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最終更新日:2012-03-12 13:07:18.0

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研究実験用真空装置カタログ

基本情報研究実験用真空装置カタログ

研究実験用真空装置カタログ

【掲載内容】≪薄膜作成装置≫■真空蒸着装置■プラズマCVD装置■MO-CVD装置■スパッタリング装置■分子線エビタキシー装置■ECR装置■有機EL蒸着・分析装置■スピンスプレー装置■その他 各種成膜装置 設計・開発≪分析装置≫■エネルギー補償型3次元アトムプローブ■量子機能光電子素子作成用プロセス装置■電界イオン顕微鏡装置■電子エネルギー分光器■走査型トンネル顕微鏡■その他 各種分析装置 設計・開発

スピンスプレー薄膜作製装置

スピンスプレー薄膜作製装置 製品画像

フェライトめっきとは、室温〜90℃の水溶液中で、直接強磁性フェライト膜を作製できる革新的技術です。・1983年に東京工業大学 阿部正紀研究室で発明されて以来工夫を重ね、各種の薄膜磁性デバイス、バイオ・メディカルデバイスへの応用開発がなされ、一部は実用化されました。Fe2+イオンとNi2+などのイオンを原料として、Fe2+→Feの酸化反応を利用し各種のフェライトの薄膜作を可能にしたのが、フェライトめっき法の独創的なポイントです。最大ポイントは基板表面のOH基と金属イオンが共有結合性の化学結合を行う(単なる物理吸着ではない)ために強固な付着力が得られます。 (詳細を見る

走査プローブ顕微鏡装置(SPM)用 極高真空装置

走査プローブ顕微鏡装置(SPM)用 極高真空装置 製品画像

●特徴
本装置はプローブ(探針)を物質表面上で走査させ、実空間で表面の形状を原子レベルで得ることが出来る表面分析顕微鏡装置です。プローブに負電圧を印加し、観察する試料表面に近接させ、プローブと試料表面の間の空間に流れるトンネル電流を測定することにより試料表面の形態を原子レベルで観察することができる走査型トンネル顕微鏡(STM:Scanning Tunneling Microscope:)と、プローブ先端の原子と試料表面の原子の間に働く力を検出することによって試料表面の形態を調べることができる原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)などがございます。(7.1.14.10)
主な装置構成は、分析室、準備室、試料作成室、試料導入室等の超高真空〜極高真空領域の3室〜4室から構成されます。
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HR-EELS装置用 極高真空装置

HR-EELS装置用 極高真空装置 製品画像

●特徴
本装置は非弾性散乱現象を利用し、試料中での電子エネルギー損失を計ることにより表面プラズモン(surface plasmon)電子の表面状態などを検出する電子検出形表面分析装置です。
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LEED分析用 極高真空装置

LEED分析用 極高真空装置 製品画像

●特徴
本装置は電子線の回析現象を利用し、表面の結晶構造などを観察する電子検出形表面分析装置です。
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3次元アトムプローブ装置改善事例

3次元アトムプローブ装置改善事例 製品画像

◆◇◆経緯◆◇◆

3次元アトムプローブ装置(3D-AP)において、Tip(アトムプローブ分析では
試料表面に高電界を加えるために針状の試料を用いる)表面からの電界蒸発を、
従来の高圧印加ではなく、レーザー照射により行う事となった。

その為、Tip先端にレーザーを局所的に照射する必要がある。
しかし、FIM像(原子)を安定させる為に用いている冷凍機の振動により、
Tip先端へのレーザーの照射位置を確定する事が困難となっていた。 (詳細を見る

電界イオン顕微鏡装置(FIM)

電界イオン顕微鏡装置(FIM) 製品画像

●特徴
電解イオン顧微鏡(FIM:Field Ion Microscope)は鋭く尖った金属針先端の表面原子像を容易に観察できる投影型の顕微鏡で1951年にペンシルバニア州立大学のErwin E. Mueller教授により発明されました。本装置は、超高真空の環境の中で、試料としてセットした金属tip(探針)の電圧を除々に大きくしていくことで、スクリ−ンにFIM像を出現させ、針状の試料表面原子の凹凸を100万倍程度に拡大した像を肉眼で観察できるイオン検出形表面分析装置です。
同時にtipに電圧が印加されることで先端部分の表面に付着している不純物を取り除くクリーニング効果が得られます。
さらにtipに印加する電圧を大きくすることで電界蒸発を行わせ、原子を個々にはぎ取り、先端原子の数を調整できるなど高度な実験が可能です。こうした本装置の優れた特性は、金属の原子レベルでの観察はもとより、先端の鋭い金属tipが不可欠な走査型トンネル顕微境のtip評価用として使われるなど幅広い用途に生かされ、多くの研究所、大学の研究室などで採用されています。 (詳細を見る

SEM用 極高真空装置

SEM用 極高真空装置 製品画像

●特徴
本装置は細く絞った電子プローブで試料上を走査し、試料内部から発生する二次電子で結像させることにより表面形状観察をCRTで観察を行う電子検出形表面分析装置です。半導体の側長、検査装置、マスク描画装置などに応用されます。 (詳細を見る

3次元アトムプローブ装置 (3D-AP) 用 極高真空装置

3次元アトムプローブ装置 (3D-AP) 用 極高真空装置 製品画像

1988年にオックスフォード大学のA. Cerezoらにより開発された位置敏感型アトムプローブ(position sensitive atom probe, PoSAP)は、アトムプローブの検出器に位置敏感型検出器(position sensitive detector)を取り入れたもので、分析に際してアパーチャーを用いずに検出器に到達した原子の飛行時間と位置を同時に測定するこができる装置です。この装置を用いれば試料表面に存在する合金中の全構成元素を原子レベルの空間分解能で2次元マップとして表示する事が出来るばかりでなく、電界蒸発現象を用いて試料表面を一原子層ずつ蒸発させることにより、2次元マップを深さ方向に拡張していくことにより3次元マップとして表示・分析が出来る顕微鏡装置です。 (詳細を見る

取扱会社 研究実験用真空装置カタログ

北野精機株式会社

最先端技術の研究開発用精密機器の設計、開発、製造、販売。 ◆真空装置の機器・部品 ◆低温機器類の装置・部品 ◆科学機器 ◆精密部品 これらの設計開発、製作、販売及び引渡し後の保守、修理、改造、移設 【 製品一例 】 ◆真空チャンバー ◆真空部品(フランジ・継手類、他)   《PVD/CVD装置》 ◆有機EL材料開発用蒸着装置・機器 ◆有機TFT開発用蒸着装置・機器 ◆有機薄膜太陽電池用蒸着装置・機器 ◆有機・金属蒸着セル ◆分子線エピタキシー装置(MBE)  (化合物半導体・窒化物・酸化物) ◆有機金属気相成長装置(CVD) 《表面分析・評価装置》 ◆電界イオン顕微鏡装置(FIM) ◆電子エネルギー分析システム(CMA) ◆TEMホルダー(加熱/低温) ◆UHVレーザー顕微鏡装置 ◆3次元アトムプローブ装置(3DAP)

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