒸発セル EF 40C1型 製品画像

    MBE装置適応蒸発セル EF 40C1型

    手動及び自動シャッターは、純度の高いタンタルで製作!

    EF40C1はMBE装置に適応した蒸発セルとして開発されました。 モリブデンフリーの材質によって製作されているため、250~1500℃の範囲で蒸発する低融点及び中融点材料に対して使用できます。 詳しくは、カタ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノポート

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ポリパラキシレン蒸着成膜装置 製品画像

    ポリパラキシレン蒸着成膜装置

    ポリパラキシレン成膜に特化した装置です。メーカは35年以上、ヨーロッパ…

    おります。 本装置の特徴は、次の通りです。 ・装置クリーニング及びメンテナンスが、容易です。 ・基材との密着性を向上させる為の前処理がin-situで処理可能です。 ・装置に付帯するPLCによりプロセスが実行可能です。成膜レシピのログもCSVファイルに出力することができます。 ・装置のカスタマイズが可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • BS-60610BDS ボンバード蒸着源 製品画像

    BS-60610BDS ボンバード蒸着源

    ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応

    【仕様】 BS-60610BDS:ボンバード蒸着源 本体 6点ライナータイプ 出力:最大 4.8 kW 冷却水:4~5 L / min, 水温 10 ~ 25°C 動作圧力:5×10-5 ~ 1×10-2 Pa ...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • LUXEL社製 抵抗加熱蒸着源(エバポレータ) RADAK 製品画像

    LUXEL社製 抵抗加熱蒸着源(エバポレータ) RADAK

    有機物蒸着にも対応。 コンパクトで取扱いが簡単な、抵抗加熱蒸着源

    ックカバーでルツボの出し入れが容易 - 低熱損失、低消費電力 - 均一なコーティング分布 - 多種類の蒸着材料に対応 ★オプション★  ●熱電対 type K(上限1200℃)/C(上限1500℃)  ●ルツボ アルミナ、石英 他  ●ライナー タングステン、モリブデン、タンタル  ●コントローラ 3種 ...

    メーカー・取り扱い企業: ラドデバイス株式会社

  • モリブデン・タングステンのプランゼージャパン 総合カタログ 製品画像

    モリブデン・タングステンのプランゼージャパン 総合カタログ

    原料(粉末)から最終製品まで一貫生産。ずば抜けて高機能な材料を提供可能

    電池でも、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブ、クロムが従来の金属ではできなかったことを可能にします。 タングステン、タンタル、モリブデンはなにより耐熱性に優れた金属です。鉄や鋼は1600°Cでも融けだしますが、プランゼーの材料は、その程度の温度では変化しません。融点が高いので、高温炉のヒーターや照明器具の白熱フィラメントなどの用途に適しています。電気開閉器の接点では、優れた電気・熱伝導...

    メーカー・取り扱い企業: プランゼージャパン株式会社

  • IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置 CVI series 製品画像

    IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置 CVI series

    真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能!

    【特徴】  ・従来技術の真空蒸着法に加え、イオンビームを組み合わせた複合技術  ・低温で低エネルギー照射が可能  ・曲面や立体にも成膜が可能 【主な用途】  ・超硬工具用保護膜(c-BN)  ・食品用バリア膜(アルミ)  ・太陽電池用下地膜(アルミ)  ・光学用フィルタ膜(ZrO₂、AI₂O₃等) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...装置販売...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリエイティブコーティングス

  • スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A 製品画像

    スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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