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12件 - メーカー・取り扱い企業
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PR低電源電圧で動作するI2Cインターフェースの車載向けFeRAMに512…
当社は、125℃の高温環境下において 低動作電流および10兆回のデータ書き換え回数を保証する I2Cインターフェースの車載向けFeRAMを取り揃えています。 今回新たに、最大容量となる 512KビットFeRAM『MB85RC512LY』をラインアップに追加。 ADAS(先進運転支援システム)をはじめとする車載用途のほか、 産業用ロボットなどにも適しています。 【特長】 ...
メーカー・取り扱い企業: 富士通セミコンダクターメモリソリューション株式会社 本社
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ガス加熱用高効率ヒータ『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』
PR小型・軽量で高効率!手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータをご紹介
ワッティーが提供する『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』は、 280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータです。 低流量1~5L/min 250℃対応。 K熱電対、サーモスタット、外装用断熱材を標準装備しております。 【特長】 ■280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータ ■低流量1~5L/min 250℃対応 ■K熱電対、サーモスタ...
メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社
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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300
300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 …
Rヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ300mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):150K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):90K/min.(T=450℃>200℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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近赤外線による加熱方式を採用!酸素濃度を測定しながらのリフロー状態の観…
当製品は、近赤外線による加熱方式を採用しており、プロファイルの 条件出しが容易なリフローシミュレータです。 N2導入機構を有し、酸素濃度を測定しながらのリフロー状態の観察も 可能で、ワークの挙動を観察しながらのシミュレーションもできます。 プロファイル条件もプログラム設定により、容易に多種類変更可能です。 【特長】 ■容易なプロファイル条件出し ■N2雰囲気での測定も可...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社九州日昌
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タッチパネル搭載多機能!大気、窒素、真空、ギ酸、水素などの各リフローに…
【標準ハードウエア仕様(一部)】 ■有効対象物サイズ(W×D×H):620mm×200mm×25mm ■最大到達温度:300℃ ■最大昇温速度:120K/min(2K/sec) ■加熱方式:赤外(IR)光ヒーター ■最大降温速度:60K/min(T=300℃>200℃) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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100V電源対応!Φ4inch、100mm角対応で業界最小クラスのコン…
H)で、装置重量は約10kgです。 【標準ハードウエア仕様(一部)】 ■有効対象物サイズ(W×D×H):105mm×105mm×35mm ■最大到達温度:400℃ ■最大昇温速度:120K/min(2K/sec) ■加熱方式:カートリッジヒーター ■最大降温速度:180K/min(T=400℃>200℃) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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ギ酸還元によってフラックスレスでの実装が可能です。 フラックスを用いる…
・ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも ・最大300 mm x 300 mm基板対応 ・最大到達温度450℃ ・最大昇温速度150 K/min ....
メーカー・取り扱い企業: 東機通商株式会社
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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200
金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデ…
Rヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ200mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):600K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):200K/min.(T=650℃>400℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa)...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…
Rヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ100mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):180K/min.(T=450℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■窒素ガス:0.35~0.4MPa(3....
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S
対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイ…
■加熱方式:クロス配列IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1.5%以内 ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):90K/min.(T=300℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコント...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…
Rヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ200mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):240K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min.(T=400℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコン...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210
フラックスなどによりコンタミが多く発生してもメンテナンスが容易なモデル…
Rヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ200mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min.(T=400℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコン...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…
Rヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ200mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):100K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):100K/min.(T=400℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコン...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸ガス・水素ガス還元両対応!タッチパネル搭載多機能のはんだリフロー装…
『RSS-160』は、カートリッジヒーターによる100K/minの昇温が可能な はんだリフロー装置です。 Φ6inch、150mm角対応で、鉛フリー・ボイドレス・フラックスレスを実現。 大気・窒素・真空・ギ酸・水素などの各リフローに1台で対...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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