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最終更新日:2017/09/29

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『MBE MOCVD SYSTEM』

基本情報『MBE MOCVD SYSTEM』

分子線エピタキシー装置/有機金属気相成長装置を多数掲載!

『MBE MOCVD SYSTEM』は、エピタキシー技術をベースに先端クラスの技術分野へ
貢献する株式会社エピクエストが発行する製品カタログです。

「MBE装置」をはじめ、「K-Cellシリーズ」や「MOCVD装置」などの
分子線エピタキシー装置/有機金属気相成長装置を掲載しています。

【掲載製品】
■MBE装置
■K-Cellシリーズ
■高温真空ベーキング装置/蒸着装置
■MOCVD装置
■液体原料供給CVD装置 など

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

標準型Kセル『THKC series』

標準型Kセル『THKC series』 製品画像

『THKC series』は、他社製のMBE装置にも取り付けられる
コンパチブルタイプのKセルです。

放出ガス及び不純物の低減を考慮した材料を選択。真空ベーキング炉により、
高温脱ガス処理を行います。

熱電対、るつぼ、反射板などの消耗部品は交換メンテナンスが容易です。

【特長】
■他社製のMBE装置にも取り付け可能
■コンパチブルタイプ
■放出ガス及び不純物の低減を考慮した材料を選択
■消耗部品の交換メンテナンスが容易
■納入の際、社内試験による昇降温データやアウトガス分析データを添付

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高温Kセル『THKC-1300H1/THKC-1900HI』

高温Kセル『THKC-1300H1/THKC-1900HI』 製品画像

『THKC-1300H1/THKC-1900HI』は、低放出ガス特性を実現するKセルです。

蒸発材料未投入にて、1500℃に加熱した場合10-8Paの真空度を保持します。
(当社、超高真空チャンバーにて測定)

また、放出ガスが少ないため、正確なフラックス測定が行え、高純度な成長が可能
なほか、高融点材料の蒸発源として、ご使用頂けます。

【特長】
■低放出ガス特性を実現
■正確なフラックス測定が行える
■高純度な成長が可能
■高融点材料の蒸発源として使用可能
(金属エピタキシャル、酸化物超伝導など)

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スーパーミニKセル『KC-1300-S』

スーパーミニKセル『KC-1300-S』 製品画像

『KC-1300-S』は、分析用途などに最適な超小型Kセルです。

真空槽内の寸法制約がある場合に適しています。

【特長】
■分析用途などに最適
■真空槽内の寸法制約がある場合に適している
■使用例:Cu,Al,Ag等の金属材料

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デュアルKセル『DSGC-1400SH』

デュアルKセル『DSGC-1400SH』 製品画像

『DSGC-1400SH』は、一つのポートで、二つの固体原料を供給できる
蒸発源です。(シャッター板二枚型)

【特長】
■一つのポートで、二つの固体原料を供給
■シャッター板二枚型
■使用例:Si、Be、他ドーパント材料

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Si用高温Kセル『THKC-1000H1』

Si用高温Kセル『THKC-1000H1』 製品画像

『THKC-1000H1』は、Si用として開発されたKセルです。

EBガンでは従来コントロールできなかった高精度(0.005~0.5Å/s)の
膜厚制御が可能です。

【特長】
■Si用として開発
■高精度の膜厚制御が可能

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『ECRラジカルセル』

『ECRラジカルセル』 製品画像

本製品は、極めて高密度プラズマ生成ができる独自の構造を採用した
『ECRラジカルセル』です。

先端部に設けられたイオン除去機構(磁場方式)により、
イオン除去が可能です。

【特長】
■極めて高密度のプラズマ生成が可能
■独自の構造を採用
■イオン除去が可能

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2000℃対応高温Kセル『JHKC-1000』

2000℃対応高温Kセル『JHKC-1000』 製品画像

『JHKC-1000』は、高融点金属の蒸発源として最適な高温Kセルです。

2000℃までの加熱が可能なほか、シュラウド型の水冷方式を採用しています。

【特長】
■高融点金属の蒸発源として最適
■2000℃までの加熱が可能
■シュラウド型の水冷方式を採用

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ガスセル『GC-1800SH』

ガスセル『GC-1800SH』 製品画像

『GC-1800SH』は、導入された各種ガス原料を、蒸発・昇華させて
分子線を発生させるガスセルです。

最高加熱温度は1300℃を有します。

【特長】
■導入された各種ガス原料を、蒸発・昇華
■分子線を発生させる
■使用例:AsH3,PH3等の半導体ガスや有機金属ガス等

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『114-70変換シャッター』

『114-70変換シャッター』 製品画像

『114-70変換シャッター』は、装置取付ポートがICF114の時、
シャッター無ICF70サイズのKセルに、シャッター機構を付加することができます。

【仕様】
■取付フランジ:ICF114
■セル導入口:Φ40mm
■シャッター機構:有(圧空駆動/手動)

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取扱会社 『MBE MOCVD SYSTEM』

株式会社エピクエスト

■装置販売 ・MBE装置・MOCVD装置・その他各種CVD装置・酸化装置 ■各種構成機器販売 ・Kセル・ラジカルセル・RHEED・その他真空機器 ■ソフト販売 ・自動成長システム・その他装置自動制御システム ■フィールドサービス ・各種装置のメンテナンス・その他

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