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最終更新日:2018/08/30

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成膜装置『CAT-CVD装置』

基本情報成膜装置『CAT-CVD装置』

100℃以下の低温での膜形成が可能!太陽電池の製造を目的とした成膜装置

『CAT-CVD装置』は、太陽電池の製造を目的とした成膜装置です。

CVD(触媒化学気相堆積法)は原料ガスを加熱触媒体線に吹き付け、
接触分解反応により低温成膜が可能。

原料ガスと触媒体線材料の選定により多種多様な薄膜を堆積できます。

【特長】
■原料ガスの分解効率が高く(SiH4で95%)高速堆積が可能(a-Si膜で10nm/s以上)
■荷電粒子による基板および堆積膜自体への損傷がない
■100℃以下の低温での膜形成が可能
■緻密な膜が形成可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

成膜装置『CAT-CVD装置』

成膜装置『CAT-CVD装置』 製品画像

『CAT-CVD装置』は、太陽電池の製造を目的とした成膜装置です。

CVD(触媒化学気相堆積法)は原料ガスを加熱触媒体線に吹き付け、
接触分解反応により低温成膜が可能。

原料ガスと触媒体線材料の選定により多種多様な薄膜を堆積できます。

【特長】
■原料ガスの分解効率が高く(SiH4で95%)高速堆積が可能(a-Si膜で10nm/s以上)
■荷電粒子による基板および堆積膜自体への損傷がない
■100℃以下の低温での膜形成が可能
■緻密な膜が形成可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

取扱会社 成膜装置『CAT-CVD装置』

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