成膜 | イプロスものづくり

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイブリッジ東京営業所

高レートイオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。　ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

〈鉄・アルミ・銅等〉多様な母材へ成膜が可能！クロムフリー表面処理

完全クロムフリーを実現した新しいコーティング！優れた密着性を有し、鉄・…

『ERIN』は、環境負荷の原因となる”六価クロム”を使用しない完全クロムフリーの表面処理です。密着性、防錆能力、耐摩耗性に優れており、様々な母材へ成膜することが可能です。〈対応例〉鉄・アルミニウム・銅・ステンレス　などまた、常温衝撃固化現象をベースに開発されたコーティングのため、成膜時の熱的アシスト無し。原料粒子が...

メーカー・取り扱い企業：豊実精工株式会社

高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…

高再現性が求められる高機能光学フィルターの安定生産に力を発揮します。・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜・リアクティブイオンソース搭載による、酸化膜の安定成膜・最大４基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜など、高品位な光学薄膜成膜に特化した装置です。特徴 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー型カソードとスパッタアッ...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

ロールtoロール連続成膜装置

樹脂フイルムへのバリア性プラズマ成膜などに好適！技術資料無料進呈いたし…

『ロールtoロール連続成膜装置』は、中間層を必要としないプラズマイオン注入成膜法により、各種フィルム素材に機能性成膜が可能な装置です。独自のICPプラズマによる高速成膜機能フイルムの製造が可能。樹脂フイル...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イトー

DLCコーティング, DLC装置「低温成膜」「はがれにくい」

プラズマイオン注入方式により、様々な形状の金属、樹脂、ゴム素材にダイヤ…

DLC(ダイヤモンドライクカーボン)コーティングは、プラズマイオン注入成膜装置を使用し低摩擦なDLC膜を成膜します。【特徴】 ■複雑形状のワークにも対応可能　・ワーク自体をプラズマの生成源とすることで形状に沿ってプラズマが形成され、　　複雑な形状や内部に...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高速成膜ALD装置『FHR.STAR-400x300SALD』　

In-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応！独FHR社製高速…

『FHR.STAR-400x300SALD』は、200mmウェハあるいは 400x300mmまでの基板やテキスタイルの成膜に対応した高速成膜ALD（Spacial ALD）装置です。 400x300の基板では10mm厚迄の3次元形状への均一な成膜が可能。従来のサーマルALD方式に較べ高速で成膜できるためデ...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

薄膜成膜加工

パターン加工膜や多層膜加工膜など！膜厚につきましては、都度ご相談に応じ…

当社で行う、「薄膜成膜加工」をご紹介いたします。ダスト保証品も可能な「熱酸化膜」をはじめ、「Poly膜(ノンドープ、ドープド)」や「チッカ膜(LP・プラズマ)」、「TEOS膜」など様々な膜に加工。膜厚につ...

メーカー・取り扱い企業：エムシーオー株式会社

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD）低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える高アスペクト比の穴埋めに適用・Shaleシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

CZウェーハ　成膜加工

2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

株式会社エナテックのCZウェーハ成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CV...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エナテック東京本社

太陽電池の成膜をインクジェットプロセスで開発『微小液滴吐出装置』

pL、nLオーダーの溶液を狙った位置に吐出可能！デッドボリュームの…

、ドット配置、またBMP画像を使用した複雑な描画に対応できます。微量な溶液でも液導入ができ、デッドボリュームの少ない実験／評価が可能です。また、薄膜太陽電池の研究開発において成膜工程をマスクレスで行えます。スピンコーターの代替えにより、デッドボリュームの少ない成膜や溶液を非接触で塗布する為、立体的な構造や薄膜基板にも成膜が可能です。医療分野については、微量な...

メーカー・取り扱い企業：クラスターテクノロジー株式会社本社

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。【特徴】　・低温(150～300℃)成膜　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜　・シンプルメンテナンス　・低...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

ドライめっきプロセス『クロムPVD』

金属意匠の外観と電波透過性・絶縁性を両立！6価クロムを使用しない環境対…

ム蒸着」技術が用いられています。しかし、レアメタル金属であるためのコスト高や、湿式クロムめっき品との色調差異が課題となっています。当社は、『クロムPVD』による電波透過・絶縁性の成膜、安価で調色工程が不要な技術を確立しました。【特長】 ■1MΩ以上の絶縁性 ■湿式クロムめっきと同等の色調 ■良好な密着性（サーマルサイクル試験） ■インジウム蒸着膜を超えるミリ...

メーカー・取り扱い企業：柿原工業株式会社本社工場

DLC成膜装置「プラズマイオン注入成膜装置」

３次元・大型・低温処理が可能！独自開発技術採用プラズマイオン注入成膜装…

「プラズマイオン注入成膜装置」は、独自開発技術を採用しており、３次元・大型・低温処理が可能なDLC成膜装置です。栗田製作所独自開発装置で特許取得済み（特許第3555928号）です。プラズマ生成用のバルスRF電源、イ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社栗田製作所本社・京都事業部

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

当社は汎用性の高いエッチング装置や、低温低圧条件でも緻密に成膜できる堆積式の成膜装置を取り揃えております。【ドライエッチング機種（一例）】 Pishowシリーズ： ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイブリッジ東京営業所

大面積への成膜加工！　ガラス…フィルム…セラミック…金属材…

大面積への成膜加工が可能！もちろん小さなものも（たくさん）搭載できます…

りました。小型装置から大型装置まで豊富なラインナップと、35年以上の確かな実績をもとに、お客様のご要望に柔軟にお応えします！大型装置では、最大で800mm×1000mmの平面エリアに成膜できます。また、インライン方式の装置のため、一日である程度まとまった数量を成膜できます。大型装置だからといって大きな基材しか搭載できないわけではありません。小さな基材をたくさん搭...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

ポリパラキシレン蒸着成膜装置

ポリパラキシレン成膜に特化した装置です。メーカは35年以上、ヨーロッパ…

本製品は、密着性よくパリレンを成膜できる装置です。研究やR&Dだけでなく、量産にも対応できる装置を販売しております。また、装置の販売実績は50台を超えており、生産ラインで既に使用されております。本装置の特徴は、次の通りです。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マツボー

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池やバッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や表面保護のためのコーティングにも対...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマ成膜装置『KOBUS F.A.S.T.(R)』

パルス機能を利用！ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成す…

『KOBUS F.A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition：原子層堆積)と同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。プロセス温度は8...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

実験・研究開発用途受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』

ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300...

メーカー・取り扱い企業：ワッティー株式会社

フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応しコンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。世界で広く採用されており、Plasm...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

厚膜成膜

薄い膜だけじゃない！厚く成膜することもできます。

一般的にナノレベルの成膜を行うことが多い薄膜ですが、弊社では厚膜のご依頼も多くございます。 1ミクロンから数ミクロン、ご案件によっては10ミクロン以上のご相談もいただきます。もちろん、どのような基材に何の膜を...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400F』

実験・研究・評価・試作に好適！樹脂フィルムや金属箔に高速、高精度、低ダ…

『VS-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。また、高密度プ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

光学薄膜・光学フィルター受託成膜加工：設計は初回無料で行います！

500社を超える実績、豊富な成膜加工ラインナップ。創業から100年、光…

安達新産業は、単に成膜を実施するだけではございません。お客様のご要望の仕様に応じ、薄膜の設計から成膜プロセス・製品形状加工までトータルなご提案に対応可能な企業を目指しております。このようなお困りごとは有りませんか...

メーカー・取り扱い企業：安達新産業株式会社本社

世界の薄膜成膜装置市場調査レポート2023-2031

薄膜成膜装置のグローバル市場2023-2031：産業分析、規模、シェア…

Transparency Market Research社の本市場調査資料によると、グローバルにおける薄膜成膜装置市場規模が、2023年の312億ドルから2031年には700億ドルまで年平均9.4%成長すると見込まれています。本資料は薄膜成膜装置の世界市場について広く調査し、序論、仮定、調査方法、エグゼクテ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マーケットリサーチセンター

研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400G』

実験・研究・評価・試作に好適！ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度…

『VS-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。また、高密度プ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

【試作開発に１個から対応】接合・成膜のアプリケーション

高温環境で使用でき、高機能材料を活用！

当社では、高機能材料を活用した『接合・成膜』を承っております。「ガラスペーストを使用した気密接合」をはじめ「メタライズ無しの直接ろう付け」や「粉末触媒や金属ペーストを積層させた電解セルの作成」などが可能。試作開発に1...

メーカー・取り扱い企業：石原ケミカル株式会社高機能材料

スパッタリング　薄膜加工　成膜加工（薄膜成膜受託加工）

スパッタリングは低温でもすぐれた密着が得られます。ローコスト・短納期に…

より様々な基盤材料(樹脂・ガラス・セラミック・その他)の板物・成型品に、例えば電極・シールド・マスキングとして使用されています。【特徴】・異なる金属を同一ターゲットに「合金」として加工し成膜する事が可能・クリーンな表面処理加工 ※詳しくは、お問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ビースパッタ

ジオマテックの成膜・薄膜受託加工サービス

【一枚、一個から量産まで】～真空成膜、薄膜加工の専門メーカーが手掛ける…

★真空成膜のパイオニアとして60年以上の実績！ ★進化に対応できる高度な技術と生産体制 ★強固な経営基盤／ジオマテックは業界トップクラスの成膜技術を生かして、受託成膜加工のさまざまなご依頼にもお応えしてお...

メーカー・取り扱い企業：ジオマテック株式会社

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、よ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、よ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　・密閉式チャ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

『Plasma POD シリーズ』は、小型でコンパクトな卓上タイプエッチング・成膜装置です。設置スペースに限りがあり、低コストでエッチング・成膜装置の導入をご検討されている方にお勧め。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■装置最大サイ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

薄膜形成や、成膜プロセスの各種問題を解決！『吐出装置』

デッドボリュームの少ない成膜が可能！スピンコーターの代替に好適！【…

「InkjetLabo」は、シンプル＆多機能なインクジェット式吐出装置です。この装置により、成膜プロセスで発生する以下の各種問題点が解決出来ます。　１．デッドボリュームを減らしたい！　２．コーヒーリング現象を回避したい！　３．塗布基材の形状が平面でなかったり、立体構造への塗布が...

メーカー・取り扱い企業：クラスターテクノロジー株式会社本社

スパッタリング成膜

高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術！

スパッタリング法は、プラズマ等により高いエネルギーをもった粒子（アルゴン）を成膜材料（ターゲット）に衝突させ、その衝撃で材料成分をたたき出し、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させることで、薄膜を形成する方法です。弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

ウシオの光で出来ること『加熱/成膜』

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の光加熱用光源の実用例（加熱/成膜）のご紹介です【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○半導体・FPD・太陽電池などの製造プロセスにおける　金属膜、絶縁膜の形成に用いられる　CVDやスパッタリング装置の...

メーカー・取り扱い企業：ウシオ電機株式会社

多層膜成膜装置 (ポリパラキシレン＋ALD）

ポリパラキシレン（パリレン）とALD(原子層堆積法）による無機酸化物層…

パリレンは生体適合性を持つ高機能樹脂ですが、無機酸化物と比較するとガスバリア性が低いという欠点があります。そこで、パリレンと酸化物をサンドイッチのように交互に成膜することで、バリア性の高い、高機能膜を生成することが可能になり、製品の小型化や薄膜が求められる医療用アプリケーションに最適です。パリレンとALDは同一チャンバ(In-situ)で真空を破ることな...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マツボー

ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

複数材料の多層膜が成膜可能！高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

X-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。 ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。【特長】 ■広範囲な膜種による多層成膜 ■高屈折率制御が可能 ■高速で成膜が可能 ■低温・低ダメージで高品質、高結晶性 ■基板および成長面のクリーニング効...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

て部品・素材に新たな機能を施すことが可能です。【イオンプレーティングの特長】 ■真空蒸着より密着力が強い ■低温でのコーティングが可能（極一部の膜種除く） ■幅広い膜種に対応可能 ■成膜条件の多様性が得られる ■酸化膜・窒化膜・炭化膜など反応膜への応用が可能 ■真空蒸着より影への膜の付きまわりが良い ■合金膜が可能 ...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

マルチ成膜装置VEＳ－１０

親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化。

マルチ成膜装置VEＳ－１０は親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化した小型卓上装置です。シャーペンの替え芯を蒸着。マグネトロンターゲットで低ダメージスパッタ。イオンスパッタと親水処理の操作は全自...

メーカー・取り扱い企業：株式会社真空デバイス

セラミックス溶射各種対応(金属・サーメット・成膜)

部品加工から成膜まで一括受託はもちろんのこと支給材も承ります！セラミッ…

高機能材料を導入したい、、、。けれども高価すぎて手が出せない。そんな時には溶射で問題解決です！！溶射はセラミック、金属、サーメットなど幅広い膜種に対応可能！現行使用している部品に溶射・成膜することで高機能材料と同様の効果が期待できます。たとえば、「耐熱性」「耐磨耗性」「離型性」等を向上させたい。。。そのようなお困り事が御座いましたら是非溶射・成膜のご検討、またお気軽にご相談くださ...

メーカー・取り扱い企業：ナラサキ産業株式会社メカトロソリューション部　機能材料課

【事例紹介】成膜装置のプレヒート

統と豊富な実績を持つウシオ社の光加熱用光源による、成膜装置のプレヒートの事例紹介です。真空環境下においても非接触・高速昇温性を持ったハロゲンランプヒータを使用することにより半導体・FPD・太陽電池などの成膜工程においてタクトタイム短...

メーカー・取り扱い企業：ウシオ電機株式会社

三次元構造　中空形状　等の複雑構造にもセラミックの成膜が可能！！

【新技術】セラミック　ディップ(浸漬)　コーティング！！ 3D構造、…

合には？ Aご対応可能で御座います。 Q母材調達からの依頼は可能なのか A可能ですがお客様から御支給頂いた方が安価になる場合も御座います。 ■その他お気軽にご質問ください。（成膜方法）１成膜したいセラミックスラリーを生成２ワークをスラリーが入った槽にディッピング(浸漬)させる３乾燥～焼成による焼き付け焼成を要します為、母材の耐熱温度もポイントとなります。...

メーカー・取り扱い企業：ナラサキ産業株式会社メカトロソリューション部　機能材料課

【成膜加工】スパッタ成膜機を導入しました！

スパッタ成膜機を導入し自社内でもスパッタ成膜が可能に！お客様のご要望に…

弊社はこの度スパッタ成膜機を導入し自社内でもスパッタ成膜が可能になりました。〈こんな経験ありませんか？〉・基板洗浄もしてほしい・1バッチ内での成膜条件は固定？・1バッチの枚数固定？1枚でも増えると2...

メーカー・取り扱い企業：テクノプリント株式会社