リソテックジャパン株式会社
最終更新日:2010-01-21 16:36:19.0
フォトレジストの研究開発用露光ツール フォトプロセス解析用露光装置シリーズ
基本情報フォトレジストの研究開発用露光ツール フォトプロセス解析用露光装置シリーズ
フォトレジストの研究開発用露光ツール フォトプロセス解析用露光装置シリーズ
-
フォトレジストの研究開発用露光ツール
フォトレジストの研究開発用露光ツール!
フォトプロセス解析用露光装置シリーズ
■□■ラインナップ■□■
■UVES-2000(g/h/i/248nmおよびブロード光対応解析露光装置)
■UVES-2500
(g/h/i/248nmおよびブロード光対応レジスト感度評価露光装置)
■ArFES-3500LP(193nm対応解析露光装置)
■VUVES-4500mini(248・193nm対応解析露光装置)
■IMESq-5500(193nm液浸露光対応QCM解析装置)
■EBES-6000(電子線対応解析露光装置)
■EUVES-7000(EUV光対応解析露光装置)
■□■特徴■□■
■ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えて
オープン・フレーム露光が可能
■露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて
現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速
■その他機能や詳細については、カタログダウンロード
もしくはお問い合わせ下さい。 (詳細を見る)
取扱会社 フォトレジストの研究開発用露光ツール フォトプロセス解析用露光装置シリーズ
フォトレジストの研究開発用露光ツール フォトプロセス解析用露光装置シリーズへのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。