三次元フォトリソ

三次元フォトリソ

3次元フォトリソとは、立体構造の電極形成に適した、3次元パターン形成技術

次世代の基幹技術と目されるMENSデバイスでは、立体構造に複雑かつ繊細な
パターンを加工する技術が要求されます。

弊社では、液相中に基板全体を浸して金属膜を析出させる
電解メッキ方式を利用した、3次元フォトリソ技術をご提供いたします。

■□■特徴■□■

■導電性のある面ならばレジスト膜を均一に形成することができる
■端面や角部を含め、立体形状全体にフォトエッチング加工が施せる
■メッキと電着レジストの技術を併せることで、三次元基板に
　 セミアディティブ法も応用できる

■詳細は、お問い合わせ下さい。