フォトプレシジョン株式会社
最終更新日:2020-11-12 17:48:14.0
高アスペクト比レジスト
基本情報高アスペクト比レジスト
高アスペクト比レジスト
フォトファブリケーションを中心的技術として、
マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での
試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社
『高アスペクト比レジスト』のご案内です。
平面のレジストパターンに高さを与えることが実現!
■□■特徴■□■
■レジストパターンはエッチング工程で、メタル薄膜などを
エッチング液から守る膜として使用されている
■高精度のメタルパターンを実現するために、高解像度で
密着性・溶融性の高いフォトレジストが研究開発されている
■その他詳細については、カタログダウンロード
もしくはお問い合わせ下さい。
高アスペクト比レジスト
フォトファブリケーションを中心的技術として、
マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での
試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社
『高アスペクト比レジスト』のご案内です。
平面のレジストパターンに高さを与えることが実現!
■□■特徴■□■
■レジストパターンはエッチング工程で、メタル薄膜などを
エッチング液から守る膜として使用されている
■高精度のメタルパターンを実現するために、高解像度で
密着性・溶融性の高いフォトレジストが研究開発されている
■その他詳細については、カタログダウンロード
もしくはお問い合わせ下さい。 (詳細を見る)
取扱会社 高アスペクト比レジスト
高アスペクト比レジストへのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。