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最終更新日:2017/03/30

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株式会社FLOSFIA 会社案内

基本情報株式会社FLOSFIA 会社案内

京都大学で開発されたミストCVD法から始まった京大発ベンチャーです!

株式会社FLOSFIAは、酸化ガリウムデバイスやミストCVDに関する開発・
製造・販売などを行っている会社です。

当社ではミストCVD成膜技術を用いて既存技術が抱える課題を解決し、
さまざまなアプリケーションへの展開を目指しています。

お客様の事業化加速をトータルにお手伝いいたします。
是非一度ご相談ください。

【事業紹介】
■パワーデバイス事業
■成膜ソリューション事業

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社FLOSFIA『ミストCVD法技術』のご紹介

株式会社FLOSFIA『ミストCVD法技術』のご紹介 製品画像

『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、
成膜反応(CVD)させる技術です。

霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に
酸化物半導体薄膜を作製できます。

当技術は多くの結晶性酸化膜を成膜するのに適しており、これを応用展開
することで、太陽電池や燃料電池、有機デバイスなど様々な用途・産業分野
で利用することができます。

【特長】
■液体、特に水から作る
■ミストの状態で原料を成膜室に供給可能
■原料の安全性が高い
■真空ポンプが不要
■大面積化・低コスト・小型化・高いスループットが実現可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

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株式会社FLOSFIA

【事業紹介】 ■パワーデバイス事業 ■成膜ソリューション事業

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