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最終更新日:2009/10/05

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卓上型UV照射装置 MUV

基本情報卓上型UV照射装置 MUV

卓上型UV照射装置 MUV

大型基板の処理にも対応。試料にダメージを与えず
高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置

【特徴】
○最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基板(試料)にUV照射を行い
 表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが可能
○基板(試料)ホルダーの上下、または取替えが容易なため
 厚みのある基板(試料)を処理することが可能
○オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併用することにより
 高いクリーニング効果を得られる
○基板(試料)セット後の処理は自動運転が可能です
○卓上型ながら大型基板の処理が出来、表面改質やウエ
 ハ洗浄等の処理プロセスの開発に最適
○ウエット洗浄とは異なり廃液を出さず、試料に物理
 的ダメージを与える事なく高度な洗浄効果が得られる
○有機汚染物質はガス化して排気される為
 有機汚染物質の再付着が起こらない

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

卓上型UV照射装置 MUV

卓上型UV照射装置 MUV 製品画像

大型基板の処理にも対応。試料にダメージを与えず
高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置

【特徴】
○最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基板(試料)にUV照射を行い
 表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが可能
○基板(試料)ホルダーの上下、または取替えが容易なため
 厚みのある基板(試料)を処理することが可能
○オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併用することにより
 高いクリーニング効果を得られる
○基板(試料)セット後の処理は自動運転が可能です
○卓上型ながら大型基板の処理が出来、表面改質やウエ
 ハ洗浄等の処理プロセスの開発に最適
○ウエット洗浄とは異なり廃液を出さず、試料に物理
 的ダメージを与える事なく高度な洗浄効果が得られる
○有機汚染物質はガス化して排気される為
 有機汚染物質の再付着が起こらない

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。 (詳細を見る

取扱会社 卓上型UV照射装置 MUV

株式会社メープル

マスフローコントローラ|ドライ洗浄装置|UV照射装置|エリプソメーター|超音波洗浄|真空装置|等の販売。

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