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最終更新日:2018-06-14 14:25:53.0

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光焼成装置『PulseForge』

基本情報光焼成装置『PulseForge』

耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置

『PulseForge』は、独自開発の高出力キセノンランプの照射光を
精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、
乾燥、焼成させる装置です。

材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、
高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、
表面部だけを乾燥・焼成できます。

【特長】
■自由なパルスシーケンス形成
■独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能
■独自開発のソフトにて事前に処理結果を予見可能(独自設計ツールSimPulse)
■R&Dから迅速な量産への移行可能(R2R対応可)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】

光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】 製品画像

『PulseForge』は、独自開発の高出力キセノンランプの照射光を精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、乾燥、焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥・焼成できます。

【特長】
■自由なパルスシーケンス形成
■独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能
■独自開発のソフトにて事前に処理結果を予見可能(独自設計ツールSimPulse)
■R&Dから迅速な量産への移行可能(R2R対応可)

※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。 (詳細を見る

取扱会社 光焼成装置『PulseForge』

株式会社日立ハイテク

半導体製造装置、FPD・ハードディスク関連製造装置、汎用分析機器、解析装置、医用分析装置の製造・販売・サービス、および産業・ITシステム、工業材料、電子デバイス・材料などの販売

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