【技術データ】はっ水・離型性を高める表面処理の“真空蒸着技術”

『真空蒸着技術』とは、薄膜原料を真空中で加熱・蒸発させ、基材表面で凝縮・固化させることにより、薄膜を形成する技術です。凹凸のある製品に適した表面処理技術です。
カツラヤマテクノロジーでは、フッ素系高分子を原料とし、プロセス全体の最高温度が50℃と低温で処理できることから基材への熱影響を抑えた表面処理を受託加工で行うことが可能。特殊技術で生産性の向上と薄膜の均一性を実現！用途に応じて膜厚を５nｍ～４５nｍまでの選択も。

進呈中の『NANOS』技術データでは、性能や応用例、表面処理の比較などを図や表を使って分かりやすく解説！薄膜が数ナノメートルから数十ナノメートルと極めて薄く、かつ処理温度も低いことから高精度を要求される微細加工分野への適用も可能です。

弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

※技術データをご希望の方はダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。 （詳細を見る）

カツラヤマテクノロジーの真空蒸着処理では膜厚10～20nmのフッ素薄膜を
金属やガラスに処理を行うことで基材表面に撥水性、撥油性、防汚性、離型性などの効果を付与させます。

効果確認用の小規模試作から実際の製品などで使用する為の量産までお受けすることが出来ます。


[特徴]
・処理する膜厚が10～20nmと非常に薄い膜となっており、金型などへ処理する場合に基材の寸法への影響を与えにくい
・深さ方向にはアスペクト比5まで対応(穴径1に対して深さ5)
・基材サイズ最大700mm□まで対応
・無色透明の薄膜で光学部品にも光学影響を抑えることが出来る



[主な採用実績]
・半導体封止用金型の離型処理
・導光板、偏光板用Ni電鋳スタンパ金型への離型処理
・業務用複写機の読み取り用ガラスへの防汚処理
・業務用インクジェットプリンターヘッドへの撥インク処理
・半導体研磨装置部品の防汚処理(スラリーの付着防止) （詳細を見る）