プラズマCVD装置・プラズマ成膜装置

基本情報プラズマCVD装置・プラズマ成膜装置

プラズマ成膜装置。MEMSデバイスにて、酸化膜の高速厚膜形成可！

PE-CVD装置
●各種MEMSデバイスにおける酸化膜の高速厚膜形成が可能
●優れたステップカバレッジを実現
●低水素含有の高品位SiN成膜が可能
●SiN成膜プロセスで応力制御が可能

低ストレスシリコン窒化膜や、厚膜シリコン酸化膜の形成用プラズマ成膜装置です。（詳細を見る）

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●半導体製造装置の製造販売用途：MEMSデバイス（加速度センサ、ジャイロセンサ、圧力センサ、シリコンマイク、シリコン共振器、光スイッチなど）、インクジェットプリンタヘッド、RFデバイス、TSV（3次元貫通電極）、パワーデバイス、LED、化合物半導体

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