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最終更新日:2013-07-18 19:00:23.0

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  • カタログ発行日:2013/07/17

プラズマエッチャー:RIE.S-200ARIE.S-200A

基本情報プラズマエッチャー:RIE.S-200A

有機・無機問わず高いエッチング効果!

Siやカーボン膜の受託エッチング!
その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に
お使い頂けます♪
初回条件出しやデモ処理は無償対応。

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました~♪

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました~♪ 製品画像

Siやカーボン膜の受託エッチング!
その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に
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一週間~レンタル可能で研究開発をスピーディーにサポート致します!
初回条件出しやデモ処理は無償対応。 (詳細を見る

取扱会社 プラズマエッチャー:RIE.S-200A

株式会社魁半導体

・液体ソースを用いた堆積装置、表面改質装置等を含むプラズマを用いた各種半導体製造装置の開発、および製造販売 ・工業用石英ガラスの販売、および加工 ・委託研究による半導体製造装置の開発および製造販売 ・堆積代行、エッチング代行 ・半導体プロセスのコンサルティング業務

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