Si,SiO2プラズマエッチャー【CPE-300S】CPE-300S

基本情報Si,SiO2プラズマエッチャー【CPE-300S】

有機・無機問わず高いエッチング効果！

SiやSiO2のエッチング！
その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に
お使い頂けます♪
初回条件出しやデモ処理は無償対応。

Siやカーボン膜のエッチング！
その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に
お使い頂けます♪ （詳細を見る）

・液体ソースを用いた堆積装置、表面改質装置等を含むプラズマを用いた各種半導体製造装置の開発、および製造販売・工業用石英ガラスの販売、および加工・委託研究による半導体製造装置の開発および製造販売・堆積代行、エッチング代行・半導体プロセスのコンサルティング業務

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株式会社魁半導体