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最終更新日:2012/09/20

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シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「A200V」

基本情報シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「A200V」

小ロット生産・試作・開発向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式(1枚処理)APCVD装置

「A200V」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、枚葉式常圧CVD(APCVD)装置です。

密閉型チャンバーでの枚葉式Face down成膜により、限られた設置スペースの中でも、安全で、膜厚・不純物濃度のバラツキが小さく、パーティクルが少ない成膜が可能です。

装置タイプは、2チャンバータイプ・1チャンバータイプから選択可能で、多品種小ロット生産にマッチした仕様になっています。
また、原料ガス種を、SiH4/O2系からTEOS/O3系にする事で、埋め込み性を上げる事ができ、SiH4/O3系にする事で低温成膜も可能になります。

その他、目的別に装置ラインナップを揃えており、デモ装置によるサンプル成膜も可能です。詳しくはお問合せください。

シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「A200V」

シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「A200V」 製品画像

「A200V」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、枚葉式常圧CVD(APCVD)装置です。

密閉型チャンバーでの枚葉式Face down成膜により、限られた設置スペースの中でも、安全で、膜厚・不純物濃度のバラツキが小さく、パーティクルが少ない成膜が可能です。

装置タイプは、2チャンバータイプ・1チャンバータイプから選択可能で、多品種小ロット生産にマッチした仕様になっています。
また、原料ガス種を、SiH4/O2系からTEOS/O3系にする事で、埋め込み性を上げる事ができ、SiH4/O3系にする事で低温成膜も可能になります。

その他、目的別に装置ラインナップを揃えており、デモ装置によるサンプル成膜も可能です。詳しくはお問合せください。
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取扱会社 シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「A200V」

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【関連製造部門】 ・(株)ワコム製作所 石英ガラス製品(ASM Epsilion石英部品、各種加工品)、シリコーンゴム製品、半導体装置用部品、ラッピング・ポリッシング用キャリア ・(株)トムコ フォトマスク洗浄装置、ウエーハ移換機、IPA蒸気乾燥装置、部品再生洗浄、部品加工 ・(株)天谷製作所 常圧CVD装置、MO-CVD装置 【理科医療器材】 旭硝子(株)製品パイレックスガラス製品、組織培養製品、その他理化学機器製品等 【環境関連】 ソーラ用Siウエハ、セパレーター&クリーニングシステム、ワイヤーソークーラント回収システム、酸化セリウム回収システム、スラリーリサイクルシステム、IPAリサイクルシステム、ソーラーシミュレーター、水質分析計、無機系凝集剤オイルフロック 【研究開発部門】 (株)ワコム研究所 MO-CVDによる各種誘電体薄膜の開発 【素材・部品関連】 コバレントマテリアル(株)製品(石英ガラス、SiC、カーボン)、ファインセラミックス、マシナブルセラミックス、各種フィルター、その他半導体装置用消耗部品、シリコーン樹脂、耐火物、各種ヒーター関連、超高圧水銀ランプ

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