• 各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』 製品画像

    各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』

    PR“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール!4-8…

    『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スルー...

    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • 【お役立ち情報】アルミナ代替 複合材料SA701 製品画像

    【お役立ち情報】アルミナ代替 複合材料SA701

    PR大型アルミナ部品でお困りのお客様へ - その問題、セラミックス複合材料…

    半導体製造装置関連の市場拡大に伴い、セラミックスの調達問題が発生しております。特に大型アルミナ部品は供給元が限られ、長納期化により装置開発スケジュールに影響がでております。 セラミックス金属複合材料SA701は、アルミナに比べヤング率や曲げ強度は若干劣りますが、破壊靭性値が高く割れにくい材料であり、ハンドリングが容易です。密度はアルミナの約3/4と軽く、直ネジを加工できるため、金属ブッシュを必要...

    メーカー・取り扱い企業: 日本ファインセラミックス株式会社

  • SiCデバイスの裏面発光解析 製品画像

    SiCデバイスの裏面発光解析

    SiCデバイスの前加工→リーク箇所特定→物理解析/成分分析までスルー対…

    当社では、『SiCデバイスの裏⾯発光解析』を行っております。 SiCは従来のSi半導体と比べ、エネルギーロスの少ない パワーデバイスであり注目を集めていますが、Si半導体とは 物性が異なるため、故障解析も...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイテス

  • LV-SEMとEBIC法によるSiC MOSFETの拡散層の観察 製品画像

    LV-SEMとEBIC法によるSiC MOSFETの拡散層の観察

    SiCパワーデバイスでも、特定箇所の断面作製、拡散層の形状観察、さらに…

    当社では、LV-SEMとEBIC法によるSiC MOSFETの拡散層の観察を 行っております。 FIBを用いた特定箇所の断面作製、LV-SEM/EBICによる拡散層の 形状観察、さらにTEMによる配線構造、結晶構造までのスルー解析が...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイテス

  • SiCウェーハのエッチピットの形状解析 製品画像

    SiCウェーハのエッチピットの形状解析

    SiCウェーハに形成されたエッチピットを3次元X線顕微鏡(X線CT)で…

    パワー半導体の普及に向け、低欠陥のSiCウェーハの開発が 進められています。 X線CTは非破壊で物質の形状を3次元的に可視化し、定量評価できる手法です。 PDF資料にて、SiCウェーハに形成されたエッチピットを3次元X線顕微鏡 (X...

    メーカー・取り扱い企業: 東芝ナノアナリシス株式会社

  • SiC/GaNデバイスモデル搭載回路シミュレーターScideam 製品画像

    SiC/GaNデバイスモデル搭載回路シミュレーターScideam

    SiC/GaNデバイスモデルを搭載 損失解析が可能な回路シミュレーター…

    SiC/GaNデバイスモデルを搭載した国産の高速回路シミュレーター、Scideam(サイディーム)をご紹介させて頂きます。 25年以上の歴史のある演算アルゴリズムと新たに開発した回路エディター、波形ビューワーにより快適なシミュレーション環境を提供します。 開発初期段階でご利用いただくことにより、仕様未達や不具合などの要因をあらかじめ潰すことができ、設計期間とコストを削減できます。いわゆる「フロントロ...

    メーカー・取り扱い企業: 穂高電子株式会社 パワエレソリューション

  • ウェハ表面解析 製品画像

    ウェハ表面解析

    短時間で測定データの収集が可能!前処理が不要で、試料の再利用ができます

    10V」による、ウェハ表面解析 を受託いたします。 カンデラでは、微小欠陥を画像データとして検出可能。欠陥の発生マップと 個別欠陥状況の双方が観察できます。 対象材料はサファイア、SiC、GaN、他化合物半導体で、適用サイズは φ2インチ~φ6インチ ウェハ(t1mm以下)となっております。 【特長】 ■短時間で測定データの収集が可能 ■前処理が不要、試料の再利用が可...

    メーカー・取り扱い企業: シンコー株式会社

  • 短絡耐量評価・解析レポート 製品画像

    短絡耐量評価・解析レポート

    短絡耐量性を測定し、故障メカニズムを明らかにします!

    株式会社エルテックは『短絡耐量評価・解析レポート』を販売しています。 短絡故障の瞬間に爆発する他のSiC MOSFETと比較して、 INFINEON CoolSiC MOSFETは爆発することなくソフトに故障します。 このレポートでは、短絡耐量性を測定し、故障メカニズムを明らかにしています。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エルテック

  • 次世代自動車向け熱マネジメント ソリューション 製品画像

    次世代自動車向け熱マネジメント ソリューション

    自動車関連の熱設計・熱対策の課題を解決する特設WEBサイト必見! ~三…

    コンテンツを交えて、ソリューションを提供いたします。 また、製品に関する資料もダウロード可能ですので、是非ご活用ください。 ■サーミスタセンサ  ・LEDの熱による劣化を抑えたい  ・SiCパワー半導体に対応した耐熱品が欲しい  ・急激な温度変化をレスポンス良く測りたい  ・センサの構造、形状を相談したい ■AuSnペースト  ・AuSnの厚み・形状を自在に変更したい ...

    メーカー・取り扱い企業: 三菱マテリアル株式会社 高機能製品カンパニー 電子材料事業部 営業部

  • パワー半導体の解析サービス 製品画像

    パワー半導体の解析サービス

    故障箇所→拡散層評価を含めた物理解析/化学分析までスルー対応いたします…

    分離独立して以来、 独自の分析・解析技術を培ってきました。 Si半導体だけでなく、話題のワイドバンドギャップ半導体も対応可能です。 【特長】 ■OBIRCH解析ではSiだけでなく、SiCやGaNデバイスにも対応 ■表裏どちらからでもFIB加工可能 ■PN接合部に形成された空乏層を可視化 ■EDS、EELS分析といった元素分析も対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイテス

  • 半導体デバイス用汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトAPSYS 製品画像

    半導体デバイス用汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトAPSYS

    多種多様な材料や物理モデルを用意、様々な解析が可能な半導体デバイスシミ…

    , InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」 製品画像

    半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」

    2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロス…

    , InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D 製品画像

    半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D

    新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

    , InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 第一原理計算 材料シミュレーションmatelierPHASE/0 製品画像

    第一原理計算 材料シミュレーションmatelierPHASE/0

    第一原理計算による材料シミュレーション「matelier PHASE/…

    基づくパラメータは必要ありません。実験結果の解釈や、新規材料の物性値予測にもご活用いただけます。 【 主な解析対象 】 半導体(IV族、III-V族、窒化物、酸化物、シリサイド系;Si, SiC, GaN, Ga2O3, ZnOなど) / 誘電体(high-k, low-k、強誘電体、圧電体) / 磁性体(強磁性体、ハーフメタル) / 有機化合物(分子性結晶) / 金属(合金) / 鉱物...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アスムス

  • PICS3D(Fabry-Perot Edition)     製品画像

    PICS3D(Fabry-Perot Edition)

    2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム(旧…

    , InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 短波長レーザを用いたSiCデバイスのOBIRCH解析 製品画像

    短波長レーザを用いたSiCデバイスのOBIRCH解析

    Si半導体とは物性が異なるため、故障解析も新たな手法が必要となります!…

    当社では、短波⻑レーザを⽤いたSiCデバイスのOBIRCH解析を 行っております。 SiCは従来のSi半導体と比べ、エネルギーロスの少ないパワーデバイス であり注目を集めていますが、Si半導体とは物性が異なるため、 故障...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイテス

  • SiC MESFETの3次元シミュレータ 製品画像

    SiC MESFETの3次元シミュレータ

    SiC MESFETの3次元デバイス解析ツール

    MaskEditorによるマスクパターン設計、CSupremによるプロセスシミュレーション、APSYSによるデバイスシミュレーンまでのフローで設定のポイントを紹介。また計算結果をグラフィカルにプロットし解析のポイントや特性を例示。...<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 【動画】半導体デバイス用2D/3D解析・設計ソフトAPSYS 製品画像

    【動画】半導体デバイス用2D/3D解析・設計ソフトAPSYS

    多種多様な材料や物理モデルを用意、様々な解析が可能な半導体デバイスシミ…

    , InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 【動画】半導体レーザ用3Dデバイスシミュレーター PICS3D 製品画像

    【動画】半導体レーザ用3Dデバイスシミュレーター PICS3D

    モード、光学利得、光強度、スペクトル、キャリア分布、バンド、波動関数な…

    , InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 【動画】半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」 製品画像

    【動画】半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」

    2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロス…

    , InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ...

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  • 【動画】PICS3D(Fabry-Perot Edition)  製品画像

    【動画】PICS3D(Fabry-Perot Edition)

    2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム(旧…

    , InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

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