日本エム・ケー・エス株式会社
最終更新日:2018-07-24 17:18:47.0
『R*evolution V』
基本情報『R*evolution V』
ON-WAFER処理のためのインテリジェントプロセスコントロール
『R*evolution V』は、実績のある低磁場トロイダルプラズマ技術、
高度な通信機能、高精度パワー制御機能を一体化した製品です。
当シリーズのリモートプラズマソースは、フォトレジストストリップや
様々な表面処理など、酸素ラジカルベースのアプリケーションに適しています。
またEtherCAT通信プロトコルにより、クリティカルなプラズマソース動作
パラメータをプロセスツールや工場ネットワークへほぼリアルタイムに
情報提供することを可能としています。
当製品は、プロセスツールの高稼働率を維持するためのプロセスパラメータの
モニターや変更と稼働状況診断 (APC/FDC) アプリケーションをサポートする
ための情報をプロセスツールや工場データベースへ流通させることができます。
【特長】
■チャンバに直接設置できる機能内蔵一体型ユニット
■高密度酸素系プラズマ用石英アプリケータ
■最大6kWの出力
■高い出力再現性
■高精度出力コントロール<1%
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『R*evolution V』
『R*evolution V』は、実績のある低磁場トロイダルプラズマ技術、
高度な通信機能、高精度パワー制御機能を一体化した製品です。
当シリーズのリモートプラズマソースは、フォトレジストストリップや
様々な表面処理など、酸素ラジカルベースのアプリケーションに適しています。
またEtherCAT通信プロトコルにより、クリティカルなプラズマソース動作
パラメータをプロセスツールや工場ネットワークへほぼリアルタイムに
情報提供することを可能としています。
当製品は、プロセスツールの高稼働率を維持するためのプロセスパラメータの
モニターや変更と稼働状況診断 (APC/FDC) アプリケーションをサポートする
ための情報をプロセスツールや工場データベースへ流通させることができます。
【特長】
■チャンバに直接設置できる機能内蔵一体型ユニット
■高密度酸素系プラズマ用石英アプリケータ
■最大6kWの出力
■高い出力再現性
■高精度出力コントロール<1%
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る)
取扱会社 『R*evolution V』
半導体、FPD、バイオ医薬、医療、その他の最先端生産技術プロセスの重要なパラメータを制御する計測機器、コンポーネントおよびサブシステムを提供しています。幅広い製品ラインナップ、世界最高水準の性能とノウハウで生産性向上へのトータルソリューションを提供しています。 真空計、圧力制御機器、ガス流量制御機器、RGA、プロセスモニター、FTIR、真空バルブ、真空配管用ヒーター、トラップ、RF電源、DC電源、反応性ガス発生器、マイクロ波電源、多変量解析ソフトウェアの製造・輸入・販売・サービス。
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