テレセントリックｆθレンズ仕様　ラスタースキャン型レーザ露光装置（小ロット高精細度露光用）テレセントリックｆθレーザ露光装置

プリンテッド・エレクトロニクス関連で、絶縁膜のパターン形成や金属パターン形成、ＭＥＭＳ形状のバンク・隔壁形成に、ポジレジスト・ネガレジストをマスクレスで直接露光する「レーザ露光機」です。テレセントリックｆθレンズとポリゴンミラーによる「ラスタースキャン型レーザ露光」で走査幅全域において高精度ビーム形状描画が可能。h線・i線を含む、レーザ波長 　375，405，650，780，830nmなど選択可能。レーザスポット径 　2μm（@405nm）10μm　22μm　30μm　等。分解能　～25,400dpi　～5,080dpi　～3,000dpi 等

感光性レジストの全般（半導体露光用レジスト各種、ポリイミドレジスト、感光性Ａｇ）に対応可能。

有機ＴＦＴのゲート絶縁膜、感光性Ａｇインク　等で電極形成。
インクジェット／フレキソ／スクリーン　等の工法で困難なパターン形状の作成が、容易に可能です
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超広視野共焦点型・高分解能１μｍ、微小欠陥検査レーザ走査イメージャ
従来の顕微鏡光学系やSEMなどは狭い領域を高解像度で観察できるが、広い領域を簡便に観察できない。この課題をレーザ走査イメージャが解決します。 50×50ｍｍ範囲を３Ｄ形状計測できる　計測時間：１μｍ分解能 約３５秒　5μｍ分解能 約１０秒　●計測幅：0.8μｍ 深さ：５nm
●最大45度傾斜で、形状測定が可。　●キズや深い穴の欠陥も検出可。

レーザ走査イメージャの特徴
・従来の顧微鏡やCCDカメラやラインセンサの欠点を克服した 新しい観察装置(照明装置がいらない)
・広い観察領域(顕微鏡の１００倍以上)と長いWDを持つ新開発専用走査レンス
・コントラストの高いレーザ共焦点方式光学ユニット
・レーザ共焦点顕微鏡光学系では初のラスター走査方式(長く大きな画像で大面積の画像を取得できる、マルチスキャン機能搭載)
・概略仕様
走査分解能が高い(1走査最大20000点)走査スピード4000ライン/秒
レーザはLD405nmを使用(650、830nmもあり)
・パソコンモニター上で拡大画像が見られる始めての装置です
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