株式会社ワイ・ドライブ
最終更新日:2016-05-01 10:01:08.0
波長285nm親水撥水処理パターン描画機(UVLED型)
基本情報波長285nm親水撥水処理パターン描画機(UVLED型)
波長285nmで親撥水処理パターン描画装置 波長285nmの表面改質露光・光源
1)有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。
ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。
2)インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します
・285nm高出力UVLED使用の安価光学系
・パターン幅200マイクロm ・描画域 100×100mm ・DXFファイル使用可
1)有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー
2)有機物の揮発除去には、活性化酸素が不可欠。
発生はフォトンエネルギー依存。285nmは約420kJ/molの
高エネルギーで有機物の除去に非常に有効です。
・耐紫外線劣化防止工法
次世代『プリンテッドエレクトロニクス』元年
多層・立体構造体を塗布工法で製作するプリンテッドエレクトロニクス ※アプリケーション会社様、設備会社様必見!
次世代「プリンテッドエレクトロニクス_元年」の準備は万端ですか?
JOLED株式会社様から塗布型有機ELパネルのサンプル出荷が始まれば、いよいよ次世代プリンテッドエレクロニクス元年の始まりです。
(株)ワイ・ドライブは、2016年に向けた新たな取組をスタートします。
※プリンテッドエレクロニクスとは・・・
印刷工法(プリント工法)で、電子デバイス(回路)を作成する技術です。
【2016年に向けた新たな取組】
■インクの吐出量±1%制御 ■インク着弾位置精度5μm
■極性溶媒インク化技術 ■インク乾燥後厚み計測
■親水撥水パターン描画処理 ■不吐出 ■DPN吐出制御
■メニスカス最適化 ■材料利用効率90%以上
■インク化技術と液滴計測
※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 (詳細を見る)
波長285nm親撥水処理パターン描画装置
1)有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。
ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。
2) インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します
・285nm高出力UVLED使用の安価光学系
・パターン幅200μm ・描画域 100×100mm
・DXFファイル使用可
(詳細を見る)
取扱会社 波長285nm親水撥水処理パターン描画機(UVLED型)
プリンテッドエレクトロニクス工法向け技術、電子機器の開発 インクジェット技術コンサルティング ■技術 プリンテッドエレクトロニクス。インク飛翔観察装置 カーボン系導電ペースト。285nmUVLED光源 デジタルサーボ制御 ARM系CPUでベクトル制御を実現 ■製品 インクジェット液滴・高精度飛翔観察装置 アナログ系混在電子回路 高速/高精度・各種駆動回路 インクジェット印刷機 CMYK4色/GEN5使用 プリンテッドエレクトロニクス用インクジェット塗布装置 ■インクジェットヘッド駆動基板 リコー社 GEN5ヘッド 京セラ社 KJ4A/B コニカミノルタ社 KM256LNB-DPN KM128SNG-MB など FujiFilm Dimatix SG1024、PQシリーズ など ■ARM系CPUによるデジタルサーボ制御基板 電流ベクトル制御プログラム(d-q座標変換)を3相PWMで実現 ARM系 CORTEX-M3シリーズ 各社のCPU対応
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