SiO2 | イプロスものづくり

PR環境配慮型製品の開発にお役立ていただけるプラスチック材料各種をはじめと…

我が国は資源小国であり他国に資源を依存しています。また、人類80億人時代にたった1度の使用で物を廃棄することは資源効率が不十分であると思います。そうした考えのもと、当社ではリサイクル材料を各種開発・販売しております。これらのリサイクル材料等を活用した製品を設計・開発していただくことで、循環型社会の実現やSDGsの達成に貢献することが可能です。【リサイクル材料のご紹介】・エコマー...

メーカー・取り扱い企業：緑川化成工業株式会社本社

簡単大気圧でSiO2コーティング！プラズマコートUL-Colat

弊社にてデモ可能！市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …

条件で製膜をする事が可能です。プラズマ処理装置を用いた市場に類を見ない画期的な設備です。量産用途からR&D用途まで多用途にお使いいただけます。プラズマによる表面処理で濡れ性改質、そしてSiO2コーティングを同じ機械で行うことが可能です。プラズマコートを行わない場合は通常のプラズマ処理機として塗装やインクの接着の前処理機としてもお使いいただけます。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会本社

内外径複合研削盤　MCG-500SIO

内外径を同時加工可能なセンタレスグラインダ

センタレス研削盤をベースに外周面、内周面の同時研削を実現することで、精度の向上、工程の短縮、加工コストの低減、機械設備の低減そして省スペース化を実現する複合研削盤です。...【内外径同時研削加工】・外周面研削工程中に内周面研削工程が完結する圧倒的パフォーマンス！・高精度に仕上げられた外周面を回転基準とした理想の内周面加工で得られる高い同心度！【ワークのセンタレス支持方式】・1 回の...

メーカー・取り扱い企業：ミクロン精密株式会社

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

鉱物『タルク（3MgO4SiO2H2O）』

粒子表面の大部分が親油性であり、扁平粒子！様々な分野で使用されている鉱…

『タルク』は、滑石と呼ばれる天然鉱物の中で柔らかい扁平結晶構造の鉱物です。特に粒子表面の大部分が親油性であり、扁平粒子であることが大きな特長で様々な分野で使用されています。良質のタルク原料は、中国、豪州、米国等で産出され、さらに産地を限定した原料を輸入して粉砕、分級加工して製品化します。【ラインアップ（一部）】 ■PS-IC ■PS ■雪 ■CS ■S-1...

メーカー・取り扱い企業：ソブエクレー株式会社

流体せん断装置『SIO』※資料進呈＆ロボドリル用キット無料貸出中

水の水素結合を壊して加工液の浸透・冷却・潤滑性UP。「FANUC ロボ…

『SIO』は、特殊な内部構造で水を分子レベルで細分化し、加工液の浸透・冷却・潤滑性を改良できる装置です。砥石や工具、ワークにまとわりつくような加工液により、加工効率を高めることが可能です。現在、水分子と水素結合について解説した資料を進呈中。本製品がなぜ加工効率アップに貢献できるのかを紹介しています。【SIOの特長】 ■水の水素結合を壊して加工液を活性化し、せん...

メーカー・取り扱い企業：株式会社塩業務基地

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・異形状・サイズ基板の同時処理　・高い成膜速度　・シンプルメンテナンス　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。【特徴】　・低温(150～300℃)成膜　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜　・シンプルメンテナンス　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル　・...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高レートイオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。　ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）

段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。低粘度～高粘度レジス…

現しました！ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、IｎP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！【特長】 ■段取り替...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンのマグネトロンスパッタ装置です。アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プレーティング法、真空蒸着法に加え、プラズマＣＶＤ法によるコーティングサービスも行っております。現在、プラズマCVD法での対応膜種は、DLC（Diamond-Like Carbon）、SiO2、SiN、SiCの４膜種とさせていただいております。...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

PVD装置

ダブルリングマグネトロンDRM400を搭載したPVD装置

るユニポーラ・バイポーラモードの選択、且つ基板回転機構・冷却機構・RFバイアス機構を搭載した、　優れた膜厚均一性、超高速成膜可能なPVD装置です。 ●アプリケーション　SAWフィルター(SiO2膜)、圧電膜(AlN膜)、光学系(Si3N4, SiO2, HfO2, Ta2O5, Al2O3)、電子部品（Si3N4, SiO2, AlN膜、強誘電体膜）等の分野に最適なPVD装置をご提案致し...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

ThetaMetrisis社　非接触ポータブル膜厚計

膜厚の測定に好適。多層膜厚み同時測定も可能な非接触ポータブル膜厚計

ます。研究室のみならず、現場でも使いやすいThetaMetrisis社の非接触型の膜厚計です。【特長】 ○多層膜厚み同時測定も可能！ →例：PMMA/poly-Si/Si3N4/SiO2 10層までの膜厚を測定できます。 ○リアルタイムモニタリングなど未乾燥の塗膜、硬化収縮率、膨張性、各製造工程での現場検査、成膜モニタ、化学反応、生化学反応などご利用できます。 ○光学特...

メーカー・取り扱い企業：オーテックス株式会社

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッチタイプの装置です。膜種　　　　：SiN/SiO2/SiONの成膜が可能です。　　　　　　　その他TEOS-SiO2等につきましてもご相談ください。ウエハサイズ：最大８インチ　　　　　　　８インチ以下のサイズであれば制限はありません。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本生産技術研究所

『匣鉢・セッター・台板』

焼成物に合わせた材質・形状があり、低温域から高温域までご利用可能！多孔…

■KR系嵩比重：1.9～2.3 気孔率（％）：27～33 曲げ強度（MPa）：7～11 熱膨張率（％）At1000℃：0.29～0.39 化学成分：AL203：56～35 　　　　　SiO2：31~35 　　　　　MgO：3~9 安全使用温度：1250℃ ■MT系嵩比重：1.8～2.2 気孔率（％）：24～31 曲げ強度（MPa）：5～9 熱膨張率（％）At100...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アコーセラミック株式会社アコーセラミック　本社営業部

自動フォトレジスト塗布装置（スピンコーター）Coater

レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

いたします。ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、InP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！設計から製造・販売まで...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ■少量生産、夜間自動運転に対応した自動搬送オプションも可能 ■用途・有機EL, 太陽電池, 光学部品, バイオ, 半導体・電子部品, 　自動車・樹脂, 特...

メーカー・取り扱い企業：芝浦メカトロニクス株式会社

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm（最大730mm×920mm）の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可能です。各種薄膜形成、シード層形成（過マンガン酸・無電解めっきからの置換）などの用途に適しています。【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生産性 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サーマプレシジョン

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング・USBケーブル接続，PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他 ◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆ ・グラフェン生成用，真空プロセス制御・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Dif...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

CPUボード『BCRX630_144』

高速で動作！CPU動作周波数：最大100MHｚのCPUボードをご紹介！

当社は、ルネサスアライアンスゴールドパートナー登録会社です。ルネサス独自のRX CPUコア、内部32ビットデータバス幅マイクロコンピュータ 3.3V 100MHz動作が可能なCPUボード『BCRX630_144』を取扱っています。当製品は、12ビット分解能×21のA/Dコンバータと、 10ビット分解能×2のD/Aコンバータを搭載。基板、部品、半田付け全ての工程でRoHS指...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ビーリバーエレクトロニクス

モリブデンの酸化防止・耐食コーティング　『SIBOR』

SIBORコーティングは1600度まで酸化を防止します。（プランゼ…

大気中では基材側で硬い拡散層が形成されると共に、大気との反応により表面に形成される SiO2層が部材における酸化の進行を防止しています。 SIBORコーティングを施したモリブデン部材は、モリブデン固有の耐熱性と耐食性に高温での耐酸化性能が付与されている為、ガラス炉における理想的な部...

メーカー・取り扱い企業：プランゼージャパン株式会社

エッチング受託加工

ドライとウェットの両プロセスから適した方法を提案！お客様の課題を解決し…

【加工実績のある材質】 <ドライエッチング> ■RIE 　・Si、SiO2、SiN、SiON、樹脂、Mo、W、Ti、Ta、TiN 等 ■ICP 　・Si、SiO2 等 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社協同インターナショナル

ウエットエッチングによる金属膜パターニング加工サービス

クロム膜や薄いガラスの金属膜、SiO2膜などのパターニングに対応してい…

当社は、『ウエットエッチングによる金属膜パターニング加工サービス』を行っています。金属膜多層配線をはじめ、クロム膜や薄いガラスの金属膜、SiO2膜などのパターニングに対応。ご用命の際はお問い合わせください。【特長】 ■金属膜多層配線のパターニング・透明金属膜：ITO膜・白色金属膜：AL合金膜（W/10μm） ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社KISO　WAVE

チャンバーなどの半導体製造装置部材のコーティングに！シリカコート

金属に高純度シリカガラスをコーティング！酸化が抑えられ耐食性が向上！金…

の特性が得られます。例えば、金属にコーティングすれば、塩酸ガスなどに対してシリカガラスの優れた耐食性が得られます。また、高温での金属の酸化も防ぐことが可能。金属表面が合成石英並みのSiO2になることにより、メタルコンタミの問題を解決できます。先進の半導体製造プロセスでは、微量の金属汚染が製品品質や歩留まりに大きく影響するため、チャンバー、チャンバー回りパーツ、フランジ類など...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コンタミネーション・コントロール・サービス

厚膜成膜

薄い膜だけじゃない！厚く成膜することもできます。

、B、Ti、Zr、Nb、Mo、Pd、In、Si、Ta、W、Sn、Pt　など　積層膜：Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr　など　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など　炭化膜：SiC、Ti...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

塗装サービス『セラミック系塗装』

建築部品や厨房用品などにおすすめ！優れた耐久性を有する、硬くて丈夫な塗…

『セラミック系塗装』は、当社がご提供する塗装サービスです。硬度の高い無機質化粧膜が特長。SiO2を主成分とした無機質塗料で、耐熱性・耐候性・耐薬品性に優れています。さらに、優れた耐久性や高い防腐効果を有するほか、汚れがつきにくく紫外線にも強いです。建築部品をはじめ、フ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社技研本社

自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置（フルオートリソグラフィ）

レジスト塗布～露光～現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォ…

そ実現出来た装置です。対応レジストは、ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、など、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。露光工程は、オートアライメント機能搭載可能ポジ・ネガ反転工程にも最適です。【特長】 ■フォトリソ工程を自動一括処理 ■低価格を実...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

、B、Ti、Zr、Nb、Mo、Pd、In、Si、Ta、W、Sn、Pt　など　積層膜：Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr　など　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など　炭化膜：SiC、Ti...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

株式会社neop　事業紹介

レンズ研磨技術を通して21世紀の情報通信産業に貢献致す所存でおります

株式会社neopは、レンズの試作・量産を行います。特徴は次の通りです。・小量多品種、試作、量産（月産／3000位）」「ピッチ研磨による高精度研磨に対応・SiO2、合成石英、各種難硝材に対応しております・硝材手配、芯取り、コート、接合までお請けしております・干渉計にてほぼ全数波面検査の上納入（凸：0～442R、凹：０～255R）・面精度アスクセ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社neop

CZウェーハ　成膜加工

2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系）、グラフェン膜、グラファイト＊SiO2,SiN,SiONなど膜種により1枚からでも対応が可能です。＊Suputter成膜にてTi,Cu,Cr,Niなど対応可能です。＊レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ～12インチ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エナテック東京本社

Guangdong Well Nanotech コロイダルシリカ

高品質低コスト　コロイダルシリカ

、セラミック、製紙、コーティング、触媒、電池、食品、研削、研磨など様々な産業で利用されています。弊社では一部製品を国内にて在庫しております。詳細はお問い合わせください。 HS-1430：SiO2 29~31%/ pH 9~10.5 / 粒子径10~20 nm HS-40：SiO2 39~41%/ pH 9~10.5 / 粒子径10~20 nm...

メーカー・取り扱い企業：株式会社パイロテック・ジャパン

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・156mm角/125mm角ウェハ対応　・1500枚/hの高生産性　・太陽電池用薄型ウェハ対応【用途】　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

真空蒸着加工

真空蒸着は高真空中で金属や酸化物を加熱蒸発させて基盤表面にデポジション…

当社は昭和３０年代から真空蒸着の技術確立を実施しております。代表的な蒸着金属はアルミニウムで、ガラス基板やプラスチック成型品の表面にデポジションを行い更にその上に電子ビーム蒸着にてSiO2やTiO2等の酸化膜をコートしてリフレクター等の高反射ミラーとして利用されています。...

メーカー・取り扱い企業：安達新産業株式会社本社

酸化触媒（白金触媒）：NAハニカム

白金触媒によって、脱臭・脱煙・空気を浄化するセラミックハニカムフィルタ…

/ φ153mm（※）　セル密度： 210cpsi＠□100mm / 88cpsi＠φ153mm 　材質　　：カルシウムアルミネート（CaO, Al2O3）、　　　　　　溶融シリカ（SiO2）、二酸化チタン（TiO2）　　　　　　白金族金属（Pt, Pd）【特性】　比表面積　　： 5-35 m^2/g 　かさ比重　　： 0.5-1.1 g/cm^3 　強度・抗折...

メーカー・取り扱い企業：株式会社長峰製作所営業部

セラミックス製構造部品【ミクロンオーダーにも対応可能】

新東独自の成形技術「浸透Vプロセス」で大型形状品や複雑形状部品の一体成…

タン酸アルミ（Al2TiO5） ■ジルコニア（ZrO2） ■ムライト(Al6O13Si2) ■炭化ケイ素（SiC） ■窒化ケイ素（Si3N4） ■コージライト(2MgO・2Al2O3・5SiO2) ■窒化ホウ素(BN) ■窒化アルミ(AlN) ■マシナブルセラミックス ■サイアロン ■ジルアル(ZrO2-Al2O3) ■低誘電損失アルミナ(Al2O3) ※詳しくはお問い...

メーカー・取り扱い企業：新東Vセラックス株式会社

MEMS受託加工サービスとミニマルファブについて

WF加工、テストWF作成、貫通配線基板加工など！EB露光、DRIE、 …

ても取り組んでおります。 TSV形成におけるプロセス技術の重要課題についてもPDFダウンロードからご確認いただけます。【加工内容】 ■前処理（RCA洗浄） ■成膜（熱Si酸化成膜、CVD成膜〈SiO2、SiN〉、メタル成膜〈Al、Al-Si、Al-Cu、Cu、Ti、W、Mo〉） ■フォトリソグラフィー（コンタクトアライナー、ステッパー、EB露光） ■エッチング（Wetエッチング、Dryエッチン...

メーカー・取り扱い企業：株式会社M.T.C

MAX400℃！高温ベーク対応レジスト塗布装置（スピンコーター）

BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能！高温ベ…

レジスト・ネガレジスト、ポリイミド（PI）、シリコーン、SOG、WAXなどなど多数の薬液に実績ございます！シリコン（Si）、サファイア、セラミック、LT、GaAs、InP、GaN、SiC、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、IｎP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板もご安心ください！【特長・強み】 ■お手頃価格...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以…

の際は、お気軽にお問い合わせください。【用　　　途】 VCSEL、LED、μLED、Micro Lens、Wave Guide 【エッチング】サファイア、GaN、GaAs、Si3N4、SiO2など【成　　　膜】nSiO2、Si3N4、a-Si、SiCなど ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

鋳造用塗型剤『ハードミックス KS-2』

刷毛伸びがよく作業性に優れた鋳鋼用アルコール性塗型剤！

【仕様】 ■性状：アルコール系ペースト状(淡赤色) ■骨材成分　・ZrO2：60～65％　・SiO2：25～30％　・その他：5～15％ ■荷姿：30kg入り　ペール缶 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ツチヨシアクティ本社

3インチ～12インチまで対応可能　「SOIウェーハ」

3インチ～12インチまで少量対応が可能です。仕様により高抵抗基板・…

I以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。直径：3インチ～12インチ SOI層：2－200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：0.5－2um程度(0.1-10umも対応可能）支持基板：300-725um程度（直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能）＊仕様によりますが新規対応は10枚程度から...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エナテック東京本社

ALD（原子層堆積）装置

2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現…

成膜温度：400℃（600℃対応ヒータ開発中）・基本構成サイズ：2160×890×1940ｍｍプリカーサ本数：最大５本【成膜応用事例】 Al₂O₃ TiO₂ HfO₂ ZrO₂ SiO2 Ta2O5 TiN Sin 他膜種も対応致します。【ALD受託成膜サービス】弊社、相模原事業部内のALD成膜装置を使用し、受託成膜を行っております。ご要望のプリカーサによる成膜をお手...

メーカー・取り扱い企業：ワッティー株式会社

1インチ以下～450ｍｍで提供可能　「CZウェーハ」

1インチ以下～４５０ｍｍまで提供が可能です。各種成膜加工、ＦＺウェーハ…

規作成での対応も可能です。新規作成の場合,最小枚数は10枚程度からのご提供になります。直径：3inch-12inch SOI層：2-200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：50nm-2um程度(0.1-10umも対応可能）支持基板：300-725um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能）数量：在庫品の場合は数枚程度から対応可能＊お手持ちの...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エナテック東京本社