エピタキシャル成長に最適　薄膜成長用酸化物基板

エピタキシャル成長に最適　薄膜成長用酸化物基板は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けており、エピタキシャル成長用基板は、結晶性、基板表面の平滑、平坦性とともに最表面の結晶格子歪の有無が重要です。弊社は長年の技術の蓄積により、結晶育成（一部結晶は除く）から加工まで自社内で一貫生産しており、高精度な加工技術により、加工歪層のない高品質な結晶基板表面に仕上げております。標準的な仕様は常に在庫を持っており、ご発注後一週間程度でお届け可能です。ご希望に合わせて面方位、形状、OFF角度などをオーダーメイドすることも常に行っておりますのでラインアップにない結晶材料も取り扱っておりますのでご気軽にお問い合わせください。誘電体、超伝導、化合物半導体などのエピタキシャル成長に最適な酸化物結晶基板を提供しております。
詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

※カタログは弊社オフィシャルHPからも 登録なしでダウンロードできます。 （詳細を見る）

　信光社のSrTiO3 (STO) 基板は、1980年代から世界中の薄膜研究者にご愛用いただいているロングセラー商品です。
　導電性をもたせたNbドープ品やステップ&テラス処理、ブレイク溝(板チョコ状) 加工品もオプションで提供しています。
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・TiO2には３種類の結晶型がありますが、信光社では世界的にも稀少なルチル型構造の結晶を提供しています。
・大きな屈折率と複屈折および広い透過特性から、光学的なコアパーツとして用いられています。
・光触媒の分野でも単結晶の特長をいかした基礎研究に用いられています。
・良質な結晶性と表面をステップ&テラス処理できることから、薄膜成膜用基板としての用途でも広く用いられています。

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