各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』

PR“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール！4-8…

『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スルー...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【お役立ち情報】アルミナ代替　複合材料SA701

PR大型アルミナ部品でお困りのお客様へ － その問題、セラミックス複合材料…

半導体製造装置関連の市場拡大に伴い、セラミックスの調達問題が発生しております。特に大型アルミナ部品は供給元が限られ、長納期化により装置開発スケジュールに影響がでております。 セラミックス金属複合材料SA701は、アルミナに比べヤング率や曲げ強度は若干劣りますが、破壊靭性値が高く割れにくい材料であり、ハンドリングが容易です。密度はアルミナの約3/4と軽く、直ネジを加工できるため、金属ブッシュを必要...

メーカー・取り扱い企業： 日本ファインセラミックス株式会社

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　厚みについては応相...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　厚みについては応相...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

GaN成膜装置治具用ドライ洗浄装置「MDC8540L」

【無料デモ実施中！】新開発・高性能設計で大幅なコストダウンを実現！作業…

ズのフラッグシップモデルです。 量産時の製品歩留まりの向上、ランニングコスト削減に最適です。 【特徴】 ■GaN、AlN成膜装置に使用する各種治具のドライ洗浄に最適 ■洗浄可能治具は、SiCコートカーボンサセプター、石英治具等 ■ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 ■ウエット洗浄や、大量の予備部品不要 ■本装置導入による、メンテナンス費用の削減 ■作業者に負担のかからない...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メープル

ME-5000　枚葉式スピンエッチャー　

ウエハ300mm、両面処理対応型メカグリップの枚葉式スピンエッチャーで…

『ME-5000』は、シリコンウエハ300mm/８.6.4インチ、８.6.4インチSiC及びGaNウエハ対応型メカグリップの枚葉式スピンエッチャーです。 エッチングチャンバーの上下可動方式で２本のアームによる動きは旋回、上下運動が可能です。 洗浄部カバー内に気流を作り、薬液は酸系...

メーカー・取り扱い企業： マック産業機器株式会社 テクノロジーセンター

カスケードポンプ『FKF型シリーズ』

小型で軽量、装置組込も容易なFKF型シリーズをご紹介！

【仕様】 ■口径：20×20mm～32×32mm ■吐出量：5L/min～86L/min ■全揚程：10m～50m ■軸封方式：メカニカルシール方式（セラミック×カーボン、SiC×SiC） ■モーター極数：4P（1450min-1/50Hz　1750min-1/60Hz) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社丸八ポンプ製作所

ターボ式脱気装置　DeO（ディオ）ターボ

現在お使いの超音波洗浄機を、改造なしに大幅パワーアップ！

今ご使用の超音波洗浄器に満足されていない方に。 この装置を既存の洗浄器へ接続するだけで、洗浄力を飛躍的に向上させ、かつ、今ご使用の超音波洗浄器を2階級特進させます。 DeOターボは最強の吸い込み性能を備えたスーパー渦流タービンポンプにより、真空タンクに負圧を発生させて洗浄液を脱気（液中に溶け込んだ空気を取り除く）する装置です。 高価な真空洗浄器への大きな投資は不要です。脱気効果で、既存の超音...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニクニ 本社、本社営業部、大阪営業所、名古屋営業所、福岡営業所

シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置

ニーズに合わせた好適なカスタム装置を提供！プロセス最適化に向けた設計が…

【装置仕様(抜粋)】 ■ウェーハサイズ：φ200mm・φ300mm ■ウェーハ材質：シリコン(SiCなどの化合物半導体は、別途仕様打合せ必要) ■処理槽及び構成：ライン構成により別途仕様打合せ ■HEPA又はULPA：数量は構成により決定 ■薬液：O3・HF・NCW・KOH・NH4OH・H...

メーカー・取り扱い企業： PHT株式会社

シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置！洗浄方法の…

レー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を１つのチャンバーで行う枚葉装置 ◇　シングルチャンバーで完結する省スペース型 ◇　Si（シリコン）、LT（リチウムタンタレート）やSiC（炭化ケイ素）他、 　　各種ウェハに対応 ◇　異物（有機物・無機物）の除去、金属イオンの除去 ◇　洗浄項目・装置構成の変更に柔軟に対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

卓上スピン洗浄装置

上位機種と同等の高い洗浄性能が得られます。

手洗い洗浄とは異なり、ばらつきの無いハイレベルな表面品質が得られます。 ■基盤品質Upと洗浄作業費削減の両立を達成 　◎例えば、4台の卓上洗浄機を人工代の安い1人の作業者で運用処理 ■Si、SiC、GaN、サファイア、GaAs、LT等の処理に最適 ■丸形状基板は勿論、Crマスク等の角形状にも対応 　◎Maxサイズ：Φ20mm、6インチ角 ■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソフエンジニアリング