株式会社日立ハイテク
最終更新日:2018-06-14 14:25:53.0
光焼成装置『PulseForge』
基本情報光焼成装置『PulseForge』
耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置
『PulseForge』は、独自開発の高出力キセノンランプの照射光を
精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、
乾燥、焼成させる装置です。
材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、
高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、
表面部だけを乾燥・焼成できます。
【特長】
■自由なパルスシーケンス形成
■独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能
■独自開発のソフトにて事前に処理結果を予見可能(独自設計ツールSimPulse)
■R&Dから迅速な量産への移行可能(R2R対応可)
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】
『PulseForge』は、独自開発の高出力キセノンランプの照射光を精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、乾燥、焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥・焼成できます。
【特長】
■自由なパルスシーケンス形成
■独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能
■独自開発のソフトにて事前に処理結果を予見可能(独自設計ツールSimPulse)
■R&Dから迅速な量産への移行可能(R2R対応可)
※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。 (詳細を見る)
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