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    SDGs貢献と循環型社会の実現へ! リサイクル樹脂材料

    PR環境配慮型製品の開発にお役立ていただけるプラスチック材料各種をはじめと…

    我が国は資源小国であり他国に資源を依存しています。また、人類80億人時代にたった1度の使用で物を廃棄することは資源効率が不十分であると思います。 そうした考えのもと、当社ではリサイクル材料を各種開発・販売しております。これらのリサイクル材料等を活用した製品を設計・開発していただくことで、循環型社会の実現やSDGsの達成に貢献することが可能です。 【リサイクル材料のご紹介】 ・エコマー...

    メーカー・取り扱い企業: 緑川化成工業株式会社 本社

  • 実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』 製品画像

    実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』

    ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

    ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、...

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    メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社

  • シリカコート【トフマク 非粘着コート】 製品画像

    シリカコート【トフマク 非粘着コート】

    シリカコート トフマクにシリコーン、あるいはフッ素系の非粘着層を有する…

    も有する事ができます。 トフマク前駆物質の有機溶媒溶液(基本は、キシレンorジブチルエーテル)を塗布液として用い、大気中で焼成することにより、大気の水分や酸素と反応し、高純度シリカ(アモルファスSiO2)膜が得られます。 塗布後溶剤が揮発すれば速やかに硬化し、比較的低温(100~150℃)の処理で、石英に匹敵する性質の硬い皮膜が得られます。 非常に薄い膜厚(2μm以下)が得られます。 1...

    メーカー・取り扱い企業: 日東商事株式会社

  • ALD(原子層堆積)装置 製品画像

    ALD(原子層堆積)装置

    2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現…

    成膜温度:400℃(600℃対応ヒータ開発中) ・基本構成サイズ:2160×890×1940mm プリカーサ本数:最大5本 【成膜応用事例】 Al₂O₃ TiO₂ HfO₂ ZrO₂ SiO2 Ta2O5 TiN Sin 他膜種も対応致します。 【ALD受託成膜サービス】 弊社、相模原事業部内のALD成膜装置を使用し、受託成膜を行っております。ご要望のプリカーサによる成膜をお手...

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    メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社

  • 奈良機械製作所 粒子の表面改質 製品画像

    奈良機械製作所 粒子の表面改質

    新規材料への応用へつながる、奈良機械製作所の粒子の表面改質技術

    【事例一覧】 ■母:Y2O3/子:ZnO 光学材料 ■母:Ni/子:BaTiO3 誘電体材料 ■母:Nd-Fe-B/子:SiO2 磁性材料 ■母:金属コート樹脂/子:樹脂 電子材料 ■母:PP/子:イオン交換樹脂 触媒材料 ■母:チタン合金/子:多層CNT 構造材料 ■母:PMMA/子:SiC 研磨砥粒材料...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社奈良機械製作所

  • 卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積(ALD)装置  製品画像

    卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積(ALD)装置

    Arradiance社製卓上型ALD装置 卓上型ながらプラズマユニット…

    た2台目の専用ALD装置として最適 ・扱いやすいユーザーフレンドリーなソフトウェアにて成膜レシピの作成も簡単 ・オプションにて簡単にプラズマユニットの取り付けが可能 成膜材料 Al2O3、SiO2、 HfO2、 TiO2、ZnO、TiN、 Pt、 Ruなど 詳細はお問い合わせください。 基板 4~8インチ、高さ約25mmまでの構造物 粉体、カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイチ・ティー・エル HTL(エイチティーエル)

  • 原子層堆積(ALD)装置 製品画像

    原子層堆積(ALD)装置

    豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

    設置面積:48x48cm 基板サイズ: 最大4インチ プレカーサー材料:5系統 方式:ホットウォール型熱式 チャンバー温度:最高350℃ プロセスレシピの例:Al2O3, SiO2, TiO2, HfO2, ZrO2, Pt, Ru カスタマーレシピ作成モードもあります インターロックと安全機構付き ...

    メーカー・取り扱い企業: ALDジャパン株式会社

  • クラスター装置『Morpher』 製品画像

    クラスター装置『Morpher』

    デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供!

    各種 <処理温度と容量> 〇~300℃ 〇最大1000ウエハ/24時間@膜厚15 nm Al2O3 <一般的なプロセス> 〇1桁秒~のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル 〇バッチ1%未満の1σ不均一性(Al2O3、WIW、WTW、B2B、49 pts、5mm EE) <基板ローディング> 〇真空クラ...

    メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社

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