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最終更新日:2017-11-08 13:13:48.0

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プラズマCVD装置・プラズマ成膜装置

基本情報プラズマCVD装置・プラズマ成膜装置

プラズマ成膜装置。MEMSデバイスにて、酸化膜の高速厚膜形成可!

PE-CVD装置
●各種MEMSデバイスにおける酸化膜の高速厚膜形成が可能
●優れたステップカバレッジを実現
●低水素含有の高品位SiN成膜が可能
●SiN成膜プロセスで応力制御が可能

プラズマCVD装置・プラズマ成膜装置

プラズマ成膜装置の製品画像です

低ストレスシリコン窒化膜や、厚膜シリコン酸化膜の形成用プラズマ成膜装置です。 (詳細を見る

取扱会社 プラズマCVD装置・プラズマ成膜装置

SPPテクノロジーズ株式会社 (住友精密工業 子会社)

●半導体製造装置の製造販売 用途:MEMSデバイス(加速度センサ、ジャイロセンサ、圧力センサ、シリコンマイク、シリコン共振器、光スイッチなど)、インクジェットプリンタヘッド、RFデバイス、TSV(3次元貫通電極)、パワーデバイス、LED、化合物半導体

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