大容量プラズマ溶射装置による高機能溶射皮膜

各種産業機械や液晶・半導体装置等の製品への耐熱性・断熱性の向上や反応防止等の機能付与を目的にプラズマ溶射が多く適用されています。
この溶射法は、ある熱源を用いて材料を溶融もしくは半溶融させた粒子を基材に吹き付けて皮膜を形成する表面改質法の一種ですが、生産効率の面から溶射装置の大容量化は非常に有利となります。
そこで、装置開発・適した溶射材料の選定や溶射条件の設定などから、溶射皮膜の品質向上及び生産性向上を目的に研究開発を行いました。
その結果、従来の一般的なプラズマ溶射装置に比べておよそ30倍の成膜速度を実現しました。
この大容量プラズマ溶射装置における溶射皮膜の研究開発により、溶射加工の高速化・生産性の向上によるコスト削減のみならず、溶射皮膜の気孔状態の制御が容易となり、基材へ高性能な機能を付与します。

【ポイント】
○溶射効率を飛躍的に改善する大容量プラズマ溶射装置の開発がポイント
○独自の材料、装置、条件等の組合せによるオンリーワン制御技術

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 （詳細を見る）