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最終更新日:2016-11-29 16:44:21.0

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  • カタログ発行日:2016/11/29

両面スクラブ洗浄装置(量産対応装置)

基本情報両面スクラブ洗浄装置(量産対応装置)

ワークの表裏面に触れずに表裏面と端面洗浄する装置

【装置概要】 研磨後のウエハを界面活性剤、純水スクラブで除去後、メガソニックシャワー、リンス、スピン乾燥の順で行う枚葉洗浄装置
【用途例】 研磨後洗浄装置

小径ウェハ(LT・SiC等2〜6インチ)両面同時スクラブ洗浄装置

小径ウェハ(LT・SiC等2〜6インチ)両面同時スクラブ洗浄装置 製品画像

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。

■表裏側面を同時に洗浄可能
■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等
■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談
■透明ウエハにも対応

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。 (詳細を見る

ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」

ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」 製品画像

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。

■表裏側面を同時に洗浄可能
■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等
■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談
■透明ウエハにも対応

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。 (詳細を見る

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。

■表裏側面を同時に洗浄可能
■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等
■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談
■透明ウエハにも対応

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。 (詳細を見る

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。

■表裏側面を同時に洗浄可能
■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等
■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談
■透明ウエハにも対応

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シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」 製品画像

各種ウェハの界面活性剤・純水スクラブ洗浄、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を1つのチャンバーで行う枚葉装置

◇ シングルチャンバーで完結する省スペース型
◇ Si(シリコン)、LT(リチウムタンタレート)やSiC(炭化ケイ素)他、
  各種ウェハに対応
◇ 異物(有機物・無機物)の除去、金属イオンの除去
◇ 洗浄項目・装置構成の変更に柔軟に対応

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取扱会社 両面スクラブ洗浄装置(量産対応装置)

株式会社テクニカルフィット

■各種装置の開発、製造、販売 ■各種装置に付帯関連する一切の業務

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