フォトレジストの研究開発用露光ツール　フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

フォトレジストの研究開発用露光ツール！
フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

■□■ラインナップ■□■

■UVES-2000（g/h/i/248nmおよびブロード光対応解析露光装置）
■UVES-2500
（g/h/i/248nmおよびブロード光対応レジスト感度評価露光装置）
■ArFES-3500LP（193nm対応解析露光装置）
■VUVES-4500mini（248・193nm対応解析露光装置）
■IMESq-5500（193nm液浸露光対応QCM解析装置）
■EBES-6000（電子線対応解析露光装置）
■EUVES-7000（EUV光対応解析露光装置）

■□■特徴■□■

■ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えて
オープン・フレーム露光が可能
■露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて
現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速

■その他機能や詳細については、カタログダウンロード　
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