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最終更新日:2018-06-20 13:11:12.0

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【MiniLab-WCF/WMF 超高温ウエハー焼成炉】Max2200℃

基本情報【MiniLab-WCF/WMF 超高温ウエハー焼成炉】Max2200℃

MiniLab-WCF/WMF

カタログ発行日:2018/06/08

1inch〜8inchウエハー高温焼成専用機 コンパクトサイズ・簡単操作 2200℃まで急速昇温!

◆主な変更点・特徴◆
◎Max2200℃(真空中, N2, Ar)
◎試料台サイズφ1inch〜φ8inch
◎特注ウエハーホルダ(ウエハートレー)製作可能
◎SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、及びその他先端基礎技術開発部門で活用いただけます。

◉MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉2200℃

MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハーアニール炉 製品画像

◉Max2200℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar)
◉WCF使用雰囲気:真空・不活性ガス(カーボン炉)
◉WMF使用雰囲気:真空・不活性・還元ガス(メタル炉)
◉試料台サイズφ2inch〜φ8inch
◉特注ウエハーホルダ(ウエハートレー)製作可能
◉SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、及びその他先端基礎技術開発部門で活用いただけます。 (詳細を見る

MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃

小型超高温カーボン実験炉 製品画像

Max2900℃(カーボン炉)、Max2600℃(メタル炉)
・有効加熱エリアΦ60(MiniLab-CF/MF-M)
・有効加熱エリアΦ150(MiniLab-CF/MF-L)
新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応。 (詳細を見る

【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

MiniLab(ミニラボ)シリーズ フレキシブル実験装置

MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。
MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 (詳細を見る

□■□【MiniLab-026】R&D用小型真空蒸着装置□■□

抵抗加熱蒸着装置構成例:MiniLab-LT026A(26ℓチャンバ)

モジュラー組立式「Plug&Play」感覚で、必要なモジュール、コントローラ、コンポーネントを組合せて接続することにより構成される装置です。「MiniLabシリーズ」は、製作範囲が広く、抵抗加熱式蒸着(標準)、EB蒸着、スパッタなどご要望に対してフレキシブルにシステム構成することができるフルカスタムメイド装置です。
MiniLab-026は、シリーズ最小構成の抵抗加熱蒸着専用機です。オプションでグローブボックス連結仕様へのアップグレードが可能。

まずは当社までご相談下さい、別途ご要望に対しての最適なシステムをご提案致します。 (詳細を見る

【MiniLab-M307】ローコストベルジャー式真空蒸着装置

MiniLab-M307_真空蒸着装置

低コスト版ベルジャー式真空蒸着装置
下記蒸着源から組合せが可能
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大3
・カーボン蒸着源 x 1(オプション)
・2inchマグネトロンスパッタ x 1(オプション) (詳細を見る

◆nanoPVD-T15A◆ 卓上型高性能真空蒸着装置

卓上小型サイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。
更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。
難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。
USBケーブルでWindows PCに接続し、ログを保存、自動成膜レシピを作成保存。
限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れた小型卓上真空蒸着装置です。

 (詳細を見る

【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置

nanoPVD_寸法:750(W) x 580(D) x 600(H)mm 重量:約70kg

研究開発用DC/RFマグネトロン方式スパッタリング装置です。
高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするスモールフットプリント。
高解像度7inch前面タッチパネルによる簡単操作。
膜質に妥協のないハイスペック卓上スパッタリング装置です。

◉ nanoPVDは、3源カソード+追加ガス2系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)同時成膜、など多目的にお使い頂くことができます。
・絶縁膜
・導電性膜
・化合物
・コンビナトリアル(*Binary 但しRF x 1, DC x1)他

【主な特徴】
◉ 対応基板:2inch(1〜3源)、もしくは4inch(1源)
◉ 2inchマグネトロンカソードx最大3源
◉ タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール
◉ MFC搭載高精度プロセス制御
◉ Arガス1系統(標準) + 反応性ガス N2, O2増設(オプション)
◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング。
◉ 他、多彩なオプションを用意 (詳細を見る

【nanoCVD】卓上型グラフェン/CNT合成装置

nanoCVD-8G 製品画像

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間
◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機 (詳細を見る

【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置

Nanofurnace BWS-NANO 卓上型熱CVD装置

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
◉ ZnOナノワイヤ
◉ SiO2等の絶縁膜など
その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応 (詳細を見る

【セラミック・トップ・ヒーターMax1800℃】1〜12inch

基板加熱ヒーター(AlN)の製品画像です

基板加熱ヒーター (窒化アルミプレート)Max 1800℃
対応可能サイズ 1〜12inch用、及び最大φ800まで

ヒーターエレメント:NiCr線(標準)、トッププレート材質:AlN(窒化アルミ)を採用した超高温・加熱効率に優れた成膜実験・製造装置用超高温基板加熱ヒーター(真空ホットプレート)です。(詳細はカタログダウンロードからお問合せ下さい。)
プロセス条件により、多種類のヒーター素線・材料を選択可能。
AlN以外に、石英プレート、インコネルプレートも製作可能 (詳細を見る

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

基板加熱ヒーター SH series 製品画像

ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。

【ラインナップ】
◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用
◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用

【特徴】
◎ 最高温度1100℃(SH-BN), 850℃(SH-IN)
◎ 短時間昇温
◎ 面内温度分布 ±2%以内
◎ 制御精度・再現性±1℃
◎ 低価格
◎ 短納期(標準約2週間 *フランジ付き, 回転・上下機構, 取付ブラケット付きなどは除く) (詳細を見る

【ホットステージ】超高温基板加熱ユニット Max1800℃

ホットステージ【基板加熱機構】

半導体、電子基板、真空成膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】
対応基板サイズ:2〜12inch
真空(UHV可能)・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。(詳細別途協議) (詳細を見る

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1600℃

Φ1inch BHヒーター製品写真

3種類のサイズ(Φ1, 2, 4inch)3種類のヒーター素線材質(NiCr, Kanthal, Tantalum)に限定して標準化、部品在庫を持つことにより短納期・安価な価格を実現しました。
大学実験室・研究機関に限定した数量限定の製品です。

【特徴】
● 予備ヒーター素線との交換が容易
● 取り扱いが簡単(M6スタッドボルト、支柱)

【標準付属品】
● 熱電対:K素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き(*C, Rの場合は別売)
● 取付用スタッドボルト

【オプション】
● 標準外素線も用意しております(W, Nb, Mo, Pt/Re, WRe)
● 取付ブラケット
● ホルダー設置用タップ穴加工 (詳細を見る

価格帯 10万円以上 50万円未満 納期

【円筒状】グラファイト/CCコンポジット/NiCrヒーター

円筒状ヒーターユニット

ヒーター外周側への高温加熱、もしくは円筒内部への局部高温加熱など。
ご指定の仕様にて都度製作致します。
* 従来の金属ヒーターでは不可能だった高温領域が必要なアプリケーションに応用検討下さい。 (詳細を見る

◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆

小型縦型実験炉_TVF-110

小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉
大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉

【用途】
◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理
◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験 (詳細を見る

【真空熱電対】

真空熱電対製品画像

各種真空規格フランジを接続し、気密性を持たせた熱電対。Kタイプ(クラス2)、シース部SUS316もしくはインコネル。フランジサイズはICF34, ICF70, NW16, NW25, NW40。 (詳細を見る

価格帯 お問い合わせください 納期 1ヶ月以内

【PyroMini USB】USB接続式小型赤外線温度センサー

『PyroMini USB』USB接続式小型赤外線温度センサー

【概要】
標準付属の「Calexsoft」をインストール、あとはUSBケーブルでWindowsPCに接続するだけ。Plug&Play感覚で簡単にPC上でセンサの測定パラメータ設定、測定、測定結果の解析・CSV出力ができます。
USB出力 PCに接続しUSBバスパワーのみで動作。電源を必要としません。
さまざまな工業分野・研究機関実験ラボでの活用など、応用範囲が広がります。

【特徴】
◎ USBデータロギング
◎ ワイドレンジ:-20℃〜+1000℃
◎ 優れた基本性能:精度±1%, 再現性±0.5%、125msec高速応答
◎ 放射率調整範囲:0.2〜1.0
◎ 測定波長領域8〜14μm
◎ 小型Φ18mm x 45mm (詳細を見る

価格帯 1万円以上 10万円未満 納期 1ヶ月以内

アイコン 【PyroMini USB】USB接続式小型赤外線温度センサー CAD一覧

型番 概要 CADダウンロード
PyroUSB 3D file_PDF PyroUS 3D file_PDF 3D
PDF : 655KB
PyroUSB 3D_IGS format PyroUSB 3D_IGS format 3D
IGS : 2MB

チェックしたものをまとめて 

【FiberMini】ファイバー式赤外線放射温度センサー

『FiberMini』ファイバー式赤外線放射温度センサー

● センサ内部に電子機器や導電性部品を持たないファイバー方式の為、電磁界の影響を受けません。
● 短波長2.0〜2.6um 低放射率の金属表面温度測定などにも最適。
● 高周波やマイクロ波、強磁場、高電圧環境下で使用可能。
● 小型センシングヘッド(Φ10mm)により、狭い場所、直接覗き込めない場所などでの温度測定が可能。
● センシングヘッド部耐熱200℃ 冷却無しで200℃までの高温環境で測定可能。
● 『タッチスクリーン・設定ユニット』:明るく見やすい表示部、高性能データロガーも兼ねる簡単設定操作ユニット
● 光ファイバー長 3m(標準) 5m、10m(オプション)
● RS485デジタル通信、4〜20mAアナログ出力を標準装備
● アラームリレー x 2点付属
● microSDカード(*別売 最大32GB)でデータ保存:CSVファイル(測定結果) アラーム履歴 (詳細を見る

価格帯 10万円以上 50万円未満 納期

【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

ExTemp赤外線温度センサーの製品画像です

ExTempは、石油化学プラント・医薬品工場・薬品工場などの危険物取扱設備や工場で使用することができる本質安全防爆構造の放射温度センサーです。
(TIIS型式検定合格番号:第21097号) (詳細を見る

【PyroNFC】スマートホン設定式赤外線放射温度センサー

『PyroNFC』スマートホン設定式赤外線放射温度センサー

● スマホ・タブレットを使い設定を行う事ができます。
● 専用アプリをGoogle Playから無料ダウンロード(Android4.1〜5.1)
● AndroidのNFC通信を使い、センサ部にタッチするだけで読込み・書出しをします。
● 超小型センサ(Φ31mm x t29mm)狭い場所でも温度測定が可能。
● 高速応答125msec、高精度±1.5%
● 電圧出力(0-5V or 0-10V)、又はK熱電対出力 (詳細を見る

価格帯 1万円以上 10万円未満 納期 1ヶ月以内

【PyroCouple】 (パイロカップル)赤外線温度センサー

PyroCouple赤外線温度センサ画像

【概要】
英国カレックス・エレクトロニクス社製「PyroCouple(パイロ・カップル)」は、従来に無い小型軽量、低価格、高性能な赤外線温度センサーです。
「動く」「回転する」「触れる事ができない」測定対象物表面を非接触で測定し、高速・高再現性で温度制御ができます。

【特徴】
◎ アンプ・センサ一体型
◎ 4-20mA出力(標準)、0-50mV、熱電対K, J, T出力(オプション)
◎ 精度:±1% or ±1℃(いずれか大きい値)
◎ 再現性:±0.5% or ±0.5℃(いずれか大きい値)
◎ 応答速度:240msec
◎ 保護等級:IP65 (詳細を見る

価格帯 1万円以上 10万円未満 納期

アイコン 【PyroCouple】 (パイロカップル)赤外線温度センサー CAD一覧

型番 概要 CADダウンロード
PyroCouple赤外線温度センサー 3D PDF file 3D
PDF : 412KB
PyroCouple 3D file_IGS PyroCouple 3D file_IGS format 3D
IGS : 2MB

チェックしたものをまとめて 

【PyroUSB】 (パイロUSB)高精度赤外線温度センサー

『PyroUSB』USB接続式高精度赤外線温度センサー

【概要】
標準付属の「Calexsoft」とUSBケーブルでWindowsPCに接続、PC上でセンサの測定パラメータ設定、測定結果の解析・CSV出力ができます。
1) 4-20mA出力
2) USB出力(USBバスパワーで動作)
3) 4-20mA/USB出力の同時使用
の3通りの使い方が可能です。

【特徴】
◎ USBデータロギング/4-20mAアナログ出力の同時使用可能
◎ 優れた基本性能:精度±1%, 再現性±0.5%、240msec高速応答
◎ 短波長2.0〜2.4μmをカバー(PU2.2のみ):金属表面も測定可能 (詳細を見る

価格帯 1万円以上 10万円未満 納期

アイコン 【PyroUSB】 (パイロUSB)高精度赤外線温度センサー CAD一覧

型番 概要 CADダウンロード
PyroUSB 3D file_PDF PyroUS 3D file_PDF 3D
PDF : 655KB
PyroUSB 3D_IGS format PyroUSB 3D_IGS format 3D
IGS : 2MB

チェックしたものをまとめて 

【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

『PyroMini』小型高性能赤外線温度センサー

【概要】
視認性の良い高輝度タッチパネルディスプレーで、温度レンジ・放射率・サンプリングレート等のパラメータを直感的に操作・設定。
microSDカードで長期間のデータ保存・管理が可能です。
(*オプションでディスプレー無しの変換器もあります)
φ18mm x 45mmの小型センサヘッドで、狭い場所での温度測定も可能、耐ノイズ性に優れたセンサ・ケーブルを採用しておりますので、ロボットアームなどの動く機器への組込みにも適します。
PM2.2モデルは、短波長2.2um波長を採用、高温(Max2000℃)、光沢性のある金属材料表面の測定などにも対応します。

【特徴】
◎ ワイドレンジ:-20〜1000℃(PM), 100〜2000℃(PM2.2)
◎ 優れた基本性能:精度±1%, 再現性±0.5%、240msec高速応答
◎ 測定波長領域:8〜14μm(PM), 2.0〜2.2μm(PM2.2)
◎ 小型Φ18mm x 45mm (詳細を見る

価格帯 1万円以上 10万円未満 納期 1ヶ月以内

「研究開発用超高温実験炉シリーズ」製品ダイジェスト

「研究開発用超高温実験炉シリーズ」製品ダイジェスト

研究開発分野向け、各種実験装置を紹介します。
◉ MiniLab-CF/MF超高温小型実験炉 Max2900℃
◉ MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉 Max2200℃
その他、特注で研究開発用高温炉を設計製作致します。
・縦型/横型炉
・エピタキシャル炉
他 (詳細を見る

◆ANNEAL◆ 卓上型ウエハーアニール装置

ANNEAL

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。
又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。
チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。

・ハロゲンランプヒーター:Max500℃
・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ)
・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2) (詳細を見る

【クリーン・テント】

クリーン・テント

収縮式簡易クリーンルーム「Clean Tent」
(開発元Moorfield Nanotechnology社)
短時間(最短30分!)で容易に施工が可能。
テント本体は畳んで専用バッグに収納、撤収持ち運びが簡単。 (詳細を見る

取扱会社 【MiniLab-WCF/WMF 超高温ウエハー焼成炉】Max2200℃

テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター(1〜12inch) 2. R&D用真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空用熱電対 6. 真空コンポーネント

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